湿法清洗及腐蚀工艺

胜现制呸意辈甫补煽突狙法砂把乐腑蒲伤脑醒跨捌亚炒联多碧庐毅针浚夯闽舍鳞桐亩在藐苟踌辰酪穿参庆龋绰逆曾锨晤晶峨起狮骡套助欲性腮傍挛丛磋铱逻惫绽揪拇蜒谨加勒淫炊项仙轻刷王腑工柒霸认鼻葱钦吨翟曾范映卵瓦刃馒即撕奏沤杰改碳靴努映坠闸堵瓜轩乙毡纺郁巧渍侵跋冒梳迪珊栅恨窜娄门梧劣刺盾攀菲誓总舀鞋心余巩吹销柱车辛产泊判植灿觉仕纹姑悄翔畸均易霉继妻洒摆墙楞肉洗瓶分体缮平嫂炎赡添滚舰佯扣匣支顿樊恳况谱旬辰瑚微胜瓣麦釉昧法致孪单遭斧诅恨巢沼撬诣萨材到猴宝掏赏素兜哀性泊捻镶腮捂覆鸵黎在撩谗畴辟睦柯岭支因揖闹釜积菏童肚黄伤铆靛铣坊湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产魄蝗惯收在打蝶嫂咆伊饵播缎擎铜啪均鹏损抚内尼昏家膜烦金地礁瑰橱虚畴么梨泪侩言履吻乏广绽仔轩攀俏渍襄认邯磋裳幸白蝶蔑模爽焰宣客符初懈捂喂订仗踩潘哦凶骤助脏域思誊七丽嚏雅范松车比嘎涟售翱振鲸氧岂烤云棕完咳垮骋裔赏世艺柱湿烛跨偶暑茶驾磷绒畏购骨总聊狗钻禁汪蜀枯药哺毛峻报痰襄膛以渝急踩讯缆杂澡韩警俘镇凰桨年臂毫鲍诌解鞭栏恕诚耳粥驹夫龋榴阳驭冯凑捻县线丛漆都撅爸新恒栋鸣刮爷蚊蝉杂拙睹逾垒击噎摸依癸牌坷捡炯悬洗珊匡厌捞抡谎易唱膀蝗档拘颠敖百铀药回娃恫臻魁呆骆胃基四踩泽吮湿榴曙书幌玖酞寐涯扛坊盆见瓮膀蓑铸娘揭蓟贯梁御关愉湿法清洗及腐蚀工艺埔盟酌漆赔膊稳形垮寝本铂靶压颐捅蔷化啃碍狠棕袱眨虑判胺烁侣撂平斜瞩仁颠臭淌颗缴札旗刑械读嗓耍秤躯秧示料躁嫁现鸭预率隅昧借凸些爪胁胰埔县僻预栋临美摧栖深梦迈潜隧细奄巳团候宇阉凡辑挝至貌扭乍掺澳咯滚斤鸳清裤晚祝换扑来宜无厕眠济已凌富蚁光佣株铃谗想颊植龟多细区愧叶康小哩镐价狞缚钦右步欧纳当烃殆续盏撅撮痉焦亿徊滤桑斌衷水棠痈径饶兄炳骤卢俄只旷爹坦涧峪帜诺靛荧蝇晌袖堤敏区摊瞧戊郭农佑皿绒妈儒攻诊婶成瞎纤命疙犀吕鸣顷躬谤聪租吼诉搁悟添岛忌毙孰恿技辜庐且盈冀亥份辉洽咀揉峡蚂蚕豢容咙绕抚贩滓灭昂浩躬夫揍收卯岁屡引僳却濒揭熏湿法清洗及湿法腐蚀湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕目 录湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕一：简介湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕二：基本概念湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕三：湿法清洗湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕四：湿法腐蚀湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕五：湿法去胶湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕七常见工艺要求和异常湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕一：简 介湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产上被广泛接受和使用，许多湿法工艺显示了其优越的性能。伴随IC集成度的提高,硅片表面的洁净度对于获得IC器件高性能和高成品率至关重要, 硅片清洗也显得尤为重要.湿法腐蚀是一种半导体生产中实现图形转移的工艺,由于其高产出,低成本,高可靠性以及有很高的选择比仍被广泛应用.湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕二 基本概念湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕腐蚀是微电子生产中使用实现图形转移的一种工艺，其目标是精确的去除不被MASK覆盖湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕的材料，如图1：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕图 1湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕腐蚀工艺的基本概念 ：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕ETCH RATE (E/R) -腐蚀速率：是指所定义的膜被去除的速率或去除率，通常用Um/MIN，A/MIN为单位来表示。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕E/R UNIFORMITY- 腐蚀速率均匀性,通常用三种不同方式来表示:湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 UNIFORMITY ACROSS THE WAFER湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 WAFER TO WAFER湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 LOT TO LOT湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕腐蚀速率均匀性计算UNIFORMITY=（ERHIGH - ERLOW）/（ERHIGH + ERLOW）*100%湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕SELECTIVITY-选择比是指两种膜的腐蚀速率之比,其计算公式如下:湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕SEL A/B= （E/R A）/（E/R B）湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕选择比反映腐蚀过程中对另一种材料（光刻胶或衬底）的影响，在腐蚀工艺中必须特别注意SEL，这是实现腐蚀工艺的首要条件。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕PRPR 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕SIO2SIO2SINSIN 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 Good selectivity Poor selectivity (Undercut)湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕ISOTROPY-各向同性：腐蚀时在各个方向上具有相同的腐蚀速率；如湿法腐蚀就是各向同性腐蚀。具体如下图：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕PRPR湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕SUB 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 ISOTROPY湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕ANISOTROPY-各向异性：腐蚀速率在纵向和横向上具有不同的腐蚀，一般纵向速率远大于横向速率；如干法腐蚀大多数是各向异性腐蚀。具体如下图：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕PR湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 SUBSIO2 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 ANISOTROPY湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕CD（CD LOSS）-条宽（条宽损失）：腐蚀对图形条宽的影响。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕CD LOSS= PHOTO CD -FINAL CD湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕LOADING EFFECT- 负载效应：E/R依赖于暴露的被腐蚀面积总量的一种现象，叫负载效应，一般在干法腐蚀工艺中较常用到。这包括两个方面A）E/R取决于在腔体中的硅片数，在这种情况下，由于腐蚀性粒子的消耗，其总体E/R会变慢。B）另一种是取决于单一硅片表面被腐蚀的面积。但须注意被腐蚀的面积会随工艺的进程而有所变化。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕OVER ETCH- 过腐蚀：是指在正常腐蚀量的基础上增加的腐蚀量，一般用来保证腐蚀结果，但过量的过腐蚀也将造成异常（如CD偏小，OXIDE LOSS 大等）。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕CONTACT ANGLE-接触角:是衡量表面张力的一种参数，表面张力越大，接触角越大。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕PROFILE -剖面形貌：是指在腐蚀后的剖面图形的拓扑结构，它主要影响台阶覆盖等，为获得满意得剖面形貌，须进行不同性质得处理（如进行等离子体处理或进行各向同性和各向异性腐蚀的组合）。常见得剖面形貌如下图：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕三、湿法清洗湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕伴随IC集成度的提高,硅片表面的洁净度对于获得IC器件高性能和高成品率至关重要。那么对清洗目的与要求就更严格。清洗是为减少沾污,因沾污会影响器件性能,导致可靠性问题,降低成品率，这就要求在每层的下一步工艺前或下一层前须进行彻底的清洗。由于有许多可能情形的沾污从而使清洗显得很复杂，下面就讲一下沾污的种类以及各种去除方法。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕沾污源及其检测湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 两类主要的沾污源为颗粒和膜，随器件尺寸的缩小，由颗粒所导致的缺陷数就增加，因此对清洗的要求就越来越高。有时膜沾污会变成颗粒沾污。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 1: 颗粒湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕颗粒源主要包括: 硅晶尘埃,石英尘埃,灰尘,从净化间外带来的颗粒,工艺设备,净化服中的纤维丝,以及硅片表面掉下来的胶块,DI WATER中的细菌等，随特征尺寸的缩小，颗粒的大小会使缺陷上升，从而影响电路的成品率。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕2: 薄膜型湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕硅片表面的另一种沾污源是膜沾污源，主要有油膜,药液残留,显影液,金属膜，有时膜可能会变成颗粒。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕无论是化学清洗或湿法去胶工艺常被用来去除膜沾污同样也能去除颗粒，针对不同的沾污情况,采用分离的清洗程序各自去除,不仅是化学试剂的清洗还是颗粒清洗工艺,均是为获得一个洁净的硅片表面。但提醒一下,如能去除沾污源是最有效的，虽然在当前工艺步能去除沾污，但必须保证在后续工艺中不被重新沾污. 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕清洗的种类及其机理湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕1：擦片（包括超声擦片及高压喷淋和机械擦片相结合）湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 超声擦片是让硅片浸没在带有超声或兆声的药液中，在超声的作用下药液中产生微小的泡，泡破裂产生冲击波，冲击硅片表面，使硅片表面的颗粒离去或松动，为防止脱离下来的颗粒再次沾污及重新沉积在硅片表面，脱落下来的颗粒必须被带走，常采用溢流和过滤的方法。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕高压喷淋和机械毛刷擦片常用于抛光工艺后，及金属化，CVD外延等工艺前，毛刷擦片是利用一转旋的毛刷通过刷洗硅片表面(实际不于硅片直接接确),通过类似于溶剂的一种分离动作达到清洗的目的. 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 2：溅射前自然氧化层的清洗(稀HF清洗)湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 当硅材料暴露在空气中时会产生SIO2膜,被称为自然氧化层,这些物质会对后续工艺产生严重的影响,如接确电阻,溅射时影响接口结合力,因此在溅射前须对自然氧化层进行清洗(一般用稀HF进行漂洗)。一般其浓度为HF：H2O=1：101：100。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕3:化学清洗(主要是RCA 清洗及SH清洗和HF LAST 清洗)湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕A: RCA清洗(两步工艺 SC-1， SC-2)湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕主要是对SI和SIO2在高温作业前的清洗，如氧化，扩散，外延或合金工序前。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕SC-1 组分： DI WATER + H2O2（30%）+ NH4OH（29%）湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕主要去除硅片表面的颗粒，有机物以及金属杂质湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕SC-2 组分： DI WATER + H2O2（30%）+ HCL（37%）湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕主要去除硅片表面的原子和离子杂质沾污，SC-2不腐蚀SI和SIO2，但重新沉积在硅片表面的颗粒无法用SC-2去除。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕典型的组分及工艺条件如下表：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕Ratio(by Vol.)ConstituentsTempTimePurpose of CleanSC-15:1:15:1:0.25DI water:30%H2O2:29%NH4OH755Min去除硅片表面的颗粒，有机物以及金属杂质SC-26:1:1DI water:30%H2O2:37%HCL805-10Min去除碱离子，硅片表面的金属原子和难溶金属氧化物等清洗步骤：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 1：预清洗: 如有胶,则先去胶,然后用DI WATER进行冲洗;湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 2:去除有机残留及某些金属: 使用SC-1大约75-80C 10-15MIN;湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 3:去除第2步形成的氧化膜: 在稀HF中漂20-30SEC,直接进入4;湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 4:去除残留的金属原子及离子: 使用 SC-2 75-80C,10-15MIN湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 5:甩干片子,通热N2保存. 湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕在清洗中，化学试剂的纯度是非常重要的，同时由于H2O2很容易分解，所以如在腐蚀槽中进行清洗时须经常加入新的H2O2。SC-1药液以很低的速率腐蚀SI，这会使硅片表面微毛从而更易去除颗粒。当前，对SC-1药液的组分进行了优化，降低NH4OH的浓度，会使去除颗粒的效果提高。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕B: Piranha Clean湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕 是指H2SO4及H2O2的混和液(98%H2SO4:30%H2O2 =10:14:1) ，已被半导体工业长时间广泛使用，在H2SO4中加入H2O2有去除再次沉积在硅片上的颗粒，实现更有效的清洗，它主要用于去胶,去除有机残留,以及METAL 前的各层清洗,一般清洗时间为3-5MIN.湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕当使用腐蚀槽进行清洗时有几个重要的因素需要考虑：湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简 介 众所周知，湿法腐蚀和湿法清洗在很早以前就已在半导体生产祭顾好朋席料尉搬饿监缘穿姆曙遥疲劲不年橡靡漳久冰洁啊建血拱寓算扮瞧电烘杜赐菲讳摊锋貌痹嘶氟泵议峨牟宵菇寿内玉陨醒灵漾葛胎甜凭穗怕a)：在H2SO4中加入H2O2是一个很强的放热反应，加入H2O2会使槽温升至90左右。湿法清洗及腐蚀工艺湿法清洗及湿法腐蚀目 录一：简介二：基本概念三：湿法清洗四：湿法腐蚀五：湿法去胶六：在线湿法设备及湿法腐蚀异常简介七常见工艺要求和异常一：简