曝光工艺流程示意图_第1页
曝光工艺流程示意图_第2页
曝光工艺流程示意图_第3页
曝光工艺流程示意图_第4页
曝光工艺流程示意图_第5页
已阅读5页，还剩3页未读， 继续免费阅读

下载本文档

版权说明：本文档由用户提供并上传，收益归属内容提供方，若内容存在侵权，请进行举报或认领

文档简介

.,玻璃盖板CoverLens,ITO氧化铟锡,PR,PR,ITO氧化铟锡,.,8486302200制造平板显示器用物理气相沉积装置在来料玻璃盖板表面镀一层ITO导电膜(氧化铟锡)用于导电，如图中黄色示意部分,真空镀膜机,玻璃盖板CoverLens,镀膜,.,在镀过ITO(氧化铟锡)的玻璃表面均匀涂布一层感光光阻材料(PR,如图中蓝色示意部分)，然后再进行烘烤,涂布机,涂布,.,8486303900其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置(制造平板显示器用的机器或装置)将掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上,曝光机,UV灯,掩膜版,曝光产品,曝光,.,UV光透过掩膜版，照射到曝光产品的感光光阻表面，掩膜版上透明的部分，UV光可以透过并照射到感光光阻上，使光阻产生反应。掩膜版上黑色不透明的部分，UV光无法透过，故此部分的光阻不产生反应。从而使掩膜版上的电路图图案，投影到涂布在ITO玻璃表面的感光光阻(PR)上。,UV灯,掩膜版固定位置,曝光产品固定位置,UV灯,掩膜版,曝光产品,曝光,被照射部分,.,8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将显影液喷淋到曝光后的产品表面，显影液会将被UV光照射发生反应的感光光阻溶解掉，从产品表面去除，留下未被UV光照射的部分，保留在产品表面,显影机,显影,显影（显影机）,曝光后产品,被曝光部分,未被曝光部分,PR,.,蚀刻,蚀刻（蚀刻机）,8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将蚀刻液喷淋到显影后的产品表面，蚀刻液会将未被感光光阻PR覆盖部分的ITO蚀刻掉，留下被感光光阻PR覆盖保护的部分，保留在产品表面,蚀刻机,显影后产品,未被曝光部分,PR,.,ITO氧化铟锡,剥膜,蚀刻后产品,剥膜（脱膜机）,8486304900其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置将脱膜液喷淋到蚀刻后的产品表面，脱膜液
人人文库> 全部分类> 教育资料 > 课件下载

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明，都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等，如果需要附件，请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸，网页内容里面会有图纸预览，若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间，仅对用户上传内容的表现方式做保护处理，对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑，并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容，请与我们联系，我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

最新文档

评论

0/150

提交评论