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文档简介

CVD 1100设备工作原理 1 CVD 1100型等离子化学气相沉淀设备主要有以下几个部分组成 1 真空系统 泵组部分 2 淀积部分 3 特气系统 4 射频系统 原理图如下所示 一 设备构成 1 真空系统 如上图所示 真空系统主要由一系列泵和波纹管及阀门等组成 主要作用是 维持淀积腔室真空状态 保持腔室压力稳定 及时抽走反应生成的颗粒 硅粉等 2 淀积部分 此部分主要包括沉积炉和工件架 主要作用是淀积所需膜质沉积温度 200 230 沉积压力 0 5 1Torr 50 133Pa 3 特气系统 主要有管道和电磁阀组成 主要作用是提供成膜所需要的特气及吹扫腔室的气体 反应气体 Ar CH4 B2H6 H2 SiH4 GeH4 PH3清洁气体 NF3吹扫气体 N2质量流量计量程 TMB 三甲基硼C3H9B PH3 GeH4 4000scmAr CH4 SiH4 15000scmH2 30000scm 4 射频系统 主要由RF射频电源柜组成 18分立电源控制18个电极 可对单个电极进行调节 二 工作原理 1 真空系统工作原理 2 沉积工作原理 在沉积腔室一定的低真空状态下 通入反应气体 待气流稳定后 打开射频电源对反应气体进行电离 进而生成所需要的膜质 反应流程如下所示 三 日常维护 每日操作人员需对沉积炉 泵 循环水 特气
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