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目前,离子印迹膜技术尚未建立其分离过程相应的识别机理,但鉴于离子得与某一目标分子(离子)形状大小完全相互匹配空腔结构,类似于锁与钥匙相图1-8离子印迹聚合物识别机理Fig.1-8Recognitionmechanismofionimprint溶液-扩散模型是表征离子印迹膜选择性分离的主流模型。它指的是目标离2型中,饱和吸附是离子印迹膜的局限性,而离子印迹膜的再生依赖于吸附离子的萃取I931。这一理论常用于解释模板分子被截留的分离过程如图1-9a。Piletsky“门”模型指的是目标离子的促进渗透,就是在浓度梯度的作用下,印迹离子和其它离子都有向同一方向扩散的可能,基于特定的相互作用,离子印迹识别位点更倾向于与目标离子结合,强相互作用成为目标离子从一个位置转移到另一个位置的内在驱动力。即目标离子从一个结合点位移动到另一个识别点位,最终通过分子印迹膜,而不被识别的其它分子的扩散由于膜孔结构不匹配而遭遇阻挡,无法通过膜,从而达到分离的效果。对于非目标离子,驱动力仅来自于扩究证实,在形成离子印迹膜的同时形成了许多“空穴”,而且“空穴”之间有通道相连,通道的直径与“空穴”的大小相近,因此通道能起到拦截非模板分子通过的作用(图1-9b)。就目前研究而言,离子印迹识别过程的机理仍处于定性和半定量阶段,而相对发展时间较短的分子印迹膜而言,其与目标分子间的相互作用机制尚不够清晰,相关热力学及动力学等理论方面的研究刚刚起步,传质过程机理仍处于探索阶段,因而还需要进行进一步的研究与完善。真正从分子(离子)水平探究印迹识别机理,对传质过程机理研究进行深化与量化,从而为印迹和印迹膜的工业化应用提供依据与指导。Non-targetsNonNon-targetsSolution-diffusionmodel“
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