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文档简介

CVD-1100设备工作原理,CVD-1100型等离子化学气相沉淀设备主要有以下几个部分组成：1.真空系统（泵组部分），2.淀积部分，3.特气系统，4.射频系统。原理图如下所示：,一、设备构成,1、真空系统,如上图所示,真空系统主要由一系列泵和波纹管及阀门等组成，主要作用是：维持淀积腔室真空状态，保持腔室压力稳定，及时抽走反应生成的颗粒（硅粉等）。,2、淀积部分,此部分主要包括沉积炉和工件架，主要作用是淀积所需膜质沉积温度：200-230沉积压力：0.5-1Torr(50-133Pa),3、特气系统,主要有管道和电磁阀组成，主要作用是提供成膜所需要的特气及吹扫腔室的气体。反应气体：Ar、CH4、B2H6、H2、SiH4、GeH4、PH3清洁气体：NF3吹扫气体：N2质量流量计量程：TMB（三甲基硼C3H9B）、PH3、GeH4:4000scmAr、CH4、SiH4：15000scmH2:30000scm,4.射频系统,主要由RF射频电源柜组成，18分立电源控制18个电极，可对单个电极进行调节。,二、工作原理,1.真空系统工作原理,2.沉积工作原理,在沉积腔室一定的低真空状态下，通入反应气体，待气流稳定后，打开射频电源对反应气体进行电离，进而生成所需要的膜质。反应流程如下所示：,三、日常维护,每日操作人员需对沉积炉、泵、循环水、特
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