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文档简介

1、二氧化锡纳米晶态薄膜的制备方法本发明公开了二氧化锡纳米晶态薄膜的制备方法，它具有如下步骤：（）基底表面清洗；（）将基底置于浓硫酸与双氧水混合溶液中，使基底表面羟基化；（）将基底浸入（）（）、或（）或（）溶液中浸泡，使基底表面形成有机分子自组装单层膜；（）将带有巯基烷基为头基的基底，用双氧水与醋酸混合溶液浸泡；或将带有乙烯基为头基的基底，用饱和过硫酸氢钾溶液浸泡，使基底表面有机分子自组装层功能化：（）将基底浸入的盐酸溶液或的硼酸溶液，制成一种二氧化锡纳米晶态薄膜，本发明提供了一种功能化表面液相沉积技术，所制备的产品，具有金红石型晶体结构。 二氧化锡纳米晶态薄膜的制备方法一种二氧化锡纳米

2、晶态薄膜的制备方法，其特征是包括如下步骤：（）基底表面清洗：将基底在洗涤剂中超声波洗涤；（）基底表面羟基化：将清洗后的基底置于体积比为的浓硫酸与双氧水的混合溶液中浸泡，温度为，浸泡分钟，以生成表面氧化薄层，同时使基底表面羟基化，将基底用去离子水、异丙醇洗涤，在惰性气体的环境下吹干，于下真空干燥分钟；（）基底表面有机分子自组装：将经（）处理后的基底浸入（）（）、或（）或（）溶液中，室温下浸泡小时，形成表面带有有机分子自组装单层膜的基底，所用溶剂为经分子筛处理的无水环己烷或苯或甲苯或四氢呋喃或乙醇，所述为或，为之一，所述（）（）或（）溶液的浓度为××，所述为或或，为之一，所述（

3、）溶液的浓度为××，将处理后的基底依次用氯仿、去离子水冲洗，在惰性气体的环境下吹干；（）基底表面有机分子自组装层的功能化：将经（）处理后的带有巯基烷基为头基的硅烷自组装单层膜的基底，用体积比为的双氧水与醋酸或双氧水与草酸的混合溶液在进行表面功能化浸泡处理分钟；或将经（）处理后的带有乙烯基为头基的硅烷自组装单层膜的基底，用饱和过硫酸氢钾溶液，在，进行表面功能化浸泡处理分钟，将处理后的基底依次用去离子水、氯仿冲洗，在惰性气体的环境下吹干；（）在功能化基底表面上制备二氧化锡纳米晶态薄膜：将经（）处理后的表面功能化基底浸入的盐酸溶液或的硼酸溶液中进行二氧化锡纳米晶态薄膜沉积生长，所述盐酸溶液的浓度为，所述的浓度为××，所述硼酸的浓度为××，所述

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