液晶滴下式注入(ODF)介绍ppt课件

單位:2LCD工程一部報告者:林吉宏,液晶滴下式注入(ODF)介紹VLA-7000C,1,報告內容大綱,*裝置構成及各部機構介紹*製程主要參數*ODF製程相關不良,2,ODF注入方式介紹,3,裝置構成(VLA-7000C),LC滴下部,對位/組立部,框膠硬化部,4,LC滴下部:Dispenser,Dispenser構成:,Dispenser作動程序:,DispenserLayout:,SupplyValve,LimitValve,Plunger,Syringe,LCbottle,Nozzle,Filter,SupplyValveOpen,Plunger上升至原點(補充LC),SupplyValveOff,LimitValveOpen,Plunger步進下降(LC滴下),Plunger下降至LC滴完位置,LimitValveOff,5,Dispenser精度及LC比抵抗維護,精度:,LC比抵抗:,*液晶移載方式*Dispenser存放環境*Parts清潔組立程序,*LC脫泡程序*Dispenser脫泡程序*精度確認(0.5%),6,LC滴下Pattern及SealPattern,SealPattern:,LCPattern:,Pattern設計重點:1.頭尾結合點位置點2.MainsealtoBM距離3.Dummytomainseal距離,LCpattern設計重點:1.滴下點至mainseal距離(25-30mm)2.滴下點間間距:(30-40mm)3.滴下點大小:(80-100Pulse),7,LC滴下MARGIN,8,對位組立部機構:,CFTFT,靜電chuck,M,LOADCELL,C,C,真空CHAMBER,加壓機構,9,ESC靜電吸著板構造,A電極,B電極,TOPVIEW,10,對位組立程序說明:,Chamber上蓋下降,ESCON-同壓配管ON,CHAMBER抽真空,真空度1pa時-上ESC下降執行粗對位,真空度0.8pa時-上ESC下降至微對位置,執行微對位,加壓力,對位完成-最終加壓力,脫離除電-真空開放(N2Purge)大氣加壓保持,Chamber上蓋上升,UVseal硬化製程,11,對位組立製程主參數及設備ISSUE:,*壓合STEP/壓合壓力*靜電ESC施加電壓值*電壓Type(A-/B)及電壓施加時機*Chamber真空度*ESC靜電消除電壓值及電壓施加時機.,製程主參數:,設備MainIssue:,*Chamber真空度維護*上下ESCStage平面度及平行度維護*ESCMaintenance*製程Tacttime,12,UV照射部構造,基板,DUVcutfilter,IRcutfilter,Mirror,UVLamp,13,*UV波長cut(300nm以下cut).*UV照射強度(80160mw/cm2).*UV照射能量(SEAL種類:協立,三井).*UV照射照度/照射時間(段階,積算光量)*UV照射均勻性(20%以下).,UV照射部相關參數:,14,ODF製程相關不良(1):,靜電chuck平行度:SPEC15umchamber真空度Seal斷膠/貫通/局細/剝離等異常,Bubble:,AirBubble:,VacuumBubble:,液晶滴下量不足PS高度異常Dispenser精度,15,ODF製程相關不良(2):,GravityMura:,LCDispenser精度管理:0.5%LCquantityV.S.PSheightPSDensity,ODF相關sealdefect:,SealinBM:結合點,塗佈Shift,膠寬過大Mainseal異物壓寬:ESC上異物LC貫穿:滴下點至mainseal距離,ESC平坦度/平行度空氣貫穿:斷膠,框膠局細,UV硬化前置時間過長Seal剝離:ESC靜電殘留,真空壓殘留,16,ODF製程相關不良(3):,ESC除電不完全:除電時間同壓配管閥動作不良:同壓配管內殘壓影響對位完成基板基板PURGE壓力高or流量大:PURGE壓力,流量調整對位SOFT不良:對位完成後再補正ESC和基板吸著力不足:ESC電壓/STAGE平行度UV照射前基板移載不良,Mis-assembly:,17,ODF製程相關