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文档简介

分和光学部件部分，所述光学部件部分至少包透光层中间的光隔离结构至少包括透光材料侧用比较容易实现的透光台阶加金属层或/和黑色2先形成所述光隔离结构，所述光隔离结构包括由透光材料形成的在透光层的一面形成多个所述第一微透镜以及位于多个所述第一微透镜之间的第一所述透光层中间的光隔离结构中，还包括一金属层，该金属层在透光的阵列的像素单元包括:感光二极管，该感光二极管和晶圆衬底之间，除光电二极管的PN结是在透光基板上整体制作的,在后续切割成单个光学指纹产品的光学部件时,同时将透光3基板切割下来,以保护后续产品在模组生产过程中,不受污染,光学指4被脊与玻璃接触面吸收或者漫反射到别的中央，这样就在图像传感器上构成了指纹的图包括准直层方案和小孔成像方案。[0005]图1示出现有的采用准直层的光学指纹器件的结构。该光学指纹器件包括盖板玻[0007]图2示出现有的采用小孔成像的光学指纹器件的结构。该光学指纹器件包括盖板5镜阵列实现指纹图像识别的方法越来越成为主流。该方法整体模组可以实现很薄的厚度。[0010]本发明的目的在于提供一种光学指纹器件的制造方法，降低光学指纹器件的厚[0014]优选的,所述透光层中间的光隔离结构包括6[0037]优选的,所述光学部件部分是在透光基板上整体制作的,在后续切割成单个光学散光的抑制更好。本发明利用比较容易实现的透光台阶加金属层或/和黑色吸收层实现的[0042]通过参照附图阅读以下所作的对非限制性实施例的详细描述，本发明的其它特微透镜之间的隔光墙至少包括由透光材料形成凸起结构和覆盖在该凸起结构上的不透光7临时键合形成光隔离结构104，该光隔离结构104包括由透光材料形成凸起结构102和覆盖在该凸起结构107上的不透光的吸光层108，其具体形成方法与透光层105中的光隔离结构在该凸起结构112上的不透光的吸光层113，其具体形成方法与透光层105中的光隔离结构8[0061]在一实施例中，光学部件部分是在透光基[0062]在一实施例中,图像传感器像素阵列116之间设置有不透光材料形成的围堰结构[0063]在一实施例中,所述图像传感器像素阵列的像[0065]在一实施例中,所述光学部件部分还存在防止溢胶结构（未示出该防止溢胶结槽周围的凸起结构202上铺设不透光的吸光层；去除凸起结构上202的不透光的部分吸光在该凸起结构207上的不透光的吸光层208，其具体形成方法与实施例一种透光层105中的述形成的结构与第二基板210临时键合，并与第一基板201分离，暴露出透光层202的另一9覆盖在该凸起结构212上的不透光的吸光层213，其具体形成方法与实施例一种透光层105[0074]在一实施例中，光学部件部分是在透光基

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