真空镀膜设备操作培训

1、一、名词解释一、名词解释二、开关机流程二、开关机流程三、镀膜主控界面说明三、镀膜主控界面说明真空真空镀膜镀膜设备操作培训设备操作培训一、名词解释一、名词解释1.1. 真空溅射：真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。2.2. 物理气相沉积：物理气相沉积：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。3.3. 磁控溅射：磁控溅射：借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，来增强电离效率，增加离子密度和能量，因而可在低电压，大电流下取得很高溅射速率。4.4. 镀膜室：镀膜室：真空镀膜设备中实施实际镀膜过

2、程的部件。5.5. 溅射装置：溅射装置：包括靶和溅射所必要的辅助装置(例如供电装置,气体导入装置等)在内的真空溅射设备的部件。6.6. 靶材：靶材：母材，用来制取膜层的原材料。7.7. 挡板：挡板：用来在时间上和(或)空间上限制镀膜并借此能达到一定膜厚分布的装置；挡板可以是固定的也可以是活动的。8.8. 基片架：基片架：可直接夹持基片的装置,别称夹具或治具,基片安装方式分平放、立放，立式放置一般通过弹片、夹扣固定基片。9.9. 基片：基片：膜层承受体。10.10.试验基片（工艺片）：试验基片（工艺片）：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。11.11.沉积速率：沉积速率

3、：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间和基片表面积。一、名词解释一、名词解释12.12.加热装置：加热装置：在真空镀膜设备中,通过加热能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。13.13.冷却装置：冷却装置：在真空镀膜设备中,通过冷却能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。14.14.连续镀膜设备：连续镀膜设备：被镀膜物件（单件或带材）连续地从大气压经过压力梯段进入到一个或数个镀膜室，再经过相应的压力梯段，继续离开设备的连续式镀膜设备。15.15.真空泵：真空泵：抽除气体，能使腔体达到设计的真空度。16.16.阴极：阴极：靶材安装位置，兼工艺布气管入口。17.17.阳极：阳极：

4、非阴极区域。18.18.工艺气体：工艺气体：镀膜所需冲入气体，常用的有氩气、氮气、氧气。19.19.真空度：真空度：低于一个标准大气压。二、开关机流程二、开关机流程确认设备检修完成、检查箱门擦拭干净，门关闭OK(门螺丝用工具使用5成力扭紧）开冷却水、检查主控面板有无异常报警生产参数确定：开门压差15pa;分子泵启动10pa；罗茨泵启动500pa泵组电控柜分子泵开关打开，操作面板分子泵设定使能设定正常自检（“取消自检”显示绿色）真空模式转抽气模式，需泵组模式切换使能设备自检后自动抽气，如有问题处理不了，通知设备正常罗茨泵抽气时间30分钟，真空度到达10pa，分子泵启动；启动完成，提示转生产模式泵

5、组切换使能，抽气转换成生产模式；门螺丝用工具使用5成力再次扭紧。检漏升温降温工艺调试（本底真空5E-3；布气，2.5kw轰靶0.5H）试投生产开机开机流程流程百级间禁止上片镀膜腔体夹具全部走完后开始停机，传动设为手动模式生产模式转保压模式；关靶、关气、加热器设为0分子泵降速停机，约20min;期间可以松开箱体门螺丝，门把手位置留1颗螺丝扣住待所有泵组停止，确认门螺丝松开，保压模式转放气模式关闭冷却水系统；关闭换靶位置阴极冷却水阀关闭分子泵空气开关；开始保养作业关机关机流程流程三、镀膜主控界面说明三、镀膜主控界面说明(总貌画面）总貌画面）三、镀膜主控界面说明三、镀膜主控界面说明(生产参数表）生产参数表）三、镀膜主控界面说明三、镀膜主控界面说明(加热参数表）加热参数表）三、镀膜主控界面说明三、镀膜主控界面说明(工艺参数表）工艺参数表）