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文档简介

1、脉冲激光法沉积薄膜实验Exp eriment for fllm dep osition by p ulsed laser原理：是一种真空物理沉积工艺是将高功率脉冲激光聚焦于靶材表而，使英产生高温及烧 蚀，而产生髙温高压等离子体，等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积形成薄膜。1.激光与靶材相互作用产生等离子体等离子体是由大量自由电子和离子及少量未电离的气体分子和原子组成，且在整体上表现为 近似于电中性的电离气体。等离子体=自由电子+带正电的离子+未电离原子或分子，为物 质的第四态。2 .等离子体在空间的输运A Jh 1ItI0# 04 */I A，Ar3 .等离子体在基片上成核.长大形成薄膜v

2、ry、立脉冲激光沉积的优点可以生长和靶材成分一致的务元化合物薄膜C9 贵 fac人亠TtLAA/dRfiHrlIWAX影响沉积速率基片靶材旋转法PLU中的里要尖9过多SJ基体的加热温度影响沉积速率和薄膜的质量氧宅的压力过高不利于薄膜择优取向的形成过低导致化学配比失衡,内部缺陷増多沉积时间影响薄膜的厚度基体与靶的距离影响薄膜的均匀性PT “土制备蒲瞪宜验溢理囿安装靶材与衬底A调整激光器参数卜光糾YAGM激光器波长I= 532nm（绿光）激光脉盍为10ns,亠抽真空（机械泵吕分辰泵龜僧珈）OSOOn订可凋.开加热装置,通气体导入激光进行镀膜 旦关闭仪器实验注意事项抽真空之前一定要注意接通冷却水当真空度小于10 P3才能开启分子泵抽高真空激光输出前要确保冷却水运动正常使用氧气时要确保气嘴干净无有误.实验室不

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