PDP用氧化镁材料的制备及相关机理研究的开题报告

PDP用氧化镁材料的制备及相关机理研究的开题报告一、选题背景氧化镁材料作为一种重要的无机材料，在工业、医药、冶金等领域都有广泛的应用。其中，PDP（PlasmaDisplayPanel）作为一种新型的平面显示器，其显示效果受到PDP表面保护层材料的影响。很多研究表明，氧化镁作为PDP面板的主要保护材料之一，可以有效地防止气体释放和电极劣化，提高PDP的寿命和稳定性。因此，氧化镁材料的制备及相关机理研究对PDP技术的发展具有重要的意义。二、选题意义目前，氧化镁材料的制备方法主要有化学沉淀法、氢氧化镁热解法、溶胶-凝胶法等。然而，这些方法存在一些缺点，如反应条件苛刻、制备过程复杂、成本高等问题。因此，利用更为简单、可控的方法制备高质量的氧化镁材料，有着重要的研究意义和实际应用价值。针对目前氧化镁材料的制备方法存在的一些问题，本课题计划采用简单的沉积法制备高质量的氧化镁材料，并研究材料的制备过程和相关机理。通过优化制备工艺和探究制备机理，我们希望能够得到更好的氧化镁材料，并提供理论基础和技术支撑，促进PDP技术的发展。三、研究内容和研究方法本课题的主要研究内容和方法如下：1.制备高质量的氧化镁材料。采用简单的沉积法制备氧化镁材料，并考察制备过程中各参数对材料品质的影响。2.研究制备氧化镁材料的相关机理。通过表征手段，探究氧化镁材料的成分组成、晶体结构、形貌和物理性质等，分析沉积过程中的反应机理和成长动力学等。3.优化氧化镁材料制备工艺。在考察了各种制备因素的影响后，对制备条件进行优化和调整，以获得更好的氧化镁材料。四、预期研究成果通过本课题的研究，我们预计能够获得以下成果：1.制备高质量的氧化镁材料，并对材料的物理性质进行表征和分析，得到材料的组成和结构等信息。2.探究制备氧化镁材料的反应机理和成长动力学等方面的机制，并提出相应的理论模型。3.优化氧化镁材料制备工艺，以提高材料的质量和稳定性，并为PDP技术的发展提供理论基础和技术支撑。五、进度安排本课题的研究进度计划如下：1.第一年：开展氧化镁材料的制备工作，并进行初步的表征实验；2.第二年：深入研究氧化镁材料制备的相关机理，并进一步对材料进行表征和分析；3.第三年：优化氧化镁材料制备工艺，进行性能测试和应用验证，并撰写相关论文和报告。六、论文参考文献1.K.Huang,Y.Wei,F.Chen,W.Huang,Preparationofultrathinmagnesiumoxidefilmsbymistchemicalvapordeposition,JournalofCrystalGrowth,318(1-2),(2011)571-574.2.K.Imamura,A.Nakamura,H.Aoki,T.Fukushima,SegmentedMagnesiumOxidePenWallsforLowResistancePlasmaDisplayPanels,JournalofDisplayTechnology,5(5),(2009)184-188.3.Z.Yang,F.Zhang,G.Shi,X.Zhang,L.Wang,Y.Yuan,Y.Li,J.Feng,ThepreparationofmagnesiumoxidenanoparticlesfromMg(OH)2precursorbyafacilemethod,MaterialsLetters,219,(2018)56-59.4.A.E.Dyer,R.K.Sharma,V.Ravindranath,P.E.Pehrsson,Preparationandcharacterizationofmagnesiumoxideth