CN111477564B 基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法 （东京毅力科创株式会社）

JP2016225574A,2016.12.28JPS6395341A,1988.04.26体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右2异物检测单元，其利用投光部形成有朝向构成所述供给路径的局部的流路形成部的所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上路形成部在与朝向所述投光部所位于的一侧的方向以及朝向所述受光部所位于的一侧的方向不同的第1方向上成列地设有一个以上的其一者相对于成列的多个所述流路形成部而位于前侧和该基板处理装置设置有所述投光部和所述受光部所共用所述入口和所述出口设为，以所述流路形成部为基准成为与所述所述流路形成部具有包含所述入口的第1流路、与所述第1流路正交的第2流路以及连接所述第2流路和所述出口的第3流路，所述入口和所述出口设于所述流路形成部的同一所述受光部测量通过光照到第1流路而放出的散射光中的第2流路侧的侧方散来自所述投光部的光轴与所述第1流路的流动方向垂直地向所述第1流所述受光部和所述投光部共用于多个所述流所述移动机构使所述投光部和所述受光部向与多个所述流路形成部中的被选择的流所述移动机构构成为，能够在与第1方向不同的第2方向上移动，从而改所述移动机构在使所述投光部和所述受光部在第1方向上移动而移动到与所述被选择述被选择的流路形成部到利用所述受光部接受光为止的预先该基板处理装置还包括朝向所述第1投光部3所述第2投光部以朝向所述第1投光部的光的光路沿着多个所述流路形成部成列的方所述第1投光部包括反射部，该反射部反射来自所述第2投光部的光所述流路形成部的流路至少具有与其他流路交叉的多个部所述流路形成部的流路具有相对于液体流通方向的上游侧将下游侧的流路设置得较该基板处理装置还包括其他的测量组，该其他的测量组具该基板处理装置包括壳体，该壳体收纳所述流路形成部的列、盖，其构成相对于所述流路形成部的列位于后方或纵向的壁部并且相对所述投光部、所述受光部、所述移动机构中的至少任一者构成为相对该基板处理装置还包括投光切换机构，该投光切换机异物检测单元，其利用投光部形成有朝向构成所述供给路径的局部的流路形成部的4所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上路形成部在与朝向所述投光部所位于的一侧的方向以及朝向所述受光部所位于的一侧的方向不同的第1方向上成列地设有一个以上的其一者相对于成列的多个所述流路形成部而位于前侧和该基板处理装置设置有所述投光部和所述受光部所共用所述流路形成部具有沿前后方向延伸的第1流路、与所述第1流路正第2流路以及以从所述第2流路朝向流路出口的方式沿前后方向所述受光部接收通过自所述投光部发出的光照到所述第1流路而放出的散射光，由此所述光轴在自前后方向观察时从流路形成部的下方朝向及处理模块，其包含构成所述基板处理装置的所述喷嘴和所述基板所述异物检测单元包括所述流路形成部的列和所述移动5所述异物检测单元具有多个所述流路形成部排列的列和所述移动成列的多个所述流路形成部分别与多个所述喷嘴连接，并异物检测单元，其利用投光部形成有朝向构成所述供给路径的局部的流路形成部的所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以流路形成部为基准的上下左使受光部接收作为形成有朝向所述流路形成部的光的结果而自该流路形成部发出的路形成部在与朝向所述投光部所位于的一侧的方向以及朝向所述受光部所位于的一侧的方向不同的第1方向上成列地设有一个以上的其一者相对于成列的多个所述流路形成部而位于前侧和该基板处理方法还包括以下工序：利用所述投光部和所所述入口和所述出口设为，以所述流路形成部为基准成为与所述所述流路形成部具有包含所述入口的第1流路、与所述第1流路正交的第2流路以及连接所述第2流路和所述出口的第3流路，所述入口和所述出口设于所述流路形成部的同一所述受光部测量通过光照到第1流路而放出的散射光中的第2流路侧的侧方散来自所述投光部的光轴与所述第1流路的流动方向垂直地向所述第1流6异物检测单元，其利用投光部形成有朝向构成所述供给路径的局部的流路形成部的所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以流路形成部为基准的上下左使受光部接收作为形成有朝向所述流路形成部的光的结果而自该流路形成部发出的路形成部在与朝向所述投光部所位于的一侧的方向以及朝向所述受光部所位于的一侧的方向不同的第1方向上成列地设有一个以上的其一者相对于成列的多个所述流路形成部而位于前侧和该基板处理方法还包括以下工序：利用所述投光部和所所述流路形成部具有沿前后方向延伸的第1流路、与所述第1流路正第2流路以及以从所述第2流路朝向流路出口的方式沿前后方向所述受光部接收通过自所述投光部发出的光照到所述第1流路而放出的散射光，由此7[0005]本公开提供一种能够使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，[0010]所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准8[0033]参照图1的概略图对本公开的基板处理装置的一实施方式的抗蚀剂涂敷装置1进行说明。抗蚀剂涂敷装置1向作为基板的晶圆W供给作为处理液的抗蚀剂而形成抗蚀剂膜。剂涂敷装置1包括用于光学检测这些抗蚀剂和稀释剂中的异物的异物检测单元[0034]在喷嘴11A～11L连接有用于形成供处理液流通的供给路径的处理液供给管12[0035]在喷嘴11L连接有处理液供给管12L的下游端，处理液供给管12L的上游端经由阀V1连接于处理液供给部13L。处理液供给部13L除了储存上述的稀释剂来代替抗蚀剂以外，圆W的状态下进行旋转。图中附图标记23为为了抑制处理液的飞散而包围晶圆W的侧方的各喷嘴11A～11L向能够向保持于旋转卡盘21的晶圆W的中心部喷出处理液的位置移动。导9靠前方且靠右侧的位置，如已说明那样流路形成部14A～14L设为沿着左右以直线状成列。[0041]在流路形成部14A内形成有流路15。流路15由朝向下游侧依次连接且分别沿着流成部14A不同。配管54的上游侧和配管55的下游侧贯通壳体31的前方壁并向壳体31的外部[0044]朝向流路形成部14A～14L的列的左侧(图4的表示中右侧)依次设有导光部52、作为第2投光部的光源51。光源51朝向导光部52沿着流路形成部14A～14L的列方向照射用于源51的性能劣化而能够进行长时间的使用。上端部形成朝向前方伸出的臂57，在该臂57的顶端部设有作为光束阻尼器的光吸收部56。部14与受光部48之间的距离来调整自流路形成部14到由受光部48接收光为止的受光距离。与各流路形成部14的焦点相配合的方式调整受光距离：由于多个流路形成部14具有因制[0048]如上所述，对流路形成部14A～14L中的被选择的一个流路形成部进行异物的检域40。这样被反射部44反射并通过第1流路16的激光的光轴在自前后方向观察时倾斜地朝存储部。在该程序存储部存储有以对晶圆W进行的抗蚀剂膜的成膜和异物的检测的方式编[0054]接下来，参照图9的时序图对在上述的抗蚀剂涂敷装置1中进行的晶圆W的处理和供给部13的泵的压力的时刻以及处理液供给管12A～12L中的与一个处理液供给部13相对释剂在离心力的作用下向晶圆W的周缘部伸展而[0058]接着，向晶圆W供给储存于处理液供给部13A～13K中的任一处理液供给部的抗蚀[0060]根据该抗蚀剂涂敷装置1，作为投光部的反射部44自以流路形成部14为基准的前的一侧的方向以及朝向受光部48所位于的一侧的方向不同的方向(具体而言左右方向)上，第1流路16产生的散射光被设于与第1流路16正交地形成的第2流路17侧(具体而言后方侧)测结果，也可以自控制部100输出控制信号从而利用控制部100停止晶圆W的处理，该情况输出信号与粒径之间的对应的第1对应关系以及表示来自受光部48的输出信号与在流路中大小已知的试验用的颗粒的试验液的试验液供给源连接的结构。也可以设为如下装置结自异物检测区域40观察的左方和右方，Y轴的轴向表示自异物检测区域40观察的前方和后搭载于滑动台41，自该光源51不经由反射部44而直接向流路形成部14照射激光并进行投是，若通过激光的照射而形成的异物检测区域40中的处理液的流路方向与该照射方向平可以使处理液供给管12在壳体31内呈U字弯曲，并以形成与该图14的流路15相同的形状的[0079]图15是表示再一流路形成部14的结构的后视图。该流路形成部14的流路15由第1[0081]例如后述说明，具有设为多个抗蚀剂涂敷装置1共有异物检测单元2的结构的情不存在时间差，因而认为光路形成部4无法在与一个流路形成部14相对应的位置和与另一流路形成部14之间不间断地照射光也就是在停止向一个流路形成部14照射光的同时开始分隔壁63将壳体31内划分成包含流路形成部14在内的第1配置区域61和包含光路形成部4、高地防止在位于第1配置区域61的流路形成部14A～14K中流通的抗蚀剂的由热导致的变动机构43与滑动台41独立地相对于壳体31进行装卸，也可以设为具备受光部48的支承部[0088]接下来，参照图18的俯视图和图19的纵剖侧视图对包含上述的抗蚀剂涂敷装置1过向晶圆W的表面涂敷抗蚀剂来形成抗蚀剂膜；通过对曝光后的抗蚀剂膜进行显影来形成[0089]载置于载体模块B1的载置台71的载体C内的晶圆W利用输送机构73在载体C与检查模块B2之间交接。图中附图标记72为对载体模块B1的分隔壁和载体C的盖进行开闭的开闭部。检查模块B2包括检查抗蚀剂图案形成后的晶圆W的检查组件74和用于在与多用途模块B3以及处理模块B4之间交接晶圆W的交接组件[0090]多用途模块B3包括许多用于在与构成处理模块B4的各单位模块E1～E6以及检查相对于构成塔T1的各组件交接晶圆W而设有升降自如的输送[0091]处理模块B4构成为自下方依次层叠对晶圆W进行液体处理的单位模块E1～E6，在上述的塔T1的各组件和构成处理模块B4的各组件输送晶圆W的输送机构F1。在朝向该输送E1的输送机构F1相当的输送机构表示为输送各单位模块E1～E6相对应的高度的交接组件TRS，上述的输送机构F1～F6向相对应的各高交接的升降自如的输送机构81、用于相对于塔T2和塔T4进行晶圆W的交接的升降自如的输[0095]对该涂敷显影装置7中的晶圆W的输送路径进行说明。利用输送机构73自载体C向[0096]分配的晶圆W借助交接组件TRS1～TRS3被向各单位模块E1～E3的抗蚀剂涂敷装置的检测。接着，在将晶圆W输送到加热组件79并进行加热处理之后，向塔T2的交接组件分开的模块，能够自这样配置的异物检测单元2的流路形成部14向各单位模块E1～E3的喷置1的喷嘴11A连接的流路形成部14A进行异物的检测的结构例。该图20所示的壳体31例如个抗蚀剂涂敷装置1之间共用异物检测单元2的情况下，有时在各异物检测单元2之间同时