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请阅读最后评级说明和重要声明报告日期:2024年06报告日期:2024年06月26日——半导体行业专题研究集成电路指数与沪深300指数走势对比集成电路指数与沪深300指数走势对比 激光和德龙激光等公司已具备类似技术,并已推出芯片高性能趋势下玻璃基板有望凭借优异的热稳定性和电学性能在先进封装半导体行业复苏不及预期的风险,新技术导入不及预期的风险及预期的风险,国际贸易摩擦和冲突加剧的风险。2 3 4 7 7 8 9 9 9 图1:玻璃基板相同面积下可容纳更多芯片“裸片” 4图2:英特尔率先将玻璃基板用于芯片封装 4图3:TSV(硅通孔)在传统硅基转接板的先进封装技术中应用广泛 5图4:激光诱导刻蚀法制备TGV 6图5:激光诱导刻蚀法制备的TGV成孔质量好 6图6:TSV填孔方案的工艺流程 6图7:2019-2024年第一季度长电科技营收情况 7图8:2019-2024年第一季度长电科技归母净利润情况 7图9:2019-2024年第一季度帝尔激光营收情况 8图10:2019-2024年第一季度帝尔激光归母净利润情况 8表1:玻璃基板较其他封装材料具有较好的热稳定性和导热性 3表2:玻璃基板用作IC封装材料的基本处理步骤 4表3:用于制造TGV(玻璃通孔)的主要工艺 5表4:重点公司盈利预测 93一、芯片高性能趋势演进下,玻璃基板有望崭露头角备高温稳定性、透光性好和绝缘性强等优点,有望在高性能芯片封装领域得到更多应用。基板类型-6/%RH)玻璃封装基板4-60/资料来源:《玻璃基板和封装玻璃载板》,源达信玻璃基板用作IC封装材料必须在玻璃表面形成导电图形。但由于玻璃4加工环节加工工艺表面除油表面处理表面粗化的等离子体蚀刻处理或激光粗化处理。主要步骤:表面除油清洁→表面粗化→表面敏化→表面活化化学法化学法物理法射出来的物质在玻璃表面沉积成膜或图形。资料来源:《玻璃基板和封装玻璃载板》,源达信片性能的主要手段,传统IC基板的物理性资料来源:半导体行业观察,源达信息证券研究所资料来源:芯片讲坛,源达信息证券研究所二、先进封装领域引入玻璃基板,TGV工艺是必备工艺5需要氧化绝缘层、薄晶圆的拿持等技术;2)电学性能差,硅材料属于半导体技术是必备前提。光敏玻璃法大聚焦放电法玻璃通孔不太垂直等离子刻蚀法玻璃通孔侧壁粗糙度小,无损伤激光烧蚀法孔存在侧裂纹,粗糙度略大成本低,设备简单,成孔快孔径大激光诱导刻蚀法资料来源:《玻璃通孔技术研究进展》,源达信6所所盲孔内部沉积种子层;再自底向上电镀,实现TGV的无缝填充;最后,通过临艺过程。资料来源:《玻璃通孔技术研究进展》,源达信息7三、行业公司400300200100营收(亿元)——同比(%)20%10%0%归母净利润(亿元)归母净利润(亿元)301000%20500%100%资料来源:Wind,源达信息证券研究所8占率达80%。长期的深耕使公司具备深厚的光伏加工工艺积累,并与下游切合作关系,这也是公司在TOPCon、HJT营收(亿元)——同比(%)50100%6420100%50%50%0%营收(亿元)——同比(%)50100%6420100%50%50%0%0%资料来源:Wind,源达信息证券研究所9四、投资建议芯片高性能趋势下玻璃基板有望凭借优异的热稳定性和电学性能在先进封装领域得到更多资料来源:Wind一致预期(2024),五、风险提示看好:行业指数相对于沪深3中性:行业指数相对于沪看淡:行业指数相对于沪深3增持:相对于沪深300指数上海市浦东新区民生路1199弄证大五道口广场1号楼作者具有中国证券业协会授予的证券投资咨询执业资格并注册为证券分析师,以勤勉的职业态度,独立河北源达信息技术股份有限公司具有证券投资咨询业务资格,
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