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PowerPoint2003半导体物理习题课件第二章《半导体物理》第二章2-12-22-32-42-52-5(2)2-62-6(2)2-72-82-8(2)2-1
掺入锗,硅晶体中的杂质通常有磷,铟,锑,硼,砷,铝,镓,铋,其中哪些是施主杂质?
哪些是受主杂质?解答:
磷,砷,铋,锑为Ⅴ族元素,为施主杂质硼,铝,镓,铟为Ⅲ族元素,为受主杂质。2-2
硅中掺入某种施主杂质,设其电子有效质量,计算电离能为多少?若,其电离能又为多少?这两种值中哪一种更接近实验值?解答:利用类氢原子模型:
由实验知,Si中施主电离能在,所以后者接近实验值。
2-3
锗晶体中掺入锰,试采用类氢原子模型计算基深能级E1和E2的值,并在能带图中标出它们的位置(设)解答:此模型给出两条深能级公式
)
将
这两条能级都是受主能级,而代入上式∴如图所示:则
2-4
根据教材图2-8和图2-9写出Au、Ag、Cu、Fe、Zn、Cd、Ni等杂质在硅晶体和锗晶体中的深能级,并标出施主与受主。解答:施主能级和受主能级分别以D和A表示:如下图:硅晶体中(eV)锗晶体中(eV)类型
位置类型
位置AuDDAAAgDAACuAAFeDAZnAACdAANiAA2-5
制造半导体原料时,采用各种提纯工艺去除其中的杂质,而在制造实用半导体材料时,又需要掺入适量杂质,这是为什么?解答:原材料提纯:①原材料中含有的杂质是各种各样的,对于器件制造者是不易控制的②重金属如Cu、Fe、Au等为深能级杂质,可起复合中心作用,可降低少子寿命,而电离能较大,对载流子浓度贡献不大,如果其杂志浓度较大,势必引进较多缺陷③如果原材料中有较多的多种浅能级杂质,由于它们的补偿作用,对载流子浓度贡献也不大,且不易控制。实用半导体掺杂:人为掺杂可以控制电阻率及导电类型,而且有选择的掺入某种杂质(如Au掺入Si),可控制少子寿命;制作电极接触也需适量掺杂,如欧姆接触就需要高浓度的掺入施主杂质。2-5(2)
什么是杂质补偿作用?试举例说明杂质补偿作用的实际应用。解答:施主和受主相互抵消的作用会使有效杂志浓度()降低,在轻补偿情况时,不改变导电类型,仍为N或P型,但载流子浓度降低。当,改变导电类型由,载流子浓度为。当时,为重补偿,材料为“类本征型”。应用,做PN结时,如在n型衬底上扩散p型杂质,并使,并掌握扩散条件,使p型杂质达一定深度,即可制得PN结,在结处2-6
制作半导体器件为什么希望选用低位错,无位错或位错均匀的材料呢?解答:①位错可形成受主能级(接收电子),而位错线形成的一串负电中心,对载流子有散射作用,可使迁移率降低;②能带变形,扩张区减小,载流子可进行带间直接复合;形成的深受主能级起复合中心作用,这二种复合过程都影响少子寿命;③位错不均匀,影响杂质分布均匀性,影响PN结的结面平整,可造成PN结穿通或降低击穿电压。鉴于以上原因,所以通常用低位错,无位错或位错均匀的材料2-6(2)
设Si中掺入N个浅施主杂质,同时掺入数量相等得深受主杂质,问温度较低使,Si是什么导电类型?温度较高时是什么导电类型?解答:当温度较低时,Si是N型,因为小。当温度较高时,Si是P型,因为施主能级浅,对单能级受主深,多能级则受主能级大于施主能级。2-7
锑化铟的,相对价电常数,电子有效质量,为电子惯性质量,求:(1)施主杂质电离能;(2)施主的弱束缚电子基态轨道半径。解答:2-8
氢原子玻尔轨道半径为Å,根据杂质类氢模型将代替,以代替,可得杂质等效玻尔半径,基质相对价电常数(Ge:,Si:)试计算Ge,Si浅施主的束缚电子的等效玻尔半径。解答对Ge
对Si:
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