碳化硅陶瓷ppt课件

碳化硅陶瓷，1、目录、发展简史、主要成分、制备方法、特点和应用结论，2、简介，随着科学技术的发展，特别是能源、现代国防、航天技术、汽车工业和海洋工程的快速发展，对材料的要求越来越高。这些领域不仅要求工程材料具有良好的机械性能，而且要求它们具有良好的物理性能。碳化硅陶瓷因其优异的高温力学性能和耐化学腐蚀性能而得到越来越广泛的应用。3.发展简史。碳化硅(SiC)最初用作磨具、磨料和耐火材料，后来发展成为加热元件硅碳电阻棒的原料。直到20世纪中叶，尤其是20世纪70年代以后，碳化硅的独特性质才逐渐被人们所认识。由于它具有耐高温、耐磨、耐腐蚀和高导热的特点，所以得到了越来越多的应用和广泛的应用。作为一种新型的精细陶瓷材料，它受到了极大的关注。4、主要成分，它以碳化硅为主要成分的陶瓷，绿色碳化硅，黑色碳化硅，结构，5、它是共价化合物，具有金刚石的结构，SiC没有熔点，纯碳化硅在大气压(28002880)摄氏度下分解时是无色透明的，因为它含有游离碳、铁、硅等杂质，呈淡绿色或黑色。它具有优异的抗氧化性，并且在1550摄氏度下仍具有良好的抗氧化性，但是氧化膜在(800-1140)摄氏度下是松散的，并且不能起到保护作用。纯碳化硅是绝缘体，但是当使用杂质时，电阻率大大降低。它具有高导热性，可用作热交换器。碳化硅的合成及意义6、超细碳化硅纳米粉体的合成方法：以自制树脂热解碳为碳源，纳米二氧化硅微粉为硅源，在微波炉中合成。原料配比：根据反应配方，过量碳10%，以降低产品中的氧含量。准确称取纳米二氧化硅和树脂进行热裂解，以无水乙醇为介质球磨24小时，干燥，压制成型，在氮气下的微波炉中烧结，烧结温度为1300-1500，烧结时间为10-20分钟。含义：陶瓷粉末颗粒越小，烧结陶瓷的强度越高，这可能表现出一些独特的性能，也可用作大颗粒的添加剂，以提高系统的密度驱动力。7、制备方法，SiC存在于陨石中，几乎不存在于自然界。因此，工业用碳化硅粉末是热合成的。碳化硅工业生产的主要方法是用石英砂(二氧化硅)和焦炭(碳)直接通电还原(在电阻炉中)，温度通常在1900以上，此时的化学反应是：二氧化硅3C=碳化硅2CO，8。表1:碳化硅陶瓷的烧结方法和物理性能。目前，制备高温碳化硅陶瓷的主要方法有无压烧结、热压烧结、热等静压烧结、反应烧结等。9.常压烧结被认为是碳化硅烧结最有前途的烧结方法。常压烧结法可以制备尺寸大、形状复杂的碳化硅陶瓷制品。热压烧结可以降低烧结温度，获得致密、高抗弯强度的碳化硅陶瓷。然而，热压工艺效率低，并且难以制造具有复杂形状的碳化硅部件。热等静压烧结可以获得形状复杂、力学性能良好的致密碳化硅制品。然而，由于热等静压烧结必须封装饼干，目前很难实现工业化生产。反应烧结生产工艺成熟，产品性能稳定。生成的反应烧结碳化硅的密度大于3.02克/立方厘米。目前，国内对此类产品的需求很大，市场前景良好。碳化硅陶瓷具有优异的高温力学性能，抗氧化能力强，耐磨性好，热稳定性好，热膨胀系数小，导热系数大，硬度高，抗热震性好然而，碳化硅陶瓷难以烧结，其制造工艺复杂，生产成本相对昂贵。因此