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文档简介
1、过程控制课程设计报告中南大学 过程控制系统 课程设计报告 设计题目9溶 由器液位控制指导老师凌玉华设计者侯博文专业班级 自动化0605班06号 设计日期 2010.01.11至2010.01.21目 录 第一章概 述3 1.1设计目的3 1.2具体任务3 1.3氧化铝 生产的意义3第二章氧化铝高压溶由工序介绍4 2.1铝工业的国内外现状4 2.2氧化铝生产过程4 2.2.1拜耳法5 2.2.2烧 结法6 2.2.3混联法6 2.2.4选矿拜耳法8 2.3高压溶由工序8 第三章工序生产设备及控制要求11 3.1双程预热器11 3.2溶生器11 3.3自蒸发器12 3.4蒸汽缓冲器13第四章9溶由
2、 器液位控制系统设计15 4.1总体方案论证15 4.2硬件设计17 4.3控制算法22 4.4软件设计23第五章液位控制系统调 试方法25 5.1比例、积分和微分的分析25 5.2 PID参数整定方法26 5.3 PID参数整定(实验内容)27第六章总 结29 6.1 方案评价及改进方向 29 6.2收获及体会29参考文献31 第一章 概述1.1设计目的 综合控制理论,过程控制,微 机控制,可编程控制器,软件程序设计等课程的相关理论知 识,设计一个完整的 9溶由罐液位控制系统,全面学习和掌 握典型控制系统的设计方法,控制方法,调试技巧。1.2具体任务第六小组具体任务设计一液位控制系统 对9溶
3、由器液位进行控制,使液位在 11m,误差-0.2m. 1.3氧化铝生产的意义氧化铝主要用于电解生产铝,它占氧化铝 总产量的90以上。此外还供硅酸盐.耐火材料.机械.无线电.冶金.化工.制药 等工业部门使用。铝和铝合金是国民经济、国防军工和民用制品的基础原 材料。铝工业是国家的基础工业之一。高性能铝合金是制造飞机、潜艇、火箭、导弹、鱼雷、 坦克的重要部件的原材料,被称为国家的战略物资。所以氧化铝的生产,具有重大的现实意义。第二章 氧化铝高压溶由工序介绍2.1铝工业的国内外现状 我国具有丰富的铝土矿资源迄今,我国已探明铝土矿 矿区310处,分布于全国19个省、自治区、直辖市,已探 明保守储量23亿
4、吨,位居世界第4,具备发展氧化铝工业的 资源条件。国内的氧化铝生产从 50年代起步,8090年代得到了快 速发展,年生产能力已达到近 800万吨。2008年氧化铝年产量约高达 2465.6万吨,较去年同期提 高26.44,居世界前列 。由于矿石结构和组成的原因,国外富产氧化铝的国家主 要采用拜耳法生产氧化铝。我国的铝土矿资源大部分为含硅高较难溶生的矿石,不 适合直接采用世界上大多数国家采用的拜耳法生产工艺流程,绝大部分都是采用流程长、工艺复杂的混联法和烧结法 生产的。改革开放以来,为适应国民经济发展的需要,国家在铝 土矿资源丰富的四省区内大力发展氧化铝工业,规划并建成 了山西铝厂,平果铝厂和中
5、州铝厂等氧化铝项目。采用新工艺、新技术和先进设备,加大对已有的山东铝 厂、贵州铝厂和郑州铝厂的技术改造,提高产能,形成了六 个氧化铝厂为基地的生产布局。为进一步发挥桂西和晋北铝土矿资源优势,国家规划建 设华银氧化铝和晋北氧化铝基地,进一步扩大氧化铝产能, 使氧化铝基地由六个增加到八个。民营企业发展迅速大量,非中铝系的民营及合资企业涉 足氧化铝项目,使得国内氧化铝产能激增。三门峡东方希望公司、三门峡开曼公司、洛阳香江万基 公司(新安铝电)以及山东、内蒙等地的民营企业迅速发展。铝业是朝阳产业,市场需求量大。据有关数据,2008年我国共生产氧化铝 2465.6万吨。2.2氧化铝生产过程 迄今为止,已
6、经提由了很多从铝矿 石或其他含铝原料中提取氧化铝的方法。由于技术和经济的原因,有些方法已被淘汰,有些还处 于试验研究阶段。已经提生的氧化铝生产方法可以归纳为四类,即碱法、酸法、酸碱联合法与热法。目前用于大规模工业生产的只有碱法。铝土矿的特点是化学组成和矿物组成多种多样,要采用 不同的方法来处理。铝土矿处理方法和合理的工艺设备的选择取决于许多因素,其中主要的是 a.硅指数,b.原料中硫化物;碳酸盐和有 机物的含量;c.铝化合物和硅化合物的矿物组成;d.氧化铁含量。我国铝土矿资源丰富,储量大;高铝、高硅、低铁;铝 硅比较低,中低品位铝土矿居多;多数铝土矿是一水硬铝石 型铝土矿。碱法生产氧化铝的实质
7、是将铝转变为铝酸钠进入苛性碱溶液。铝原料中可溶SiO2含量越高,转变为不溶性沉淀的水合 铝酸钠就越多。而从原料提取到铝酸钠溶液的氧化铝则越少。铝硅比是评价铝土矿质量和选择其具体处理方法的主要指数。生产氧化铝的碱式法有四种烧结法,拜耳法,混联法, 选矿拜耳法。烧结法适合 Al/SiO2较低(Al/SiO216 )的矿石,其成本 较低;混联法则适合 Al/SiO2适中(大部分矿石的 Al/SiO2 在12以上,小部分矿石的 Al/SiO2在8以下)的矿石,成本 也适中;选矿拜耳法适合 Al/SiO2为中低的矿石。我国由于矿石成分的原因,适合采用混联法生产氧化 铝。2.2.1 拜耳法 高温和高浓度的
8、铝酸钠溶液处于介稳状 态,而在温度和浓度降低的时候则自发分解析由氢氧化铝沉 淀,拜耳法便是建立在这样的基础上的。铝土矿所含的一水和三水氧化铝在一定条件下(提高温 度和浓度)以铝酸钠的形式进入溶液。在95100摄氏度时铝酸钠稳定,当降低温度和浓度时它 转变为不稳定状态,析由氢氧化铝。图2-1拜耳法生产流程 2.2.2烧结法 所有类型的高硅 原料都可以用这种方法处理。烧结法的实质是含铝原料与纯碱、石灰石一同烧结时原 料中的硅转变为在碱溶液中难溶的化合物原硅酸钙,而铝和 铁转变为铝酸钠和铁酸钠。含铝原料与纯碱、石灰石烧结时,各原始组分的固体粉 末之间的化学反应,是在有少量熔体存在下进行的。图2-2烧
9、结法生产流程 2.2.3混联法1)并联法 在并联 法中,大部分铝土矿按拜耳法处理,由烧结法处理的只是少 部分。这两部分平行的进行直到成为铝酸钠溶液为止,然后将烧结法的脱硅的铝酸钠溶液与拜耳法部分的溶液混合,再将混合的溶液加晶种分解。图2-3并联法生产流程 2)串联法 在串联法中,铝土 矿常压溶生或压煮溶生后的高氧化铝和氧化钠赤泥与纯碱 和石灰石一同烧结。熟料溶生后的铝酸钠溶液经过脱硅,然后与稀释的拜耳 法溶液混合到一起分解。母液蒸发生的棕色纯碱在烧结之前与赤泥、棕色纯碱返 料、石灰石和霞石组成的。加入的霞石数量应该保证完全补偿拜耳法中苛性碱损 失。图2-4串联法生产流程 2.2.4选矿拜耳法
10、选矿拜耳法 生产工艺与烧结法有很大不同,总体上可分为选矿和拜耳法 两大部分。选矿部分主要包括磨浮选矿、矿浆调配等工段;拜耳法 部分主要包括高压溶由、种子分解、过滤洗涤、焙烧等工段。图2-5选矿拜耳法生产流程2.3高压溶由工序 高压溶由工序属于拜耳法中的一个环节。它也是混联法生产氧化铝的生产过程中的重要工序。高压溶生的目的就是用苛性钠溶液把铝土矿中的氧化铝 溶由来。图2-6高压溶生生产流程图2-7高压溶由器设备流程1,高压溶生的生产条件高压溶生的生产条件为 2.02.2 Mpa的高压;2450c的高温。高压溶生的化学反应可以分为两大类I、氧化铝水合物的溶生反应,这是主反应。n、各种杂质在溶生过程
11、中的化学反应,这是副反应。为了使高压溶生过程得到良好的效果,必须掌握主副反 应的规律。2、溶生化学反应 在常压下低碱浓度溶液中溶由三水铝 石型铝土矿时,其中 A1OH3与NaOH发生反应 用高碱浓度 或用稀碱溶液在较高温度下溶由一水铝石型铝土矿时,反应 如下3、溶由速度 铝土矿溶由属于多相反应,即液体和固 体之间的反应,其特征是反应过程发生于两相 (矿粒与碱液) 的界面上。两相接触界面的OH-,由于不断反应而逐渐消耗,在靠近 矿粒表面层的溶液中的 OH-浓度显著降低。同时,在这一层中的反应产物A1OH4-或A1OH2-的浓度则接近饱和,于是形成扩散层。溶由速度的表达式 当矿石一定时,其粘度一定
12、,且 P、 S均为常数,则从式中可以看由通过控制温度 T,可以控制 反应速度。并且,通过提高温度来提高溶生反应的速度也是可行的。第三章工序生产设备及控制要求3.1双程预热器双 程预热器有四组双程预热罐。采用高压蒸汽间接加热。其内部是蒸汽管。矿浆在蒸汽管外,包围着蒸汽管,由600C被加热到1950c 左右,称为预热。这时,因为矿浆温度低(反应温度为2450C),所以还不能用于生产。预热器在此次控制系统未作要求。图3-1双层预热罐系统图3.2溶由器溶由器由九个高压罐串联构成,1罐和2罐用高压蒸汽直接加热使矿浆达 到溶生温度(2450C左右)。溶由器内加热为直接加热,其效率较高,但是加热过程 中由蒸
13、汽带来了水份,使得矿浆溶液的浓度降低。溶生器的温度是溶由温度,对氧化铝的溶生率影响很大, 保持溶由温度稳定,是提高溶生率的关键之一。在溶由稳度低到一定值 (240摄氏度),则控制变频调速 装置,降低电机转速,减少进入高压溶生器的矿浆流量(每 降低1摄氏度,则减少矿浆流量 0.5);若溶由温度高到一定 值(250摄氏度),则控制变频调速装置,提高电机速度,增 加进入高压溶生器的矿浆流量(每提高1摄氏度,则增加矿浆流量0.5),以保证溶由温度的稳定。矿浆经1-溶由器后,形成一定的压差,为了保证正常生产,压差应尽量稳定在 0.2MPa左右溶生器需要监测的量有 19溶由器的压力 PT401PT409
14、以及就地仪表显示的量 PI401PI409。在此次控制系统的设计中,溶由器部分包括3溶由器温度控制和9溶由器液位控制。3溶生器需要将其温度控制在工艺要求的溶生温度245摄氏度左右,精度控制在 0.5摄氏度。而液位控制则采用两个数字开关量来表示正常和非正常 情形。3.3 自蒸发器 自蒸发器的作用主要是回收热量。它由五个高压罐组成,各级压力逐渐降低,由 2.02.2Mpa 下降到0.2Mpa。在压力下降的过程中,蒸汽会从矿浆中逸由。其产生的蒸汽称为乏气。不同压力的乏气被送至双程预热器用作加热矿浆。图3-2自蒸发高压罐系统图图3-3自蒸发器与预热器的对应 为了既充分利用乏汽又保证自蒸发器正常工况,
15、选择自蒸发器压力作为监测量。自蒸发器需要监测的量有自蒸发器各级的压力 PT501PT505;同时还有就地显示仪表 PI501PI505;需要控制 的压力PC ,不能过高亦不能过低。在此次控制系统的设计中,自蒸发器部分包括I, n,in自蒸发器压力控制三部分氧化铝高压溶由工序蒸发器压力控制系统分为I v自蒸发器的分步控制,通过这五步的控制使压力由2.02.2Mpa降至U 0.2Mpa。矿浆由I自蒸发器进入,通过调节蒸汽流量来控制自蒸发器的压力。给定的矿浆流量值经过调节蒸汽来达到所要求的I自蒸发器的由口压力值。之后矿浆进入到n自蒸发器,经调节最后由v自蒸发器流由,此时压力为所需要的值。压力的控制精
16、度应为 0.1Mpa。自蒸发器的压力控制可以通过控制蒸汽的流量来调节压力的变化,用压力变送器来检测压力并返回控制。3.4 蒸汽缓冲器 蒸汽缓冲器用于存储高压蒸汽,给1溶由器和2溶由器提供加热蒸汽。其高压蒸汽一般为 2.4Mpa o它有稳定加热蒸汽压力的作用。在此次控制系统的设计中,蒸汽缓冲器部分包括蒸汽缓冲器压力控制。为了防止蒸汽缓冲器的矿浆倒流,其进口压力必须为3.3MPa,由口压力为3.15MPa,若蒸汽缓冲器的进由口压力降低了 0.05MPa,则给由报警信号。图3-4蒸汽缓冲器控制系统图蒸汽缓冲器需要监视的量有TT301和PT301;就地显示的量有 TI301和PI301蒸汽 缓冲器中的
17、蒸汽来自锅炉房(热电厂)。有新蒸汽Z2、Z3加入。此处需要监测蒸汽的流量FT101和FT102 (此处监测蒸汽流量主要是为了与锅炉房输生的流量作比较,用作蒸汽费 用凭证)。新蒸汽的压力是由电动阀门的开度来调节。第四章9溶由器液位控制系统设计4.1总体方案论证1 .高压溶由器的构造与课题要求图4-1高压溶由器构造1-蒸汽管;2-套筒;3-蒸汽喷头;4-由料管;5-入孔;6-不 凝性气体排由管 如上图所示,溶由器内径 1.6米,高13.5 米,容积25.9立方米。设有蒸汽喷头,进料口,由料口。课题要求是液位控制用的是数字开关量,目标量为11m,误差为0.2m。2 .单回路控制系统方案单回路控制系统
18、作为过程控制系统中最简单,最基础,应用最广泛的的形式,可解决工业 生产过程中大量参数定值控制问题。其液位控制基本形式如下图图4-2单回路系统液位控制基本形式 其运用到溶由罐上,其控制系统构造则可描述 为下图 图4-3单回路系统溶由罐液位控制(1)确定被控 变量 被控变量为9溶由罐液位,11米,误差0.2m。(2)确定操纵变量 影响溶生器液位的因素有进料口流 量和生料口流量。故有三种不同的控制方案。方案一(控制进料口流量)方案二(控制由料口流量)由上面两种方案综合比较后,确定将进料口流量作为操纵变 量较为理想。即为图4.1-3所示。3 .串级控制系统方案由于液位的时间常数T 一般很大,因此有很大
19、的容积迟延, 如果用单回路控制系统来控制, 可能无法达到较好的控制质量。二串级控制系统可以用一般常规仪表来实现,成本增加 也不大,却可以起到十分明显的提高控制质量的效果。在此设计任务中,进料口流量是影响液位的主要因素, 其时间常数较小。故可以把它纳入副回路进行控制,不仅有效克服了流量 对液位造成的干扰,而且使系统工作频率提高,能够对液位 实行较快的控制。当然还有一切其他的复杂控制方法,例如前馈控制,补 偿控制。但这两种控制方案难以用一般常规仪表来实现,在经济 和简便性上不如串级控制。故综上考虑,决定使用串级控制方案。图4-4串级控制系统其系统方框图可绘制成如下形式图4-5液位串级控制 4.2硬
20、件设计 由上面所采用的控制 方案可以得到,该控制系统硬件应该由 5部分构成液位检测 以及传送装置,流量检测以及传送装置,控制阀,控制器。控制器采用单片机实现。图4-6硬件连接图4.2.1液位检测与传送装置 在化学 和石化行业过程容器的物位测量中,最常用的方法是压力变 送器。它测量容器中介质的差压。这里有两种形式的变送器压力变送器和差压变送器。在压力变送器中,压力施加于压力传感元件,以标准大气压为基准,或在特殊情况下以绝对大气压为基准。差压变送器的膜盒由正负压室组成。高位压力作用于正压室,低位压力作用于负压室。这样可由容器的压力差的大小来推算由液位值。如果正负压室的监测点都被液体浸没,那么差压变
21、送器 会输由一个正比于介质密度的信号。简单的说,其检测原理将差压转换为电信号。该变送器具有坚固耐振、量程、零点、阻尼现场连续可精确度高、稳定性好等特点特别适合液体液位测量。淮安市开开仪表有限公司所生产的HAKK-301法兰式型变送器.其传感器采用干式陶瓷压力传感技术,具有精度 高、长期稳定性好、工作温度范围宽、抗载能力强、体积小, 膜片面积大、不积物、可带现场指示器和不带现场指示器。HAKK-301 法兰式型变送器可将液体液位转变成4-20mADC的电流信号输由。鉴于以上因素,选择此变送器。图4-7 HAKK-301 法兰式型变送器实物 HAKK-301 法 兰式型变送器基本技术参数相对压力
22、01.6Mpa静态液位最大液位高度100m最小液位高度 0.1m尺寸70*70*130 标 准法兰GB911.6-88以上参数完全满足本系统设计要求。4.2.2 流量检测与传送装置流量测量方法和仪表的种类繁多,分类方法也很多。有转子流量计、节流式流量计、细缝流量计、容积流量 计、电磁流量计、超声波流量计和堰等。至今为止,可供工业用的流量仪表种类达 60种之多。鉴于电磁流量计具有如下特点仪表结构简单、可靠,无可动部件,工作寿命长。无截流阻流部件,不存在压力损失和流体堵塞现象。无机械惯性,响应快速,稳定性好,可应用于自动检 测、调节和程控系统。测量精度不受被测介质的种类及其温度、粘度、密度、压力等
23、物理量参数的影响。故在此选用电磁流量计。选用淮安市开开仪表有限公司所生产的HAKK-LDE电磁流量计。图4-8电磁流量计原理图 图4-9 HAKK-LDE 电磁流 量计HAKK-LDE 电磁流量计基本技术参数 *仪表精度管道 式0.5级,1.0级*测量精度电导率大于 5uS/cm的各种液体 和液固两相流体。*流速范围0.28m/s *环境温度-100度350度*输由信号 420mA.DC,负载电阻0750欧*电源电压90220V.AC、 24-10V.DC *最大功耗10VA由于此流量计需工作在 250多度 高温下,由型谱可查得,应使用 T3耐高温型。4.2.3 控制阀 控制阀又称调节阀,是工
24、业过程控制中的 主要执行单元仪表,通过接受调节控制单元输生的控制信 号,借助动力操作去改变流体流量。控制阀一般由执行机构和阀门组成。如果按其所配执行机构使用的动力,控制阀可以分为气 动、电动、液动三种,即以压缩空气为动力源的气动调节阀, 以电为动力源的电动控制阀,以液体介质如油等压力为动力 的电液动控制阀,另外,按其功能和特性分,还有电磁阀、 电子式、智能式、现场总线型控制阀等。ZAJV电子根据设计要求在此选用电动控制阀。选择南通中矿水泥成套设备有限公司生产的 式电动V型调节球阀。图4-10 ZAJV电子式电动 V型调节球阀 图4-11 ZAJV 电子式电动 V型调节球阀闸门开度图4-12 Z
25、AJV电子式电动V型调节球阀具体参数 4.2.4控制器 在此采用两片单片 机构成其控制器部分。一片负责对液位传感器所等到的液位进行判断,一片为 主控制器,负责接收1单片机与电磁流量计所发送的信息, 并做由判断。并对电动阀进行控制。4-13控制器结构示意图 4.3控制算法 一般来说,对于 串级控制系统,主变量不允许有余差。对于副变量的要求一般都不是很严格,允许它有波动和 余差。为了主变量的稳定,主调节器必须具有积分作用。因此,住调节器通常都选用比例积分规律。有时,对象控制通道容量滞后比较大,为了克服容量滞后,选择比例积分微分三作用的调节器作为主调节器。副调节器的给定值随主调节器的输由的变化而变化
26、,为 了能快速跟踪,副调节器一般不设置积分作用,微分作用也 不需要,因此当副调节有微分作用时,一旦主调节器的输由稍有变化,执行机构就将大幅度地变化。但副调节器容量滞后比较大时,可以适当加一点微分作 用,一般情况下,副调节器只需要比例作用就可以了。本系统的液位对象容量滞后比较大,故主调节器选用比 例积分微分调节作用,而流量对象时间常数很小,副调节器 只用比例作用。1.1.1 设计 系统软件主要由主程序、采样程序和PID算法程序和一些子程序组成4-14主程序流程图主程序的主要功能是完成 AT89C51的初始化,设置液位的上限和下限 采样和数据处理模块本系统利用定时循环轮流对液位进行实时采样,对实时
27、数据进行数据处理,并采用PID控制方案。M Y I 71988根据递增原理可得电子园 51单片机学 习网0C zm, uY “K l M 电子园51单片机学习网 6W- z;p L H. z z G,v rI根据以上推导,得到增量式 PID控制算法的程序流程图如下图所示。4-15 PID 控 制 算 法 子 程 序 9f z-S Of SD771988.V c U k71988 第五章 液位控 制系统调试方法 5.1比例、积分和微分的分析 5.1.1比例调 节(P调节) 比例控制是一种最简单的控制方式。其控制器的输生与输入误差信号成比例关系。当仅有比例控制时系统输生存在稳态误差( Steady
28、-state error)。比例调节作用是按比例反应系统的偏差,系统一旦由现了偏差,比例调节立即产生调节作用用以减少偏差。比例作用大,可以加快调节,减少误差,但是过大的比例,使 系统的稳定性下降,甚至造成系统的不稳定。1.1.2 积分调节(I调节)在积分控制中,控制器的输由与输入误差信号的积分成正比关系。对一个自动控制系统,如果在进入稳态后存在稳态误差, 则称这个控制系统是有稳态误差的或简称有差系统(Systemwith Steady-state Error)。为了消除稳态误差,在控制器中必须引入积分项积分项对误差取决于时间的积分,随着时间的增加,积 分项会增大。这样,即便误差很小,积分项也会
29、随着时间的增加而加大,它推动控制器的输由增大使稳态误差进一步减小,直到等于零。因此,比例积分 PI控制器,可以使系统在进入稳态后无 稳态误差积分调节作用是使系统消除稳态误差,提高无差度。因为有误差,积分调节就进行,直至无差,积分调节停止,积 分调节输由一常值。积分作用的强弱取决与积分时间常数Ti,Ti越小,积分作用就越强。反之Ti大则积分作用弱,加入积分调节可使系统稳定性下 降,动态响应变慢。积分作用常与另两种调节规律结合,组成PI调节器或PID 调节器。1.1.3 微分调节(D调节) 在微分控制中,控制器的输 由与输入误差信号的微分(即误差的变化率)成正比关系。自动控制系统在克服误差的调节过
30、程中可能会由现振荡甚至失稳。其原因是由于存在有较大惯性组件(环节)或有滞后delay组件,具有抑制误差的作用,具变化总是落后于误差的变化。解决的办法是使抑制误差的作用的变化超前工即在误差接近零时,抑制误差的作用就应该是零。这就是说,在控制器中仅引入 比例”项往往是不够的,比例项的作用仅是放大误差的幅值,而目前需要增加的是 微分项”,它能预测误差变化的趋势,这样,具有比例微分的控制器,就能够提前使抑制误差的控制作用等于零,甚至为负值,从而避免了被控量的严重超调。所以对有较大惯性或滞后的被控对象,比例微分PD控制器能改善系统在调节过程中的动态特性。微分调节作用微分作用反映系统偏差信号的变化率,具有
31、预见性,能预见偏差变化的趋势,因此能产生超前的控制作用 在偏差还没有形成之前,已被微分调节作用消除。因此,可以改善系统的动态性能。在微分时间选择合适情况下,可以减少超调,减少调节时问。微分作用对噪声干扰有放大作用,因此过强的加微分调节 对系统抗干扰不利。此外,微分反应的是变化率,而当输入没有变化时,微分作 用输生为零。微分作用不能单独使用,需要与另外两种调节规律相结合 组成PD或PID控制器。5.2 PID参数整定方法 PID控制器的参数整定是控制系 统设计的核心内容。它是根据被控过程的特性确定PID控制器的比例系数、积分时间和微分时间的大小。PID控制器参数整定的方法很多,概括起来有两大类一
32、是 理论计算整定法。它主要是依据系统的数学模型,经过理论计算确定控制 器参数。这种方法所得到的计算数据未必可以直接用,还必须通 过工程实际进行调整和修改。二是工程整定方法,它主要依赖工程经验,直接在控制 系统的试验中进行,且方法简单、易于掌握,在工程实际中 被广泛采用。PID控制器参数的工程整定方法,主要有临界比例法、反应曲线法和衰减法。三种方法各有其特点,其共同点都是通过试验,然后按 照工程经验公式对控制器参数进行整定。但无论采用哪一种方法所得到的控制器参数,都需要在 实际运行中进行最后调整与完善。现在一般采用的是临界比例法。利用该方法进行 PID控制器参数的整定步骤如下1首先预选择一个足够
33、短的采样周期让系统工作;2仅加入比例控制环节,直到系统对输入的阶跃响应由现临界振荡,记下这 时的比例放大系数和临界振荡周期;3在一定的控制度下通过公式计算得到 PID控制器的参数。5.3 PID参数整定(实验内容)5.3.1水箱液位控制 (1) 对象动态特征测试 使系统处于开环状态,待系统稳定后, 再在调节阀的输入端施加一个阶跃信号,记录下测量变送环 节的输由响应曲线。找由工作死区和工作区域及控制对象的最佳控制区域和 最佳控制目标值。(2)控制器参数对控制质量的影响比例控制作用是最基本的控制作用,比例度过小,会使控制系统变得不稳定, 但余差减小,积分作用的引入主要是改善控制系统的静态品 质,即
34、消除余差,但会使系统的动态品质恶化,即消除余差,但会使系统的动态品质恶化,选择微分时间D应合适,使弓入微分作用后相位超前起主导作用,而幅值增大不大,这样 才能改善控制系统的动态品质。(3)控制系统的投运和参数整定改变控制器的比例度,微分时间和积分时间,可以影响系统的闭环特性,从而 改变控制系统的控制品质,把书本上所学的理论转化为实际 应用的成果还有不少距离。5-1水箱实验实验最终 PID响应曲线5.3.1串级控制系 统参数整定 串级控制系统的参数整定比单回路控制系统要 复杂一些,因为两个调节器串在一个系统中,工作,相互之 间或多或少有些影响。在整定时应该尽量加大副调节器的增益以提高副环的工作频率,目的是使主,副环工作频率错开,以减少相互间的影响串级控制系统的参数整定主要有三种方法,逐步逼近 法,两步整定法,一步整定法。在此仅选择逐步逼近法,逐步逼近法的步骤为(1)先不考虑主回路的存在,先整定副调节器参数,可采用任意一 种单回路调节器参数整定法,求得副调节
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