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流行饰品材料及工艺教育部职业教育宝玉石鉴定与加工专业教学资源库GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary氮化钛装饰镀膜建设者姓名：尚颖丽物理气相沉积工艺氮化钛装饰镀膜-磁控溅射技术沉积氮化钛工艺过程磁控溅射技术沉积氮化钛工艺过程：(1)安装工件。将工件安装在工件挂具上后，关上镀膜室。(2)抽真空。开启真空泵，真空度达到6Pa后，开扩散高泵，真空度抽至6×10-3Pa。(3)烘烤加热。开启烘烤加热电源，对工件加热，达到预定温度。(4)轰击净化。向镀膜室充入氩气，真空度保持1~3Pa,轰击电压1000~3000V,工件产生辉光放电，氩离子轰击净化工件，轰击时间10~20分钟。(5)沉积氮化钛。首先沉积钛底层，将工件偏压降低至500V左右，通入氩气，真空度调至0.3~0.5Pa。开启磁控溅射靶电。靶面产生辉光放电，高密度的离子流从靶面溅射出钛原子。接着沉积氮化钛涂层，需通入氮气，真空度在0.5~0.7Pa范围。由于平衡磁控溅射的金属离化率只有5%~10%，金属的活性比较低，获得氮化钛等化合物涂层控的工艺范围(配氮量)比较窄。与辉光放电相比，欲获得优质氮化钛涂层时，必须严格控制钛的溅射量以及氩-氮比。否则沉积速率很低，色泽不好控制。

(6)取出工件。当膜层厚度

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