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文档简介
1、图2 X射线管剖面表示图 管电压的添加而增大。Ka和Kb两个特征射线有临界电压Moseley定律决议特征X射线的波长U=35U激发X射线非相关散射表示图 102030405060Counts a.u.2 o Substrate of Al2O3/SiOriginal film of LaCoO3Poisoned at 500OC, 3hrsPoisoned at 700oC, 3hrs2030405060ABCDEF 2 。 Counts a.u.44.5433.1424.0625.3237.6047.9735.5249.4054.02G 对于TiO2纳米粉体,其主要衍射峰2为21.5 ,可目
2、的化为101晶面。 当采用CuK作为X射线源,波长为0.154nm,衍射角的2为25.30 ,丈量获得的半高宽为0.375 ,普通Sherrer常数取0.89。 D101K/B1/2cos0.890.15457.3、0.3750.97621.5 nm。TiN/AlN纳米多层膜的XRD小角度衍射谱 粘土的小角粘土的小角XRD衍射图衍射图 已二胺处置后粘土的小角已二胺处置后粘土的小角XRD衍射图衍射图 1.31nm1.4nm246810AB图6-10 TiCl4-PEG法制备中孔粉体XRD结果A煅烧前 B400下煅烧1小时510AB钛酸酯-十八胺法制备中孔粉体前驱体XRD结果A常温常压下沉化B加温
3、加压下沉化 203040506070500oC600oC700oC800oC900oCCounts / a.u.2/ o2030405060702 / oCounts / a.u.1h4h6h8h amorphous intermediate203040506070500oC600oC700oC800oC900oCCounts / a.u.2/ o2030405060702 / oCounts / a.u.1h4h6h8h amorphous intermediate2030405060ABEDC2/ degreeCounts / a.u.(a)85090095010000102030Temperature / oCCrystalline size / nm (b)102030405060702 / oCountsab2030405060TiO2 filmTiO2 filmdoped PdTiO2 filmdoped Pt25.328.5 Si substrate47.92Counts a.u.AnataseTiO22030405060TiO2 filmTiO2 filmdoped PdTiO2 fil
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