SEM原理与应用

1、扫描电子显微镜概述扫描电子显微镜概述原理部分SEM基本原理SEM成像参数SEM成像影响因素样品制备和一般性应用样品制备一般性应用在纳米材料领域的应用文献讲述提纲提纲引言引言扫描电镜（SEM）是一种大型精密仪器，为微观世界的探测提供了一种新的研究手段，不仅用于植物学、医学、微生物学、古生物学、考古学、材料学、化学、物理学、电子学、地质矿物学、食品科学等领域，而且还广泛地应用于半导体工业、陶瓷工业、化学工业、石油工业等生产部门。随其普及和发展，SEM已经成为广泛的测试手段，并且在基础研究和应用研究上取得了显著成果。扫描电镜的优点扫描电镜的优点 高分辨率。由于超高真空技术的发展，场发射电子枪的应用得

2、到普及，现代先进的扫描电镜的分辨率已经达到1纳米左右； 有较高的放大倍数； 有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构； 试样制备简单； 配有X射线能谱仪装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。 扫描电镜的发展扫描电镜的发展历程历程1 1 1924年，法国科学家De.Broglie证明任何粒子在高速运动时都会发射一定波长的电磁辐射。 1926年，德国科学家Garbor和Busch发现用铁壳封闭的铜线圈对电子流能折射聚焦，即可以作为电子束的透镜。 1935年，Knoll提出了扫描电镜的设计思想并制成了扫描电镜的原始模型。 1942年，剑桥大学的

3、马伦成功地制造世界第一台扫描电镜。扫描电镜的发展扫描电镜的发展历程历程2 2 1960 Everhart and Thornley 发明二次电子侦测器。 1965 第一部商用SEM出现。 我国电镜研制起步比较迟，1958年在长春中国科学院光学精密机械研究所生产了第一台中型电镜。 1975年中国科学院北京科学仪器厂成功试制了第一台DX-3型扫描电镜，分辨率为10nm，填补了我国扫描电镜的空白。扫描电镜实物图JSM-6700F场发射扫描电镜原理概述激发源：电子束轰击样品表面原子二次信号：激发二次电子、X射线和返回入射空间的背散射电子收集散射电子并成像激发源：入射电子束与样品的作用电子束电子束经会聚

4、透镜在试样表面聚焦成几纳米的束斑经会聚透镜在试样表面聚焦成几纳米的束斑试样 电子散射区域 萤光 (化学结合状态) (形貌成份) 反射电子 X线 (元素) 电子束 (0.230kV)二次电子(试样的表面形貌) 俄歇电子（元素）背散射电子在深度1001000nm，横向100nm100nm体范围内激发横向分辨率低，景深大，立体感强能量接近于入射电子产额与试样原子大小相关：从而背景散射电子成像的衬度可以反映试样中原子序数的差异二次电子入射电子与试样核外层电子作用，在10nm深度内激发出的约几十eV的电子产生范围与入射斑点相当产额比背散射电子大得多， 是SEM成像的主要部分产额与入射角相关：二次电子成像

5、机理样品斜放，样品表面起伏造成入射角不同，从而二次电子散射的角度和 产额均不同其他激发产物入射电子使试样原子电离成为不稳定态，其外层电子向内层跃迁时发射的射线为X射线同时跃迁释放的能量激发另一层的电子跃迁则得到俄歇电子配备X射线波谱仪、能谱仪则可确定试样的成分（XPS）也可以利用俄歇电子研究试样的表面结构形貌还包括：吸收电子，散射荧光、声子激发、等离子震荡等等扫描电镜的结构电子光学系统 电子枪 透镜 扫描线圈样品室信号收集、处理和显示系统真空系统控制系统电子的收集和成像原理ESEM环境扫描电镜SEM要求样品室真空度达10-3PaSEM要求样品必须导电对于生物材料SEM技术比较麻烦环境扫描电镜技

6、术的提环境扫描电镜技术的提出和发展出和发展XL30 ESEM-TMP环境扫描电镜ESEM原理气体放大原理气体放大原理： 入射电子束1从样品5表面激发信号电子: 二次电子4和背散射电子3 入射电子和信号电子将空气电离化 在样品和电极板2之间加一个稳定电场, 电子、离子定向加速,能量足够大则电离气体分子, 如此反复倍增ESEM信号探测系统SEM的主要性能1放大放大倍数倍数SEM的放大倍率=L/A电子束 扫描(Y方向) 扫描(X方向) 试样 扫描(Y方向)扫描(X方向)CRT的电子束CRTASEM的主要性能2分辨率分辨率分辨率是扫描电镜的主要性能指标。对成分分析而言，它是指能分析的最小区域；对成像而

7、言，它是指能分辨两点之间的最小距离。一般二次电子像的分辨率约为5-10nm，背反射电子像的分辨率约为50-200nm。影响分辨率的影响分辨率的因素：因素：入射电子束束斑直径入射电子束在样品中的扩展效应所用的调制信号及成像方式SEM的主要性能3景深景深 景深是指一个透镜对高低不平的试样各部位能同时聚焦成像的一个能力范围。 SEM的景深为比之一般光学显微镜大100-500倍，比之TEM大10 倍。 景深D=2r/a，a=R/WD，r为电子束直径 假设CRT光点大小为0.1mm=100um 2r=0.1/M（放大倍率） D=100um/（M*a）=（100um*WD/M*R）l 1、入射电子束打到样

8、品表面点处的倾角l 2、边缘效应 在样品边缘和尖端部位射入电子，样品电子更容易脱离，产生二次电子很多，图像异常明亮l 3、原子序数效应影响SEM成像的因素1l 4、荷电效应当样品不导电或导电不良，样品会因吸收电子而带负电，放电并且排斥后续入射电子，使其被检测器吸收或者轰击样品室其他部件l 5、加速电压高分辨率高电压更自然低电压l 6、像散像散是由于SEM的磁场轴向 不对称所引起的一种像差。影响SEM成像的因素2e-e-被检测器吸收轰击样品室其他部件SEM样品制备特点l 可以观察大尺度的样品，从毫米到厘米尺寸的可以观察大尺度的样品，从毫米到厘米尺寸的样品样品都可以都可以观察观察l 成成块样品不用

9、制成超薄切片，样品制备方法要块样品不用制成超薄切片，样品制备方法要简单简单得得多多l 特别适合于细胞表面和组织表面特征信息的研特别适合于细胞表面和组织表面特征信息的研究究SEM制样准则l 尽可能保持样品本来的形貌和尽可能保持样品本来的形貌和结构结构l 在在样品的干燥过程尽可能减少样品样品的干燥过程尽可能减少样品变形变形l 样品表面应有良好导电性能和二次样品表面应有良好导电性能和二次电子发射率电子发射率SEM制样技术纳米颗粒样品制备基片：玻璃片，硅片，铜片基片：玻璃片，硅片，铜片一般情况下将纳米颗粒的溶液滴到基片上，干燥。一般情况下将纳米颗粒的溶液滴到基片上，干燥。SEM图显示颗粒分布不均图显示

10、颗粒分布不均l 基片不干净基片不干净l 纳米纳米颗粒不干净：可以用多种溶剂反复洗，超纯水，乙颗粒不干净：可以用多种溶剂反复洗，超纯水，乙醇，丙酮等。醇，丙酮等。硅片的清理方法l 除油除油：硅片先后在丙酮、甲醇中超声：硅片先后在丙酮、甲醇中超声20minl 碱性碱性过氧化氢溶液中进行氧化过氧化氢溶液中进行氧化10min，溶液，溶液成分比为成分比为NH4OHH2O2H2O（1：1：4），以除去表面），以除去表面氧化物氧化物l 将将硅片放入硅片放入PH值为值为5.0的的HF溶液中刻蚀溶液中刻蚀10min，其目的是，其目的是除去表面的氧化物、移去表面的破损层并得到平整的除去表面的氧化物、移去表面的破损

11、层并得到平整的表面表面l 将将硅片放入酸性过氧化氢溶液中进行氧化硅片放入酸性过氧化氢溶液中进行氧化10min，溶液成，溶液成分比为分比为HClH2O2H2O（1：1：4），其作用是络合表面），其作用是络合表面的金属的金属离子离子以上每一步完成后都用大量的超纯水冲洗，最后置于超纯水以上每一步完成后都用大量的超纯水冲洗，最后置于超纯水中。中。生物样品的制备一、固定：一、固定：固定剂：甲醛、戊二醛、四氧化锇固定剂：甲醛、戊二醛、四氧化锇固定温度：固定温度：037固定时间：固定时间：10分分几小时几小时生物样品的制备50%100%乙醇乙醇或或丙酮脱水丙酮脱水 二、脱水：二、脱水：乙醇、丙酮另一个作用：

12、乙醇、丙酮另一个作用： 用用表面张力小的乙醇取代表面张力小的乙醇取代表面张力表面张力很大的很大的水水 使使干燥过程对样品表面产生的影响较少干燥过程对样品表面产生的影响较少生物样品的制备三、干燥：三、干燥：临界点干燥法：利用二氧化碳超临界流体临界点干燥法：利用二氧化碳超临界流体生物样品的制备低温（低温（510）时，将）时，将样品样品加到液体加到液体CO2中，液体中，液体CO2取代取代有机溶剂，当温度升高有机溶剂，当温度升高到临界温度到临界温度31.3，液体，液体CO2转化成转化成CO2气体气体，从加压池中把，从加压池中把CO2气体放出，同气体放出，同时干燥了样品时干燥了样品临界点干燥法：临界点干

13、燥法：优点：优点： 由于超临界流体没有液相和气相的界面，因此样品干燥由于超临界流体没有液相和气相的界面，因此样品干燥也没有经过两相界面的状态，对样品的破坏程度小。也没有经过两相界面的状态，对样品的破坏程度小。生物样品的制备生物样品的制备玫瑰花瓣表面的玫瑰花瓣表面的SEM照片照片(850X)，CPD干燥干燥玫瑰花瓣表面的玫瑰花瓣表面的SEM照片照片(850X)，风干凝固，风干凝固无机材料制备工程无机材料制备工程1材料和冶金工业材料和冶金工业2晶体生长晶体生长3生物材料观察生物材料观察4USTC扫描电子显微镜的应用扫描电子显微镜的应用粉体的表征有机物辅助有机物辅助固相反应法固相反应法化学共沉淀法化

14、学共沉淀法均匀沉淀法均匀沉淀法甘氨酸甘氨酸硝酸盐法硝酸盐法掺杂氧化铈掺杂氧化铈(doped ceria)(doped ceria)粉体的粉体的SEMSEM照片照片球磨前后球磨前后粉体烧结粉体烧结照片照片平均粒径平均粒径500nm500nm平均粒径平均粒径 68 nm68 nm泡沫陶瓷材料和冶金工业SEM在材料和冶金工业应用范围很广，包括断裂失效分析、产品缺陷原因分析、镀层结构和厚度分析、涂料层次与厚度分析、材料表面磨损和腐蚀分析、耐火材料的结构与蚀损分析等等。材料拉伸测试另一个世界的探索扫描电镜观察生物样本独居蜂幼虫独居蜂幼虫扫描电镜观察生物样本哥布林蜘蛛哥布林蜘蛛扫描电镜观察生物样本撒克逊黄

15、蜂的颚齿撒克逊黄蜂的颚齿扫描电镜观察生物样本发育成熟的蜜蜂幼虫发育成熟的蜜蜂幼虫扫描电镜观察生物样本苍蝇的复眼苍蝇的复眼扫描电镜观察生物样本苍蝇的复眼苍蝇的复眼扫描电镜观察生物样本苍蝇的复眼苍蝇的复眼扫描电镜观察生物样本苍蝇的复眼苍蝇的复眼纳米材料独特的物理化学性质主要源于它的超微尺寸及超纳米材料独特的物理化学性质主要源于它的超微尺寸及超微结构。因此对纳米材料表面形态的观察成为对其研究和微结构。因此对纳米材料表面形态的观察成为对其研究和应用的基础。应用的基础。扫描电子显微镜扫描电子显微镜(SEM)在纳米级别材料的形貌观察和尺寸检在纳米级别材料的形貌观察和尺寸检测方面依靠其高分辨率良好的景深简易

16、的操作等优势被测方面依靠其高分辨率良好的景深简易的操作等优势被大量采用。大量采用。SEM在纳米材料领域的应用在纳米材料领域的应用.A Soution-Phase,Precursor Route to Polycrystalline SnO2 Nanowires That Can Be Used For Gas Sensing Under Ambiebt Conditions Yuliang Wang,Xuchuan Jiang,and Younan Xia*Department of Chemistry, UniVersity of Washington, Seattle, Washingto

17、n 98195J. AM. CHEM. SOC. 2003, 125, 16176-16177SnC2O42H2O was mixed with poly(vinylpyrrolidone)(PVP) in ethylene glycol (EG), followed by refluxing at 195 Cfor 3 h.Facile fabrication of triple-layer (AuAg)polypyrrole coreshell and (AuH2O)polypyrrole yolkshell nanostructuresShuangxi Xing, Li Huey Tan, Tao Chen, Yanhui Yang and Hongyu Chen*Received (in Cambridge, UK) 25th November 2008, Accepted 19th January 2009First publis