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文档简介

会计学1薄膜技术与应用薄膜技术与应用第1页/共12页制备工艺真空工艺非真空工艺多源共蒸发法！溅射后硒化法！分子束外延法化学气相沉淀法电化学沉积法旋涂涂布法丝网印刷法喷墨打印法第2页/共12页共蒸发法实验设备示意图 多源共蒸发法共蒸发是典型的物理气相沉淀工艺（PVD）。根据薄膜沉积过程，共蒸发可分为一步法、两步法和三步法。第3页/共12页源物质In-Ga-Se预置层表面富Cu的CIGS薄膜等化学计量比的CIGS稍微贫铜的P型CIGS第4页/共12页薄膜。第5页/共12页Cu-In-Ga预置层的沉积预置层硒化热处理真空工艺非真空工艺H2Se气氛Se气氛第6页/共12页H2Se是最好的硒源，但具有毒性且 容易挥发；固态Se作为硒源，Se难以压制，在热处理过程中会导致In、Ga等元素的损失。真空硒化退火装置示意图第7页/共12页磁控溅射系统示意图磁控溅射制备预置层氩气Ar+靶材Cu、In、Ga基底辉光放电CIG预置层第8页/共12页第9页/共12页n必然在未来的太阳能产业n链中大放异彩。第10页/共12页第11页/共12页

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