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文档简介
1、 缺陷的含义:晶体点阵结构中周期性势场的畸变称为晶体的结构缺陷。 缺陷对材料性能的影响 理想晶体:质点严格按照空间点阵排列。 实际晶体:存在着各种各样的结构的不完整性第二章 晶体结构缺陷第1页,共31页。本章内容: 晶体结构缺陷的类型 点缺陷 固溶体 非化学计量氧化物 线缺陷 位错 面缺陷第2页,共31页。第一节 晶体结构缺陷的类型几何形态:点缺陷、线缺陷、面缺陷形成原因:热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷 分类方式:第3页,共31页。(一)按缺陷的几何形态来划分 点缺陷 线缺陷 面缺陷 体缺陷:第二相粒子团、空位团第4页,共31页。固溶体1、点缺陷(零维缺陷) 缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,
2、即三维方向上缺陷的尺寸都很小。根据其对理想晶体偏离的几何位置及成分来分:空 位填隙原子杂质原子第5页,共31页。2、线缺陷(一维缺陷) 指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。如各种位错(dislocation)。刃位错螺位错第6页,共31页。3、面缺陷(二维缺陷) 在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。如晶界、表面、堆积层错、镶嵌结构等。第7页,共31页。面缺陷 晶界第8页,共31页。 面缺陷堆积层错面心立方晶体中:抽出型层错(a)、插入型层错(b)第9页
3、,共31页。 面缺陷共格晶面面心立方晶体中111面反映孪晶第10页,共31页。(二)按缺陷产生的原因划分 热缺陷 杂质缺陷 非化学计量结构缺陷 其它:电荷缺陷,辐照缺陷第11页,共31页。 定义:当晶体的温度高于绝对0K时,由于晶格内原子热振动,使一部分能量较大的原子离开平衡位置造成的缺陷,也称为本征缺陷。 弗仑克尔缺陷(Frenkel defect)类型: 肖特基缺陷(Schottky defect) 1. 热缺陷 热缺陷浓度与温度的关系:温度升高时,热缺陷浓度增加。第12页,共31页。弗仑克尔缺陷:(Frenkel defect) 特点:空位、间隙原子成对出现,晶体体积不变 定义:能量足够
4、大的质点离开正常格点后挤入晶格间隙位置,形成间隙质点,而原来位置上形成空位第13页,共31页。 肖特基缺陷:(Shcottky defect) 特点:原子跃迁至表面,体内留下空位;晶体体积增加;正负离子空位成比例、成对出现 定义:正常格点上的质点获得能量后离开平衡位置迁移到新表面位置,而在晶体表面形成新的一层,同时在晶体内部正常格点上留下空位。第14页,共31页。2. 杂质缺陷 定义: 是由外加杂质原子进入晶体而产生的缺陷,亦称为组成缺陷、非本征缺陷。杂质原子的含量一般少于0.1。 类型:置换式杂质原子和间隙式杂质原子 特征: 杂质缺陷的浓度与温度无关。只决定于溶解度杂质缺陷对材料性能的影响第
5、15页,共31页。3. 非化学计量结构缺陷 定义:指组成上偏离化学计量而形成的缺陷。 特点:其化学组成随周围气氛的性质及其分压大小而变化,它是产生n型和p型半导体的基础,为一种半导体材料。 如:n 型半导体第16页,共31页。4. 其它: 电荷缺陷、辐照缺陷 能带理论:非金属固体 电子导电: n 型半导体 空穴导电: p 型半导体 非化学计量缺陷也称电荷缺陷第17页,共31页。 点缺陷的符号表征:Kroger-Vink符号 缺陷反应方程式的写法 热缺陷浓度的计算第二节 点缺陷第18页,共31页。(一)点缺陷的符号表征:Kroger-Vink符号 1. 空位(vacancy) 2. 间隙原子(i
6、nterstitial) 3. 错放位置(错位质点) 4. 置换原子(溶质原子) 5. 自由电子或电子空穴 6. 带电缺陷 7. 缔合中心第19页,共31页。(二)缺陷反应方程式的写法对于杂质缺陷而言,缺陷反应方程式的一般式:第20页,共31页。1. 写缺陷反应方程式应遵循的原则(1)位置关系(2)质量平衡(3)电中性 第21页,共31页。(1)位置关系注意: 在化合物MaXb中,无论是否存在缺陷,其正负离子位置数(即格点数)的之比始终是一个常数a/b,即: 位置增值、表面位置第22页,共31页。(2)质量平衡注:VM不存在质量,下标M只表示缺陷位置 与化学反应方程式相同,缺陷反应方程式两边的
7、质量应该相等。(3)电中性(电荷守恒) 电中性要求缺陷反应方程式两边的有效电荷数必须相等。第23页,共31页。 2. 缺陷反应实例 例:1)写出CaF2加入NaF中的缺陷反应方程式2)写出CaO加入ZrO2中的缺陷反应方程式3)写出Al2O3加入Cr2O3中的缺陷反应方程式(1)杂质(组成)缺陷反应方程式第24页,共31页。基本规律:高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷,为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙负离子。低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷,为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。第25页,共31页。(2)热缺陷反应方程式例:2)AgBr形成弗仑克尔缺陷1)MgO形成肖特基缺陷 一般规律: 当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容易产生弗仑克尔缺陷。第26页,共31页。 在一定温度下,热缺陷是处在不断地产生和消失的过程中,当单位时间产生和复合而消失的数目相等时,系统达到平衡,热缺陷的数目保持不变。 根据质量作用定律,可以利用化学平衡方法计算热缺陷的浓度。(三)热缺陷浓度的计算第27页,共31页。1、弗仑克尔缺陷浓度的计算 化学平衡方法计算热缺陷浓度第28页,共31页。2、肖特基缺陷浓度的计算第29页,共31页。 热缺陷的浓度与缺陷形成自由焓及温度的关系为:第
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