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文档简介

.,版图基本知识,MOS器件简介,2009年11月25日,.,.,目录,工艺简介工艺流程介绍工具介绍版图设计规则版图设计流程小结,.,工艺简介,现有的IC工艺主要分为两大类，分为模拟工艺和数字工艺。模拟工艺主要以双极器件为主，它的做法是在晶元上生长外延，在外延上制作双极器件完成电路功能，可以称为BIPOLAR工艺。另外由CMOS工艺也可以制造模拟电路。数字工艺主要以CMOS器件为主，它的做法是在衬底上直接做出MOS管，和在衬底上扩散出阱，在阱内做出MOS管，完成电路功能。,.,工艺简介,随着设计的要求和发展，数模混合电路大量应用，BiCMOS工艺被开发出来并大量应用。BiCMOS工艺顾名思义，这种工艺中既包含Bipolar器件，也包含CMOS器件。常见的BiCMOS工艺一般都基于CMOS工艺，利用CMOS工艺中存在的阱、有源等，寄生出电路所需的的双极管来。,.,I.工艺流程介绍,现有的IC工艺主要分为：CMOS工艺BIPOLAR工艺BICMOS工艺下面简单介绍CMOS工艺,.,层次申明：,注：我们在这里指出各个层次说明是为了更好的对下面的实例进行分析,.,CMOSTransistorIntroduction,.,MOS(Crosssection),Thecrosssectionofmos,.,Layout,Layoutofcmostransistors,.,工具介绍,我们现阶段主要使用的版图软件有基于PC的chiplogic、Tanner公司的L-edit、基于Cadence的Virtuoso,.,virtuoso使用流程,登录到工作站创建版图库、版图单元确立相关技术文件以及配置,.,virtuoso常用快捷键,放大ctrl+z缩小shift+z画线p画矩形r画多边形shift+p插入单元i显示属性q拉伸s,.,virtuoso常用快捷键,复制c取消操作u撤销取消操作shift+u移动m标尺k合并shift+m剪切shift+c取消选中ctrl+d标注labell,.,版图设计规则概念设计规则种类,版图设计规则,.,集成电路的制造收到工艺水平的限制，受到器件物理参数的制约，为了保证器件正确工作和提高芯片的成品率，要求设计者在版图设计时遵循一定的设计规则（designrule），这些设计规则直接由流片厂家提供。设计规则是版图设计与工艺之间的接口。,版图设计规则概述,.,设计规则,设计规则主要包括最小宽度，层与层之间的最小间距等等。,.,版图设计流程,项目下达,照片分析,工艺选择,方案评估,版图绘制,资料准备,工艺确认,文
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