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文档简介

太阳能电池制造工艺主要内容硅太阳能电池工作原理太阳能电池硅材料硅太阳能电池制造工艺4.提高太阳能电池效率的途经5.高效太阳能电池材料6.高效太阳能电池结构一、硅太阳能电池工作原理

太阳能是人类取之不尽用之不竭的可再生能源。也是清洁能源,不产生任何的环境污染。在太阳能的有效利用中;大阳能光电利用是近些年来发展最快,最具活力的研究领域,是其中最受瞩目的项目之一。

制作太阳能电池主要是以半导体材料为基础,其工作原理是利用光电材料吸收光能后发生内光电效应,将光能转换为电能。根据所用材料的不同,太阳能电池可分为:硅基太阳能电池和薄膜电池,本章主要讲硅基太阳能电池。太阳能电池发电的原理主要是半导体的内光电效应,一般的半导体主要结构如下:图中,正电荷表示硅原子,负电荷表示围绕在硅原子旁边的四个电子。

1.硅太阳能电池工作原理与结构

当硅晶体中掺入其他的杂质,如硼、磷等,当掺入硼时,硅晶体中就会存在着一个空穴,它的形成可以参照下图:

图中,正电荷表示硅原子,负电荷表示围绕在硅原子旁边的四个电子。而黄色的表示掺入的硼原子,因为硼原子周围只有3个电子,所以就会产生入图所示的蓝色的空穴,这个空穴因为没有电子而变得很不稳定,容易吸收电子而中和,形成P型半导体。

同样,掺入磷原子以后,因为磷原子有五个电子,所以就会有一个电子变得非常活跃,形成N型半导体。黄色的为磷原子核,红色的为多余的电子。如下图。

当P型和N型半导体材料结合时,P型(N型)材料中的空穴(电子)向N型(P型)材料这边扩散,扩散的结果使得结合区形成一个势垒,由此而产生的内电场将阻止扩散运动的继续进行,当两者达到平衡时,在PN结两侧形成一个耗尽区。PN结的形成及工作原理

零偏负偏正偏

当PN结反偏时,外加电场与内电场方向一致,耗尽区在外电场作用下变宽,使势垒加强;当PN结正偏时,外加电场与内电场方向相反,耗尽区在外加电场作用下变窄,势垒削弱。当光电池用作光电转换器时,必须处于零偏或反偏状态。

硅光电池是一个大面积的光电二极管,它可把入射到它表面的光能转化为电能。当有光照时,入射光子将把处于介带中的束缚电子激发到导带(光生伏特效应),激发出的电子空穴对在内电场作用下分别漂移到N型区和P型区,当在PN结两端加负载时就有一光生电流流过负载。光电池结构示意图半导体的内光电效应

当光照射到半导体上时,光子将能量提供给电子,电子将跃迁到更高的能态,在这些电子中,作为实际使用的光电器件里可利用的电子有:

(1)价带电子;(2)自由电子或空穴(FreeCarrier);(3)存在于杂质能级上的电子。

太阳电池可利用的电子主要是价带电子。由价带电子得到光的能量跃迁到导带的过程决定的光的吸收称为本征或固有吸收。

太阳电池是将太阳能直接转换成电能的器件。它的基本构造是由半导体的PN结组成。此外,异质结、肖特基势垒等也可以得到较好的光电转换效率。

太阳电池能量转换的基础是结的光生伏特效应。当光照射到p-n结上时,产生电子一空穴对,在半导体内部结附近生成的载流子没有被复合而到达空间电荷区,受内建电场的吸引,电子流入n区,空穴流入p区,结果使n区储存了过剩的电子,p区有过剩的空穴。它们在pn结附近形成与势垒方向相反的光生电场。光生电场除了部分抵消势垒电场的作用外,还使p区带正电,N区带负电,在N区和P区之间的薄层就产生电动势,这就是光生伏特效应。此时,如果将外电路短路,则外电路中就有与入射光能量成正比的光电流流过,这个电流称作短路电流;若将PN结两端开路,则由于电子和空穴分别流入N区和P区,使N区的费米能级比P区的费米能级高,在这两个费米能级之间就产生了电位差VOC。可以测得这个值,并称为开路电压。由于此时结处于正向偏置,因此,上述短路光电流和二极管的正向电流相等,并由此可以决定VOC的值。光生伏特效应

当晶片受光后,PN结中,N型半导体的空穴往P型区移动,而P型区中的电子往N型区移动,从而形成从N型区到P型区的电流。然后在PN结中形成电势差,这就形成了电源。硅太阳能电池结构另外轮硅表栽面非批常光胀亮,拌会反绍射掉斯大量倾的太炊阳光护,不药能被榴电池荡利用女。为杰此,丛科学遮家们暂给它断涂上什了一俩层反射菊系数牌非常眉小的闻保护娱膜(如级图)抛,实剩际工迫业生瞧产基邀本都绕是用腔化学妻气相烫沉积古沉积浮一层氮化忌硅膜,厚文度在游10再00佩埃左页右。镰将反巡寿射损楼失减钱小到味5%海甚至哨更小聪。一险个电腥池所教能提夹供的峡电流老和电刺压毕贺竟有业限,鸡于是歉人们扒又将肯很多赵电池介(通蒜常是郑36决个)并联豆或串区联起色来使无用,殊形成看太阳孙能光捷电板蛋。由于赌半导丽体不乎是电熄的良泉导体柄,电纱子在岔通过历p-熔n结涛后如除果在菠半导察体中逆流动身,电杰阻非擦常大备,损若耗也诱就非蚁常大螺。但费如果忠在上库层全惩部涂污上金糊属,不阳光乌就不码能通话过,击电流黑就不放能产涝生,疑因此职一般齿用金属重网格济覆盖注p-校n结(如帖图急梳状屋电极鼠),识以增寒加入模射光决的面低积。梳状棉电极勺和抗毒反膜二.寸太阳尝能电附池的何硅材墨料通常洞的晶杰体硅尾太阳华能电大池是苹在厚毯度3昼00述~3纪50峰μm蛮的高鼓质量响硅片惊上制界成的泳,这虹种硅张片从友提拉相或浇贸铸的讯硅锭夸上,喘将单取晶硅合棒切腿成片争,一胖般片辆厚约谁0.怖4~抽0.揪45磁毫米害。硅销片经盗过切重、抛日、磨丘、清送洗等扰工序施,制哭成待样加工液的原唇料硅柳片。太阳拨能硅冈的杂茄质浓娃度较伐高,豪一般兽要求透5个悄9的从纯度酷(9液9.素99誓9%蝴),毕比集势成电迁路用理的单贵晶硅蛾(浸纯度宋要求字7-历8个义9)菜要求贫低得客多。旧太阳请能硅弄常用0.时3~敬2Ω·c闸m的P梯型(胜10拦0)较单晶般硅片餐。制造寄太阳掠电池文片,屿首先舒要对推经过进清洗粱的硅掘片,覆在高含温石艳英管膝扩散偶炉对诸硅片涌表面趟作扩厌散掺乖杂,拌一般耻掺杂忆物为见微量省的硼央、磷释、锑较等。岸目的飞是在灿硅片柔上形碗成P哄/N叶结。备然后羽采用次丝网间印刷烛法,索用精碗配好啄的银烟浆印总在硅捕片上状做成慰栅线乳,经哈过烧烧结,败同时精制成商背电该极,隆并在爽有栅递线的框面涂正覆减蠢反射仙膜屡,单筹晶硅沫太阳奏电池闸的单斥体片签就制取成了面。单虽体片诸经过咱检测朝,即相可按雹所需沫要的胖规格滥组装销成太摸阳电批池组遣件(刮太阳磁电池俯板)压,用火串联者和并菜联的陡方法桌构成孝一定涛的输保出电元压和循电流邮。最令后用伞框架州和装叼材料忆进行叉封装肌,组爽成各栋种大影小不篇同太催阳电社池阵光列。描目前但大规吊模生跪产的毅单晶迹硅太炭阳电筑池的肝光电仁转换蚕效率准为1誓4~锣15挥%左普右,灶实验奏室成欠果也伐有2宗0%馅以上臭的。堤常州优天和幕光能防和无护锡尚后德的争转换仪效率驻在1郊4.泡5%慕,常嘱州盛叙世太俯阳能计公司附有9骑0%冷可做滤到1同6.庭2%话以上讨。三、沾硅太罪阳能肉电池伟制造市工艺硅太席阳能芹电池徒制造构工艺硅太戏阳能高电池愿制造吩工艺娃主要模包括槽:1.促去专除损皆伤层雹2邻.童表面模绒面隔化膏3.触发想射区苏扩散4.似边屈缘结芬刻蚀四5乏.堆PE骂CD鹊V沉尤积S送iN争6壶.适丝网料印刷虎正背丝式面电萌极浆桶料绩7.相共成烧形枪成金鸽属接钉触用8.荷电茄池片萝测试亡。表面小绒面暖化由于卖硅片笔用P脂型(页10遣0)熊硅片启,可每利用上氢氧量化钠症溶液弹对单笔晶硅痛片进吗行各陆向异糟性腐敞蚀的宝特点姓来制满备绒梨面。的当各品向异脸性因裹子>晒10坊时(拢所谓梦各向掠异性纱因子愁就是倍(1歉00罚)面诸与(陶11朽1)膊面单功晶硅狸腐蚀掘速率疲之比夺),网可以办得到券整齐茂均匀国的金纱字塔蹈形的翁角锥贵体组坡成的爹绒面步。绒面泽具有烛受光砍面积聋大,恶反射话率低圾的特氏点。钞可提满高单刮晶硅热太阳烘电池远的短举路电灵流,锋从而基提高报太阳旷电池庙的光彼电转浑换效评率。金字铅塔形爬角锥砖体的勇表面想积S迅0等白于四贫个边咬长为拾a正绩三角赠形S烧之和由此惩可见桶有绒壁面的四受光归面积钩比光惩面提躬高了略倍即纠1.苍73膛2倍袭。绒面间受光零面积当一妇束强举度为拒E0序的光覆投射真到图候中的稼A点盲,产纽奉生反谷射光捐Φ1和进从入硅厅中的烧折射清光Φ2。反涝射光粘Φ1可以朵继续称投射熔到另依一方军锥的趋B点缝,产误生二您次反测射光扶Φ3和进黑入半呼导体草的折麦射光妹Φ4;而尝对光籍面电齐池就勉不产妄生这授第二堤次的熔入射踩。经裙计算惠可知傍还有权11步%的泄二次爽反射状光可盖能进近行第蹦三次且反射刑和折境射,发由此站可算触得绒剧面的剂反射境率为罢9.棍04裳%。绒面闻反射拥率由于假原始幼硅片东采用商P型够硅,灵发射旁区扩苹散一忧般采药用三欧氯氧躲磷气啊体携麦带源巩方式轿,这腔个工六艺的徐特点纷是生遭产高疤,有肚利于限降低铸成本推。目辜前大悼型的验太阳筑能厂亭家一愤般用准8吋逐硅片照扩散券炉、低石英篮管口辉径达扎27搭0m宁m,状可以雨扩散册15逐6×鸽15肿6(先mm叮)的建硅片诉。由于偶石英生管口托径大社,恒忆温区电长,第提高刊了扩讽散薄拳层电浪阻均兆匀性偏;因帽为采狱用磷用扩散谈,可凯以实挺现高叛浓度盖的掺睬杂,围有利事于降会低太缘瑞阳电舒池的米串联酒电阻车Rs樱,从犁而了恋提高证太阳拌电池宴填充胀因子恭FF盲。扩售散条培件为逆88吗0ºC,10犹分,另得到最的P架-N知结深老约0被.1寒5m资。发射糕区扩稻散Si状N钝悔化与看AP株CV移D淀玻积T锡iO2先期别的地扮面用堪高效鹿单晶到硅太虹阳电板池一左般采替用钝追化发楼射区筛太阳旦电池篮(P汽ES泄C)肌工艺陷。扩御散后斧,在仿去除兔磷硅氧玻璃侨的硅猾片上哀,热拳氧化塔生长除一层10除nm成~2披5n畅m厚S认iO2,使垒表面岔层非斤晶化戏,改泊变了德表面协层硅翼原子辟价键棒失配板情况刚,使城表面爪趋于集稳定踏,这托样减享少了育发射坦区表违面复举合,铸提高省了太竿阳电罪池对罢蓝光骗的响店应,漠同时桃也增仓加了熟短路稳电流控密度恭Js逐c,乘由于挤减少嘉了发猎射区羡表面痛复合岛,这喝样也深就减夏少了污反向仰饱和扮电流俭密度损,从黄而提仅高了壳太阳叉电池砌开路捐电压野Vo前c。呢还有应如果桌没有乞这层阴Si怀N,米直接饶淀积畅Ti坚O2薄膜楚,硅筛表面贡会出躲现陷框阱型妙的滞肚后现尖象导喊致太盆阳电肤池短毙路电妥流衰拍减,聋一般话会衰昨减8惕%左欺右,木从而些降低街光电乎转换导效率遗。故散要先雄生长趣Si择N钝漆化再材生长悔Ti轮O2减反编射膜卵。合T勺iO2减反图射膜倍是用浆AP民CV语D设际备生窃长的熊,它闪通过暂钛酸好异丙喘脂与米纯水犹产生恐水解忠反应讽来生巷长T摄iO2薄膜皮。多晶闷硅太友阳电辽池广使泛使揪用P族EC母VD仔淀积荒Si您N螺,由秘于P遵EC苗VD客淀积旷Si进N时衔,不飞光是挣生长旬Si落N作峰为减泛反射内膜,绕同时仆生成迫了大刊量的伴原子套氢,跌这些咱氢原置子能但对多膛晶硅东片具斗有表誓面钝骂化和壤体钝笑化的根双重封作用策,可棒用于矮大批伪量生宣产高黎效多犹晶硅怪太阳欠电池觉,为痰上世追纪末弦多晶脾硅太构阳电找池的救产量粘超过匹单晶字硅太过阳电守池立页下汗付马功石劳。壶随着创PE舌CV短D在浓多晶荐硅太贺阳电尽池成兆功,哄引起针人们娘将P路EC滑VD闪用于翼单晶交硅太惧阳电慢池作藏表面逮钝化窃的愿呜望。第由于辆生成植的氮私化硅索薄膜净含有驳大量途的氢烧,可喷以很白好的僵钝化暂硅中刑的表罢面悬贸挂键他,从或而提纱高了秀载流尚子迁叼移率浑,一奥般要誉提高箩20阴%左鞋右,封同时访由于汁Si抹N薄贝膜对酿单晶玻硅表讯面有窑非常寻明显潜的钝喷化作蒜用。属经验啊显示蛾,用惑PE睛CV纵D睬Si都N作连为减登反膜益的单甚晶硅没太阳煎电池皱效率行高于箭传统虏的A害PC妈VD呼T字iO2作减花反膜务单晶甘硅太柿阳电朽池。闸Si您N减竹反膜呆的厚周度约均75nm,折蜡射率茂可高叨到2逼.1劝(富辩硅)呀。PE代CV绕D淀藏积S红iN晶体乡丰硅太很阳电显池要异通过仿三次惹印刷马金属寄浆料秆,传归统工碌艺要朋用二幻玉次烧壤结才严能形北成良惹好的编带有殊金属魂电极队欧姆佣接触葬,共烧扩工艺威只需渴一次钞烧结隐,同彩时形犬成上婚下电欠极的回欧姆工接触饮,是但高效壤晶体章硅太浑阳能丧电池稳的一旨项重绞要关博键工倒艺。该雀工艺丑的基糖础理荣论来仙自合咏金法很制P决-N量结工碌艺。螺当电朴极金照属材耕料和直半导驾体单铅晶硅挪在温库度达气到共扒晶温施度时闪,单借晶硅窗原子旧按相施图以帮一定刑的比芦例量草溶入宪到熔宜融的烈合金重电极害材料粘。单漏晶硅旋原子俯溶入标到电适极金投属中秆的整拘个过买程相特当快教,一缘瑞般只廊需几红秒钟偶。溶橡入的团单晶秒硅原妄子数影目决败定于特合金亡温度慌和电本极材刊料的栽体积询,烧挖结合崭金温闷度愈本高,屑电极据金属谁材料略体积烫愈大档,则哲溶入陈的硅凑原子补数目唐也愈鸦多,游这时桐状态乳被称支为晶猎体电配极金免属的兰合金武系统堂。如欣果此苗时温欲度降棒低,肿系统线开始递冷却鞋,原跨先溶牲入到择电极笑金属产材料仓中的染硅原夕子重社新以绞固态榴形式跪结晶报出来本,在懂金属祝和晶工体接骨触界球面上客生长掘出一搞层外赴延层问。如祸果外潮延层纸内含枕有足壁够量歇的与阴原先团晶体浩材料棋导电话类型岂相同毕杂质护成份炉,就板获得牲了用偿合金评法工跃艺形灯成的毒欧姆虽接触纯;如岸果再产结晶落层内漠含有惭足够必量的位与原乡丰先晶匀体材吊料导幕电类坏型异盗型的阶杂质尤成份建,这图就获煮得了却用合挡金法涝工艺奥形成油P-葱N结史。共烧昼形成什金属角接触银桨礼、银逢铝桨开、铝烈桨印经刷过资的硅池片,蹦通过狮烘干炉,使映有机桥溶剂介完全尸挥发排,膜滴层收钓缩成岛为固棉状物坑紧密斑粘附拢在硅输片上潮,这愈时,瘦可视迫为金随属电断极材创料层侧和硅或片接混触在拳一起舟。所韵谓共帐烧工拴艺显基然是出采用宜银-诸硅的旦共晶橡温度临,同依时在谎几秒牲钟内仪单晶鸣硅原之子溶演入到锤金属桥电极翁材料殖里,续之后勾又几雀乎同俭时冷彻却形始成再吼结晶刺层,牙这个达再结惰晶层盲是较隙完美惠单晶掘硅的裳晶格桃点阵娘结构赌。只市经过歼一次榨烧结皇钝化将的表产面层筹,氢谁原子受的外乒释是经有限栋的,华共烧飞保障的了氢夸原子妈大量粘存在军,填属充因穗子较怪高,族没有裳必要茅引入浑氮氢昂烘焙剖工艺阻(F恳GS他)。电池刘片测零试主要牙测试谋太阳寇电池贸的基想本特穷性:开路法电压VOC、短剑路电体流ISC、填恩充因攀子F仍F、栏能量脑转换愚效率遭η。FF摊为电劳池的刃填充醉因子除(F鼓il趣l悟Fa薄ct殊or弄),手它违定义其为电愤池具宝有最诊大输至出功聋率(昂Pop,)吹时的灾电流王(IOp肠t)和辈电压防(Vop傲t)的地乘积守与电环池的捐短路役电流冻和开炊路电乐压乘握积的胸比值马,哭较高绍的低短予路筋电流勾和开锤路电绞压是榨产生居较高蠢能量陵转换视效率密的基泡础。阀如果隶两个完电池槐的短炒路电烫流和跃开路见电压畏完全锹相同骄,制涛约其厅效率亭大小暑的参蔽数就趴是填糠充因桐子。能量志转换赢效率定是光菜电池臭的最趟重要暴性能渗指标稀,它姿为光祥电池晕将入道射光双能量撑转换你成电跃能的拔效率偶。光电啊池的矮测试障电路PN予结两炸端的拒电流光电穗池处授于零朝偏时苏,V=0蝇,流礼过P被N结伟的电焦流I=-IP;光霉电池剃处于逗反偏阳时,钢流过效PN督结的屡电流I=-IP-顺Is,当复光电灯池用献作光四电转嫌换器磁时,逢必须济处于考零偏罪或反拿偏状贫态。光电描流IP与输映出光成功率Pi之间炎的关脆系:R为响以应率特,R值随庆入射讯光波团长的狐不同极而变珠化,颗对不清同材时料制告作的注光电匹池R值分萍别在沈短波辛长和近长波居长处墙存在占一截拔止波和长。光电柄池的悟伏安虑特性下图眼显示哗了光翁电池笔的典悟型I绵-V而曲线意。Pm为最悔大功惊率点棋。它绢的确冬定可窃用从兼光电靠池I效-V途曲线馋上任斤意点漫向纵款、横遵坐标僻引垂朵线,贷垂线才与坐践标轴薪保卫花面积俱最大雾的点甩即为桐Pm。根据回该特宴性曲索线可编以确亮定光果电池乌的开路撑电压盒、短解路电剥流。太阳湾电池它的短绸路电愁流等怪于其垫光生主电流鼠。决烈定短诵路电私流的臂因素枕很多烟,分按析短悉路电算流的正最方浪便的膝方法烦是将腊太阳灰光谱甘划分湿成许激多段各,每施一段讯只有悔很窄尾的波棋长范厅围,绑并找图出每膝一段楼光谱还所对尖应的教电流衔,电塞池的悦总短量路电姓流是扛全部躲光谱殖段贡误献的朗总和帖。负载脑特性四、皂提高疑太阳骨能电菊池效待率的走途经在硅编太阳例能电姜池的穿制造确历史付中已连经采锐用过派许多粥措施损来提荷高太民阳能众电池声的光舞电转画换效堵率,泊并且慨随着佳能源裁的不畅断消夕耗,萍高效梅太阳么能的链研究忌正热唯火朝分天地降进行执。主获要针消对:1.败降低后光电娇子的迷表面肤复合师,如勉降低披表面虑态等溉;2.励降低吹入射林光的最表面锁反射骨,用鼻多种帝太阳群光减扫反射排技术灾,如御沉积减反逗层、吴硅片牙表面圈织构抖技术锁、局密部背走表面男场技阁术,仅最大析限度地减鬼少太宁阳光聋在硅类表面宵的反摇射;3.穷电极厚低接挪触电考阻和枯集成严受光仅技术粥,如瘦激光炭刻槽异埋栅都技术喷和表面浓站度扩针散技泄术,麦使电脂极接坐触电次阻低王和增京加硅御表面肠受光诞面积器。4.颤降低办P-印N结携的结影深和晶漏电舰;5.旦采用躺高效纳廉价璃光电贞转换难材料付;后面徐主要死介绍宪高效坐太阳灰能电耍池材劝料和糠结构纽奉。五、六高效宴太阳零能电掀池材握料1.拉多眯晶硅单晶元硅太躺阳能奴电池愁消耗荐的硅扮材料摘很多哄。为枯了节劝省材仙料,盘目前锤发展多晶洗硅薄嫌膜电崖池。采步用化学县气相间沉积次法,包抬括用晚LP括CV复D和胀PE贺CV筒D工旬艺制价造多野晶硅耍薄膜灿。此烂外,扑液相听外延辰法(端LP夺PE仅)和返溅射涌沉积艰法也详可用逼来制验备多俩晶硅炭薄膜偶电池古。化学夕气相塞沉积夕主要红以S农iH2Cl2、S盗iH微Cl3、S撞iC瓶l4或S禽iH4,为缎反应柱气体颜,在遥一定欣的保散护气奖氛下秒反应土沉积麻在加辉热的锹衬底俯上,耻衬底敏材料墓一般绿选用绢Si掘、S某iO2、S授i3N4等。沿但在渡非硅搜衬底灶上很剩难形快成较穗大的罚晶粒锡,且白容易险在晶裕粒间筒形成醋空隙冬。解东决办会法是先用硬L闻PC举VD涛在衬紫底上解沉积角一层控较薄储的非嗽晶硅子层,陆退火途后得就到较昼大的担晶粒谈,然碗后再穿在这困层籽秃晶上薄沉积恨厚的访多晶股硅薄刻膜。因转此,近再结享晶技场术是么很重区要的殃环节请,目貌前采愤用的纸技术崭主要剧有固瓶相结桂晶法菊和区形熔再哈结晶肿法。映多晶义硅薄暮膜电尽池除林再结筛晶工芬艺外循,采孟用单快晶硅唐太阳个能电卷池的迟所有新技术拌,德释国人葵用区找熔再寄结晶窝法制止得电献池的顷效率昆高达谎19呆%,罗日本访三菱斩同法床制得坚得效醒率为炮16奔.2潮%2.敞非手晶硅药薄膜开发户太阳议能电少池的差两个步关键似是:提高刘转换丢效率炭和降旦低成茶本。由寸于非刚晶硅育薄膜清成本京低,哈便于蕉大量管生产银,受强到普孟遍重恰视并奋得到桂迅速蜡发展帜。但非晶鸟硅光胞学带载隙为别1.猛7e梢V,对太作阳辐铸射光盯谱的散长波浓区域壶不敏挨感,这米就限欢制了厕非晶芬硅太替阳能面电池厚的转拿换效竹率。贱此外句,其光亏电效睛率会腥随着默光照巡寿时间焦的延撑续而戏衰减,即绩光致罚衰退均S一团W效惭应,暗使电姥池性熟能不婆稳定青。解决唐途径叼就是等制备敞叠层恩太阳垫能电锈池。叠震层电胆池是号由在租制备阳的p、尼i、雅n层单扭结电垂池上逗再沉验积一春个或做多个P-惭i-桑n子电朱池制浴得的书。叠柏层太麻阳能夹电池两提高蛙转换狐效率善、解都决单案结电佣池不怕稳定肠性的怖关键额问题届在于喘:①晋它把陡不同拍禁带扩宽度宫的材锯科组吉台在此一起扑,提垒高了说光谱压的响趟应范柏围;代②顶蚕电池班的i层较臣薄,吵光照窝产生拔的电永场强筝度变评化不痕大,日保证i层中顾的光阳生载午流子沈抽出缴;③执底电化池产颤生的干载流乳子约迹为单鱼电池跪的一召半,恳光致届衰退岔效应爪减小租;④伪叠层言太阳霸能电串池各火子电酱池是驴串联柿在一意起的。非晶莲硅薄窑膜太颈阳能窃电池毕的制腥备方输法有竹很多柜,其岭中包制括反桐应溅厘射法条、P统EC神VD催法、赤LP锦CV彩D法纽奉等,垮反应托原料违气体吧为H2稀释抹的S也iH4,衬蜘底主喉要为脂玻璃只及不客锈钢彼片,层制成刷的非普晶硅谨薄膜葵经过亏不同待的电葵池工怒艺过劈燕程可刺分别忘制得发单结叮电池池和叠棍层太据阳能买电池堆。目撇前非辫晶硅段太阳蹦能电春池的移研究面取得准两大脸进展攀:第闻一、狠三叠陡层结久构非境晶硅残太阳解能电江池转暮换效猾率达果到1呜3%立,创太下新许的记听录;练第二秆、三牢叠层异太阳至能电台池年姐生产闸能力狸达5狐MW帽。非晶趴硅太左阳能脖电池机由于稳具有冤较高脑的转现换效未率和贝较低号的成泻本及天重量披轻等湾特点莲,有街着极汪大的额潜力杏。但所同时物由于明它的街稳定佛性不秒高,得直接龙影响猜了它译的实闭际应猎用。辜如果稳能进墓一步勇解决咳稳定惹性问诊题及齿提高乘转换倘率问绞题,刺那么怠,非贴晶硅流大阳爱能电翻池无材疑是芹太阳桃能电委池的暴主要阵发展记产品犁之一辟。3.引多愿元化言合物瘦薄膜为了折寻找认单晶阶硅电挣池的床替代秧品,订人们点除开派发了趁多晶距硅、初非晶朵硅薄索膜太似阳能抱电池蔑外,加又不偏断研锁制其私它材舍料的纺太阳甘能电邻池。启其中配主要迟包括赖砷化请镓I蹦II葱-V嫌族化灵合物富、硫概化镉目、硫怎化镉仗及铜惊锢硒湖薄膜洞电池旧等。得上述逗电池丢中,融尽管垄硫化诸镉、漆碲化准镉多砌晶薄花膜电评池的蹄效率滑较非渠晶硅协薄膜亦太阳缴能电艺池效密率高哭(1雹2-斯13管%)股,成睛本较混单晶尾硅电呀池低妹,并艺且也额易于醒大规盘模生陈产,配但由品于镉对有剧顶毒,旷会对衰环境算造成区严重烂的污姻染,称因此垃,并小不是托晶体撤硅太武阳能它电池脸最理叶想的膜替代形。趟砷化家镓I堪II市-V晓族化钓合物营及铜技铟硒挎薄膜私电池顶由于别具有洞较高传的转烟换效幻玉率受案到人敬们的吉普遍通重视遍。G邮aA侧s属援于I既II盖-V次族化诉合物皮半导酷体材助料,酱其能敞隙为外1.剖4e傍V,到正好坊为高阅吸收肠率太杨阳光傅的值仪,因层此,启是很布理想哑的电艘池材层料。岗Ga赵As撞等I镇II乱-V凯化合雪物薄沟膜电警池的孩制备墓主要汤采用盲M外OV姿PE之和L姑PE柏技术帮,其蚀中M普OV银PE拾方法灰制备登Ga括As厅薄膜乓电池卡受衬虽底位界错、谷反应抄压力嚼、I蒸II蚁-V评比率腐、总举流量痒等诸慢多参洞数的国影响冤。棍除G兄aA渴s外偷,其起它I汪II碍-V笔化合气物如茫Ga点sb恢、G籍aI筐nP出等电池老材料袖也得阻到了绿开发鹿。19酸98赖年德欢国费腾莱堡回太阳鸦能系荐统研拍究所透制得许的G鹿aA出s太驰阳能袍电池虎转换缝效率厅为2鸣4.塞2%钞,首建次制皱备的挠Ga腊In桐P电骄池转眯换效牢率为越14徐.7困%.握另外霜,该之研究哭所还狠采用词堆叠花结构艰制备侨Ga钢As毅,G卵as端b电贝池,姓该电滥池是疑将两圾个独以立的而电池朵堆叠抵在一状起,驶Ga沟As限作为征上电驳池,配下电绪池用优的是院Ga燥sb嫩,所稿得到耳的电农池效打率达愉到3租1.跑1%膀。洪铜铟蠢硒C荡uI呢nS很e2简称沸CI输S。张CI燃S材由料的汁能隙桥为1枣.l牙eV隔,适壁于太与阳光呢的光唇电转帖换。老另外闭,C良IS茂薄膜皆太阳初电池胀不存先在光德致衰疏退问逼题。咐因此胆,C蛇IS掘用作逼高转腊换效容率薄觉膜太窑阳能歪电池砖材料僚也引窃起了歼人们霜的注括目。句C笛IS塞电池外薄膜蛋的制熄备主饱要有取真空毅蒸镀晋法和疗硒化星法。姻真空艺蒸镀袋法是枪采用匠各自初的蒸淋发源归蒸镀狸铜、卖铟和劝硒,延硒化矿法是街使用湾H2Se激叠层杂膜硒撕化,绕但难而以得喝到成页分均晕匀的汉CI爆S。茅CI灰S薄私膜电茂池的栗转换录效率宵将达阳到2追0%僵,相胁当于壮多晶丈硅太事阳能觉电池秘。虽CI我S作嘱为太眉阳能永电池票的半掏导体月材料疫,具姓有价拿格低咱廉、炉性能雕良好决和工享艺简螺单等垃优点完,将热成为惧今后今发展喜太阳搂能电射池的蛙一个踩重要稠方向专。唯锁一的杀问题贼是材王料的疯来源拘,由蜂于铟剖和硒险都是简比较浆稀有带的元运素,鹅因此华,这赏类电决池的紫发展养又必椅然受攀到限宇制。铜铟阁硒(财CI划S)库薄膜哥太阳蕉电池兴性能山优异亚,被纱国际玩上称绣为下市一代莫的廉撑价太寨阳能肢电池皱。吸引过世界桐众多煌的光怖伏专届家进鸦行研升究开慌发。锹由于搞铜铟炼硒电勤池是侍多元徐化合忠物半利导体征器件且,复疏杂的零多层篮结构辜和敏殊感的万元素亚配比葵,要夫求其如工艺塞和设岔备极黑其严要格。湖太阳雅电池端光电恶转换包效率非是代葬表材岛料性斤能、例器件局结构娘、制斯备技其术、类工艺枯设备专和检厦测手识段等俊综合披性整烫体水导平的斩标志糟性指酱标,泛世界唐上只挤有四愉个国豪家开涨发出文这种古单体支电池莲和集据成组散件,传美、匹日、迟德三都国完馋成了圆中试哗线的歌开发克,尚遇未实私现商蚕品化庄。采用诸Cu泼In饲Ga泳Se量多另元复扁合薄跪膜,肃也可悼生产仆高效垄太阳压能电雹池。喂薄膜沾是通以过在凭玻璃此/M桃o基菠材上淹通过剂物理莫气相桑淀积零铜和铺硒或宏铟和壁硒并劫调整抢该薄槽膜的辫最终灾化学府计量狂比C嫌u=1趣~1酸.2∶(特In趴,G私a)乐=1煌~1弟.2窝:徒Se何=价2墓~2赖.5侨。4.蛾聚庆合物只薄膜以聚摔合物竖代替嫩无机园材料障是太发阳能库电池食制造压的方欺向。晓其原帜理是钓利用债不同锤氧化鱼还原得型聚调合物留的不迈同氧兆化还晕原电搬势,阻在导碌电材姓料(扯电极阴)表葵面进猫行多尘层复丘合,思制成秀类似裕无机P-修N结的狂单向借导电黄装置竖。其吵中一紧个电交极的洁内层吊由还定原电涨位较卫低的饼聚合亲物修撕饰,险外层睡聚合幼物的粮还原沙电位关较高喘,电尊子转肯移方俗向只息能由厕内层荷向外请层转返移;膝另一泛个电挪极的羞修饰短正好讯相反唱,并全且第役一个沃电极疑上两里种聚衡合物榨的还中原电乓位均堂高于女后者眉的两外种聚畏合物垒的还讽原电深位。平当两临个修棍饰电刺极放额入含徐有光秃敏化紧剂的碍电解罩波中草时.佳光敏捕化剂零吸光唯后产愤生的窗电子晚转移肆到还牺原电具位较漏低的腔电极境上,抹还原奔电位酸较低坡电极匹上积顽累的殖电子泊不能乐向外袭层聚捏合物雨转移势,只季能通阵过外唐电路比从还林原电迫位较犯高的战电极案回到哥电解港液,忍因此铲外电利路中趋有光悬电流真产生享。由而于有旁机材龄料柔木性好爹,成匙本底魄,对载大规迟模利仔用太斤阳能言,提碌供廉灵价电委能具将有重哑要意狱义。找但以莫有机井材料艳制备脱的太挖阳能消电池祸使用禾寿命王和效抹率都纽奉不能无和无辆机材蚀料特劲别是垮硅电救池相茶比。近来指报道傻,日舍本产爬业技衔术综渗合研挑究所必已经汗研制竹出目盲前世缝界上扑太阳咐能转块换率勾最高期的有铺机薄奶膜太甜阳能钥电池业,其绢转换远率已勒达到蚕现有抽有机士薄膜摘太阳吼能电哗池的级四倍蚊。报道夜说,箱此前怜的有拢机薄均膜太敲阳能随电池摸是把阴两层龄有机迟半导凤体的箭薄膜改接合孙在一六起,历其太厦阳能返到电叹能的箩转换漠率约决为1础%。桶新型后有机载薄膜替太阳宅能电概池在叮原有晶的两怠层构社造中劲间加河入一遇种混搬合薄尝膜,报变成展三层翅构造爆,这刊样就侦增加吐了产态生电维能的鸭分子嫌之间禽的接狡触面寺积,独从而宜大大段提高棒了太艇阳能倘转换为率。有机廊薄膜怪太阳时能电强池使到用塑粱料等早质轻气柔软畅的材爹料为周基板质,因鸭此人蕉们对蜓它的坊实用嘱化期使待很旨高。州研究附人员肆表示觉,通使过进欠一步从研究级,有催望开校发出旁转换佩率达做20证%、塑可投帖入实请际使肯用的牌有机秀薄膜仰太阳仪能电疯池。5.槽纳砖米晶滑材料人们卷在新轿工艺峡、新镰材料具、电羡池薄亩膜化棉等方犁面的食探索描中,尼纳米轮Ti狐O2晶体哈化学医能太哈阳能偷电池迹受到私国内窜外科遇学家追的重雀视它缩慧由瑞颂士G红ra岭tz侄el蛾教授策首先行研制丢成功忙。纳寻米晶陆化学改太阳嫌能电民池(狡简称陡NP悼C电有池)烟是由纺一种梅在禁梳带半叮导体联材料咳修饰师、组怠装到袋另一江种大枯能隙才半导屋体材馋料上弦形成月的,工窄禁逐带半垒导体包材料锯采用境过渡条金属弃Ru冻以及决Os辣等的都有机特化合山物敏眯化染他料,袜大能肆隙半备导体吧材料鲜为纳圾米多样晶T躲iO2并制残成电常极,乘此外括NP顷C电晃池还给选用飞适当披的氧安化一拣还原馅电解集质。闭纳米极晶T使iO2工作奸原理咬:染艇料分她子吸尾收太掠阳光钢能跃景迁到案激发戚态,景激发软态不歉稳定仔,电剪子快朗速注舍入到病紧邻槽的T稿iO2导带折,染披料中店失去记的电鹿子则朴很快螺从电宗解质赢中得束到补泊偿,泄进入龄Ti滑O2导带芒中的欠电于适最终累进入睬导电壮膜,盈然后啄通过岁外回逮路产辽生光栽电流健。盖纳米煎晶T团iO2太阳友能电假池的胁优点脸在于房诚它廉狭价的载成本炼和简谨单的境工艺鱼及稳枯定的参性能盏。其郑光电寸效率唇稳定裳在1许0%笑以上镜,制孟作成测本仅铲为硅筹太阳隆电池殖的1互/5侧~1泼/1斗0.父寿命蹄能达扛到2洪O年稳以上市。还饰未面染市。6.降光昼电子跳倍增祸材料对普额通光并电材茅料,环一个颠光子眉入射抱只能总产生似一个拘光电昂子,民如果章一个虹光子烦入射狡能产靠生多泽个光盒电子这,可搜以称仍为光摧电子戏倍增允材料都。美国量国家米可再摩生能元源实忘验室颜发现迹:纳陡米晶严体硅床每吸登收一窃个高钩能太经阳光番光子抽便能软产生竟2~色3个谦电子妹,额触外的麦电子哲来自首蓝光犯和紫泽外光讲的光厘子,推这两锋种光饲线的乖能量职比太薯阳光为谱中怀其它物光线奶高得摇多。谊大多氧数太政阳能拾电池轰都把肿这额植外的戚能量组作为叮热量残而浪相费了昌。小汽的纳纵米晶滨体(衡量子饲点)段具有污量子架力学抬效应代,能冠将这临些能查量转壮化为践电能厚。堤通过牙产生糖多个航电子押,由纳米鹊晶体省硅制刑成的耗太阳窝能电摩池理慕论上的可以厌到4王0%应以上阴的能酱量转姐化为腊电能承。而宪目前乖太阳览电池货板的础转化殊效率详最多执为2派0%欺(理港论上炒限2夏7.阅8%骄)。巴借助哈反射擦镜、鼻透镜雾聚集税太阳款光,饿效率存可达房诚40忠%,备而纳辩米晶菊体硅职电池船则可经升至嫌60印%。因此商对于昌光电潜材料咽的发深展,击纳米乘晶体匪硅极州具应门用潜麻力。然而耍,该宫工作广刚开京始,对额外森电子耕出现估的时眠间十运分短呜暂,除很难娇捕获余进行键发电灿。证昼明这浇种效下应需际借助叠光谱市学等集间接黄方法票。六、锻高效年太阳至能电伞池结曾构叠层吊结构如前誉所述谎,包瞒括多坐层电撞池和派多层潜薄膜虽。每炎一种沸半导誉体只听能吸普收与东“能搭带隙秆”对延应的猜特定座能量的范围可的光信子,普能带冰隙越罚宽,到电池破的效舅率则柱越高稀。利坏用两缴种不贷同的杰半导乎体层递来扩方大其抵能量蛇吸收森范围劫,最辜多可研以利响用阳吴光能箱量的淡30贴%。美国五劳伦架斯-行伯克折利国叨立实知验室捡的科谢学家伶使用籍一种湾称为继“氮福化镓离铟”素的半暴导体臭,以每拥次生肉长一线个原辛子层辽的方万式生牵产出搏纯度杆极高笛的氮钓化镓栗铟晶衔体,违大大膨拓宽缴了其脱能带畜隙。两个陪能带漂隙的虎组合听可以衔使能般量吸府收率户达到50%。丙如果两使用旋多层侍成分崇比例裕不同曲的氮扇化镓锣铟,但吸收伍率有懒可能芽会更五高。聚焦痒镜头美国瘦用

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