真空镀膜试题带答案

真空镀膜试题带答案姓名：__________班级：__________成绩：__________一、单项选择题（每题1分，共20分）1.真空镀膜过程中，镀膜材料蒸发的方式主要是（）A.化学蒸发B.物理蒸发C.电解蒸发D.生物蒸发答案：B2.以下哪种气体不属于真空镀膜常用的工作气体（）A.氮气B.氧气C.氢气D.氯气答案：D3.真空镀膜设备中，用于测量真空度的仪器是（）A.温度计B.压力计C.流量计D.真空计答案：D4.镀膜厚度对镀膜质量有重要影响，一般通过（）来控制镀膜厚度。A.镀膜时间B.镀膜温度C.蒸发源功率D.以上都是答案：D5.真空镀膜时，基片温度过高可能会导致（）A.镀膜附着力下降B.镀膜均匀性变好C.镀膜速度加快D.镀膜颜色变浅答案：A6.以下哪种镀膜技术属于物理气相沉积（PVD）（）A.化学气相沉积（CVD）B.磁控溅射镀膜C.溶胶-凝胶镀膜D.电镀答案：B7.在真空镀膜过程中，防止膜层出现针孔的关键是（）A.提高真空度B.降低镀膜温度C.增加镀膜材料D.加快镀膜速度答案：A8.镀膜设备的真空系统中，机械泵的作用是（）A.获得高真空B.获得低真空C.抽除水蒸气D.抽除惰性气体答案：B9.对于金属镀膜，镀膜后进行退火处理的目的是（）A.提高膜层硬度B.降低膜层应力C.改变膜层颜色D.增加膜层厚度答案：B10.真空镀膜时，膜层的折射率与（）有关。A.镀膜材料B.镀膜厚度C.基片材料D.以上都是答案：D11.以下哪种情况会影响镀膜的均匀性（）A.蒸发源分布不均匀B.基片放置不均匀C.真空度不均匀D.以上都是答案：D12.镀膜过程中，膜层的附着力与（）因素无关。A.基片表面清洁度B.镀膜温度C.镀膜材料密度D.膜层厚度答案：D13.真空镀膜设备的烘烤系统主要作用是（）A.去除基片表面水分B.提高镀膜温度C.加速镀膜材料蒸发D.防止设备生锈答案：A14.对于光学镀膜，膜层的透过率和吸收率主要取决于（）A.膜层厚度和折射率B.镀膜设备品牌C.基片尺寸D.镀膜环境湿度答案：A15.镀膜过程中，蒸发舟的材质通常选用（）A.陶瓷B.玻璃C.塑料D.橡胶答案：A16.以下哪种镀膜工艺适用于制备超硬耐磨涂层（）A.蒸发镀膜B.溅射镀膜C.离子镀膜D.化学镀膜答案：C17.真空镀膜时，膜层的粗糙度与（）有关。A.镀膜工艺参数B.基片材质C.环境温度D.以上都是答案：D18.镀膜设备的冷却系统主要用于冷却（）A.蒸发源B.基片C.真空室D.以上都是答案：D19.在真空镀膜中，为了提高膜层的纯度，通常会采用（）A.高纯度镀膜材料B.多次镀膜C.高温镀膜D.以上都是答案：A20.镀膜后膜层出现变色现象，可能的原因是（）A.镀膜材料不纯B.镀膜过程中温度变化C.膜层受到污染D.以上都是答案：D二、多项选择题（每题2分，共20分）1.真空镀膜的主要优点包括（）A.膜层质量高B.可镀材料广泛C.镀膜过程无污染D.可精确控制膜层性能答案：ABD2.真空镀膜设备的主要组成部分有（）A.真空系统B.镀膜系统C.控制系统D.冷却系统答案：ABCD3.影响真空镀膜膜层质量的因素有（）A.真空度B.镀膜材料质量C.基片处理情况D.镀膜工艺参数答案：ABCD4.常见的真空镀膜方法有（）A.蒸发镀膜B.溅射镀膜C.离子镀膜D.化学气相沉积镀膜答案：ABC5.镀膜过程中，防止膜层氧化的措施有（）A.提高真空度B.充入惰性气体C.控制镀膜环境湿度D.降低镀膜温度答案：ABC6.对于光学镀膜，膜层的光学性能指标包括（）A.折射率B.透过率C.吸收率D.反射率答案：ABCD7.真空镀膜在以下哪些领域有广泛应用（）A.光学B.电子C.机械D.装饰答案：ABCD8.镀膜设备的维护保养工作包括（）A.定期清洁B.检查真空泵性能C.校准测量仪器D.更换磨损部件答案：ABCD9.镀膜过程中，膜层出现剥落现象，可能的原因是（）A.膜层附着力不足B.基片表面有油污C.镀膜应力过大D.镀膜温度过高答案：AC10.为了提高真空镀膜的效率，可以采取以下措施（）A.优化镀膜工艺参数B.采用自动化设备C.增加镀膜材料用量D.提高真空度答案：AB三、判断题（每题1分，共10分）1.真空镀膜过程中，真空度越高越好。（）答案：×2.镀膜材料的纯度对膜层质量没有影响。（）答案：×3.溅射镀膜只能镀金属膜。（）答案：×4.基片表面粗糙度会影响镀膜的均匀性。（）答案：√5.镀膜设备的控制系统可以精确控制镀膜的所有参数。（）答案：√6.离子镀膜过程中不需要加热镀膜材料。（）答案：×7.膜层的硬度只与镀膜材料有关。（）答案：×8.真空镀膜时，镀膜室的清洁度对膜层质量有重要影响。（）答案：√9.不同的镀膜工艺对基片材料的要求相同。（）答案：×10.镀膜后膜层的性能可以通过后续处理进行调整。（）答案：√四、填空题（每题1分，共10分）1.真空镀膜的基本原理是在（）环境下，使镀膜材料蒸发或溅射并沉积在基片表面形成薄膜。答案：真空2.镀膜前基片表面的清洁处理方法有（）、化学清洗等。答案：机械打磨（或其他合理方法）3.蒸发镀膜中，常用的加热蒸发源有电阻加热蒸发源、（）等。答案：电子束蒸发源4.溅射镀膜的溅射方式主要有直流溅射、（）、射频溅射等。答案：磁控溅射5.离子镀膜过程中，离子源产生的离子轰击基片表面的目的是提高膜层的（）。答案：附着力6.镀膜过程中，膜层的厚度监测方法有（）、石英晶体振荡法等。答案：干涉仪法（或其他合理方法）7.真空镀膜设备的真空度一般要求达到（）Pa以下。答案：10^(-3)（或其他合理数值）8.镀膜材料的蒸发速率与（）、蒸发源温度等因素有关。答案：蒸发源功率9.对于多层膜镀膜，各层膜之间的（）对膜层整体性能很关键。答案：界面结合10.镀膜后的膜层需要进行（）测试来评估其性能。答案：硬度、附着力等（或其他合理测试项目）五、简答题（每题5分，共20分）1.简述真空镀膜的基本工艺流程。答案：基片预处理，包括清洁、脱脂、去污等。将基片放入真空镀膜设备的真空室。抽真空至所需真空度。根据镀膜要求选择合适的镀膜材料和镀膜工艺。启动镀膜系统，使镀膜材料蒸发或溅射并沉积在基片表面。镀膜过程中监控和调整相关参数，如真空度、镀膜厚度、温度等。镀膜完成后，关闭镀膜系统，待真空室冷却后取出基片。2.说明影响真空镀膜膜层附着力的因素及提高附着力的方法。答案：影响因素：基片表面清洁度，清洁的基片表面有利于提高附着力。镀膜工艺参数，如镀膜温度、离子轰击等。镀膜材料与基片的匹配性。提高方法：对基片进行严格的表面预处理，确保清洁。优化镀膜工艺参数，选择合适的镀膜温度和离子轰击条件。选择与基片匹配性好的镀膜材料。3.简述溅射镀膜的特点。答案：可镀材料广泛，包括金属、合金、化合物等。膜层附着力强。镀膜过程中基片温度低，可避免基片变形和性能改变。能精确控制膜层成分和厚度。可在复杂形状的基片上镀膜。4.真空镀膜设备日常维护需要注意哪些方面？答案：定期清洁真空室、蒸发源、溅射靶等部件，防止杂质积累。检查真空泵的油位、油温、真空度等，及时更换真空泵油。校准测量仪器，确保镀膜参数的准确性。检查各密封部位，防止漏气。定期检查和更换易损部件，如蒸发舟、密封圈等。保持设备周围环境清洁，避免灰尘等进入设备。六、论述题（每题5分，共20分）1.论述真空镀膜技术在现代制造业中的重要性及应用领域。答案：重要性：能提供高质量的薄膜涂层，改善材料性能。可精确控制膜层的成分、厚度、结构等，满足不同需求。镀膜过程相对清洁，对环境友好。提高产品的耐磨性、耐腐蚀性、光学性能等，提升产品质量和竞争力。应用领域：光学领域，如制备增透膜、高反射膜、滤光膜等。电子领域，用于芯片制造、电路板镀膜等，提高电子元件性能。机械领域，增强机械部件的耐磨、耐蚀性能。装饰领域，赋予产品美观的外观涂层。2.论述如何根据不同的镀膜需求选择合适的真空镀膜方法。答案：考虑膜层材料：如果需要镀金属膜，蒸发镀膜、溅射镀膜等方法都适用；若镀化合物膜，离子镀膜或化学气相沉积镀膜可能更合适。关注膜层性能要求：对于要求高附着力的膜层，离子镀膜或溅射镀膜可能更好；对光学性能要求高的，如特定的折射率、透过率等，需选择能精确控制膜层光学参数的方法，如光学镀膜工艺。基片材料和形状：一些对温度敏感的基片，适合低温镀膜方法，如溅射镀膜；复杂形状的基片，溅射镀膜或离子镀膜相对更易实现均匀镀膜。镀膜成本和效率：蒸发镀膜设备相对简单，成本较低，但对于某些材料可能效率不高；溅射镀膜和离子镀膜设备成本较高，但能满足更多复杂需求且效率可能更高，需综合成本和效率因素选择。3.论述镀膜过程中出现膜层缺陷（如针孔、裂纹等）的原因及解决措施。答案：针孔原因：真空度不够，有气体残留导致膜层生长不连续。镀膜材料不纯，含有杂质影响膜层致密性。基片表面不清洁，有颗粒等杂质阻碍膜层生长。解决措施：提高真空度，充分抽气。使用高纯度镀膜材料。对基片进行严格清洁处理。裂纹原因：镀膜应力过大，如膜层与基片热膨胀系数差异大。镀膜过程中温度变化剧烈。膜层厚度不均匀。解决措施：选择与基片热膨胀系数匹配的镀膜材料。控制镀膜过程中的温度变化，避免剧烈波动。优化镀膜工艺参数，确保膜层厚度均匀。4.论述未来真空镀膜技术的发展趋势。答