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文档简介

1、真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是 在真空度不低于10-2Pa|的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击 等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振 动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直 接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜（多弧）是利用|气体放电产 生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中 的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。真空蒸发镀膜最常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简 单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质 材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的

2、缺点。电子束加热 上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能， 使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功 率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。（蒸发 镀即电子枪，就是把要用的金属块如铬放到坩埚里面然后加热使其蒸 发，与其中的n2，还有氯气等其他气体，一起吸附在阴极基材上。 温度 380C420C）溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固 体表面（靶）|，使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大 多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子， 离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此

3、 大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即 溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热 阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利 用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间 的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比 较复杂，需要高压装置。（离子溅射技术即多弧，就是用高电压轰击 靶材，靶材就是用我们所要的如CrTi靶，轰击出来直接吸附到基材 上，如果出现溶滴就是没有将靶材完全离子化。420C +此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度*1夷入曰高。壬ffl1 幕城曩膜设备示意图K 3二棣赢射斥就卧&空素缠2祺it y

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