CN119433436A 掩膜板结构、光学结构的形成方法、衍射光波导 （上海大学）

2所述第一掩膜板和所述第二掩膜板之间具有间距，所述第一掩膜板3.如权利要求1或2所述的掩膜板结构，其提供如权利要求1至5任一项所述的掩膜板结构，所述掩膜板结构包括将所述掩膜板结构设置于所述靶材与所述基板之间，所述第二掩膜板与所述基板接通过轰击靶材在所述光学结构区域上形成厚度连续渐变38.如权利要求6或7所述的光学结构的形成方法，所述有效区在基板的光学结构区域上形成为光学结构，所述保护层位于所述光学结构上，耦出光栅区域或所述转折光栅区域内的光栅结构基于权利要求6~9任一项所述的光学结构4[0008]可选的，所述第一通孔投影于所述第二掩膜板上的投影范围位于所述第二通孔5[0013]可选的，所述材料层的连续渐变厚度T(r)通过如下公式计算得到：材料层,其中，a为靶材任一溅射点相对靶材中形成厚度连续渐变的材料层，采用掩膜板结构能够在基板上形成厚度连续变化的材料层，能够改善光学结构的显示外观，通过厚度连续渐变的设计能够防止不同位置的厚度突变，这样的设计提升了光学结构的尺寸精度和视[0018]进一步，第一掩膜板的第一通孔的中心线与第二掩膜板的第二通孔的中心线重6要实现光栅深度的连续渐变调制以调制衍射光波导中光栅7和所述第二掩膜板102用于在所述第二通孔105区域内形成厚度连续渐变的材料层。如图6掩膜板101和所述第二掩膜板102，所述第一掩膜板101和所述第二掩膜板102通过连接部[0032]在本实施例中，所述第一通孔104的中心线L1与所述第二通孔105的中心线L2重8[0050]所述第一孔径R1为所述第一通孔104的最大尺寸，所述第二孔径R2为所述第二通与所述光学结构区域201相对应，所述第一通孔104与所述靶材202相对应；通过轰击靶材202在所述光学结构区域201上形成厚度连续渐变的材料所述第二通孔105与单个的所述光学结构区域2通孔105与所述光学结构区域201的形状和面积相同；所述第二通孔105的中心线与所述光[0065]所述第二通孔105与所述光学结构区域201相对应，所述第二通孔105的形状和面9[0067]所述第一通孔104的中心线与所述靶材202的中心线重合，即所述靶材202位于所述第一通孔104和第二通孔105的中心位置，使得后续形成的材料层203的厚度能够呈中心[0068]所述材料层203的材料包括无机介质材料，所述无机介质材料包括氧化钛、氧化[0070]所述第一掩膜板101与所述第二掩膜板102之间具有第一间距H’，所述第一通孔[0076]在本实施例中，所述靶材202中心至基板200表面的距离h=H+d1+靶材与第一掩膜,通过调整所述第一间距H’的大小以及[0079]调整第一面积S1的大小，即通过调整所述第一通孔104的第一孔径R1来调整第一[0088]所述保护层210的形成方法包括：在材料层203顶部表面形成初始保护层（未图所述有效区A在基板200的光学结构区域201上形成为光学结构211，所述保护层210位于所使所述有效区A在基板200的光学结构区域201上形成[0094]在本实施例中，以所述图形化的掩膜层212为掩膜刻蚀所述保护层210和有效区A若干所述光学结构211的厚度的变化趋势为连续变化，通过对掩膜板结构的设计能够精确结构基于图3至图13所述的光学结构的形成方法制备得[0108]在上述实施例中，通过前述实施例中的任一实施例来得到光栅区域内的光栅结