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  • 1995-12-22 颁布
  • 1996-08-01 实施
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GB/T 15861-1995离子束蚀刻机通用技术条件_第1页
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ICS31.200L97中华人民共和国国家标准GB/T15861-1995离子束蚀刻机通用技术条件GenericspecificationT0mbeametchingsystem1995-12-22发布1996-08-01实施国家技术监督局发布

中华人民共和国国家标准CB/T15861-1995离子束蚀刻机通用技术条件Genericspecificationofionbeametchingsystem主题内容与适用范围本标准规定了离子束蚀刻机的术语、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、定存本标准适用于物理溅射腐蚀作用的通用离子柬蚀刻机。其它专用离子束蚀刻机亦可参照执行引用标准GB191包装储运图示标志GB5080.7设备可靠性试验恒定失效率假定下的失效率与平均无故障时间的验证试验方案SJ142电子工业专用设备总技术要求SJ1224真空蒸发设备通用技术条件SJ/T10152集成电路主要工艺设备术语3术语3.1束能量beamenergy表征离子束中离子的动能。单位以电子伏特(eV)计3.2柬流雷度beamcurrentdensity离子束某一指定截面上单位面积所通过的电流强度。3.3有效束径effectivebeamdiameter杠到靶上的束流密度均匀性在土5%以内的束直径范围3.4东流均勾性uniformityofbeamcurrent离子束某一指定截面上各等距测试点间束流密度变化的最大与最小值之差与其之和的比的百分3.5束流稳定性stabilityofbeamcurrent定时间内束流强度变化的均方根值与其平均值之比。3.6蚀刻均勾性etchuniformity被蚀刻材料表层不同点上的蚀刻速率的不一致性。3.7中和器neutralizer产生中和离子束中正电荷的电子发射源。4产品分类按加工工件置放方式分:立式离子束蚀

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