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文档简介

1、h2so4/h2o2 微蝕體系介紹目 錄:一、 微蝕液分類及優缺點比對二、 微蝕槽h2o2蝕銅反應機構三、 微蝕槽h2o2裂解反應機構四、 安定劑抑制h2o2分解反應機構五、 安定劑抑制h2o2分解-h2o2安定性之評估測試1、 中間槽h2o2裂解2、 微蝕槽h2o2裂解六、 h2o2/h2so4微蝕體系使用時注意事項七、 氯離子含量對咬蝕速率影響八、 鐵離子含量對咬蝕速率影響九、 h2o2濃度對咬蝕深度之評估十、 銅離子濃度對咬蝕深度之評估十一、 h2o2/h2so4微蝕體系品質標準及測試方法十二、 h2o2/h2so4微蝕體系搭配結晶機之優勢一、 微蝕液分類及優缺點比對專案 分類 na2s

2、2o8+h2so4h2so4+h2o2+安定劑微蝕品質良良生産成本高低(可搭配結晶機)溶銅量低25g/l高20s方法:將走過內層前處理之21”24”之裸銅板,放入水池中,將板子全部浸濕。後取出以45。斜放,觀察板面水膜破裂時間並記錄頻率:1次/周3、表面粗糙度測試標準:ra:0.30.1um; rz3.7um; rt4um 測試方法 (1) 取12 16 cm之銅箔基板,放置於生産機台的左、中、右三個位置,進行不同微蝕程度之處理。 (2) 將(1)之基板進行上下板面粗糙度分析。 (3) 取樣點如下圖:左邊 中間 右邊 生産板行進方向(4) 粗糙度表示法: a. ra:粗糙度算術平均值又稱中心線

3、平均值,爲在樣本長度內量測點距離中心線偏差之算術平均值。 b. rz:十點平均高度值,每一樣本長度內取5個最高峰及5個最低谷間的平均距離,對一般工件表面 的粗糙度,常和ra值一起表示。 c. max ra:量測區間內,各中心平均值最大者。 注:1. 以surface profiler儀器量測銅表面粗糙度時,儀器本身非常靈敏、精確,所以試片經裁切後銅片不 平,造成scan的誤差無法免掉。 2. 量測區間系取scan後,較平整的一段,藉以減低試片表面不平整所造成的誤差。亦可看出max ra及 ra之差異性。 3. 量測結果,rz (十點平均高度值)數值亦有參考意義。(4) 粗糙度表示法: a. r

4、a:粗糙度算術平均值又稱中心線平均值,爲在樣本長度內量測點距離中心線偏差之算術平均值。 b. rz:十點平均高度值,每一樣本長度內取5個最高峰及5個最低谷間的平均距離,對一般工件表面 的粗糙度,常和ra值一起表示。 c. rt:量測區間內,最高峰與最低谷之差值。 注:1. 以surface profiler儀器量測銅表面粗糙度時,儀器本身非常靈敏、精確,所以試片經裁切後銅片不 平,造成scan的誤差無法免掉。 2. 量測區間系取scan後,較平整的一段,藉以減低試片表面不平整所造成的誤差。3. 量測結果,rz (十點平均高度值)數值亦有參考意義。4. 量測頻率:1次/月基板&h2so4、h2o2咬蝕後基板表面sem圖比較(內層基板)(內層基板h2so4、h2o2處理過後)十二、h2o2/h2so4微蝕體系搭配硫酸銅結晶機之優勢1、 使用結晶機,可節省微蝕刻藥水,降低成本:不會象過硫化物微蝕液老化後需更新藥液,而只需回收硫酸銅結晶後,再適量添加硫酸及雙氧水就能再生藥液之微蝕刻能力。2、 使用結晶機,可使微蝕刻速度穩定,提高品質:結晶機保證銅含量穩定在一定範圍內,同時自動添加一定比例之硫酸及雙氧水,使蝕刻品質均勻而

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