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文档简介
1第六章反馈
26.1反馈的基本概念及基本方程6.1.1反馈的概念 就是将放大器的输出量(输出电流或输出电压)的一部分或全部通过一定的网络,回送到放大器的输入回路,用来影响其输入量(输入电流或输入电压)的措施,称为反馈。正反馈:反馈信号对输入信号起增强作用(如振荡器)。负反馈:反馈信号对输入信号起减弱作用(使放大器的某些性能得到改善)。3
图6.1.1负反馈稳定工作点电路直流反馈:仅在直流通路中存在的反馈称为直流反馈。4交流反馈:仅在交流通路中存在的反馈称为交流反馈。
图6.1.2交流反馈电路的交流通路
直流负反馈主要用于稳定放大器的静态工作点,本章重点讨论交流负反馈,引入交流负反馈的放大器称为负反馈放大器。5基本放大器A取样反馈网络F∑比较Xf.Xi.′净输入信号反馈信号输出信号+输入信号Af反馈放大器Xi.Xo.
图6.1.3反馈放大器基本框图
6.1.2反馈放大器的基本框图...66.1.3反馈放大器的基本方程基本放大器的传输增益(也称开环增益或开环放大倍数)反馈网络的传输系数(也称反馈系数)7环路增益(回归比)
反馈放大器的传输增益(也称闭环增益)注意:上述X可以指电压也可以指电流,因此A、F既可能是电压增益也可能是电流增益,也可能是互导增益或互阻增益。8基本放大器的传输增益(也称开环增益或开环放大倍数)反馈网络的传输系数(也称反馈系数)环路增益(回归比)
反馈放大器的传输增益(也称闭环增益)注意:上述X可以指电压也可以指电流,因此A、F既可能是电压增益也可能是电流增益,也可能是互导增益或互阻增益。9反馈放大器的基本方程10结论(1)负反馈使放大器的增益下降了(1+AF)倍;(2)反馈深度D=1+AF,表征反馈强弱;D1或AF1
,深度负反馈11(3)深负反馈条件下(4)若正反馈,则126.1.4反馈放大电路的组态和四种基本类型一、电压反馈与电流反馈
根据反馈网络与基本放大器输出端的连接方式不同,反馈可分为:电压反馈:反馈网络与基本放大器输出端并联连接,反馈信号直接取自于输出电压。电流反馈:反馈网络与基本放大器输出端串联连接,反馈信号直接取自于输出电流。13(a)(b)AF电流取样RLUo.Xf.Io.反馈支路UCCRCuoVRERfui(c)(d)反馈支路UCCRCuoRERfuiIe.AF电压取样RLUo.Xf.图6.1.4电压反馈和电流反馈14
采用“输出短路法”。即将输出端短路,观察反馈信号是否还存在。如果反馈信号不存在,说明是电压反馈;反之,则说明是电流反馈。判断方法15(a)电路(b)令负载短路电压反馈16(a)电路(b)令负载短路电流反馈17
根据反馈网络和基本放大器输入端的连接方式方式不同,分为:串联反馈:反馈网络串联在基本放大器的输入回路中并联反馈:反馈网络并接在基本放大器的输入端二、串联反馈与并联反馈18ARiF+-Ui.-RifUf+-+Ui′Ii...(a)串联反馈1)Ui’与Uf是串联关系。2)输入信号与反馈信号不在同一节点上。3)19ARiF+-Ui.RifIi.Ii.′If.(b)并联反馈1)Ui’与Uf是并联关系。2)输入信号与反馈信号在同一节点上。3)20
一般地,串联反馈是输入信号与反馈信号加在放大器的不同输入端上;而并联反馈则是两者并接在同一个输入端。串联反馈和并联反馈的判断方法21+-uiR1Ii.Ii.′If.Rf反馈+-Ui.Ui.′REUf.Rf反馈图6.1.8放大器输入回路中引入串联反馈和并联反馈
(a)串联反馈(b)并联反馈22V1V2R1R1Uf.Rf反馈Io+-Ui.+-R1Ii.Ii.′If.Rf反馈Ui.IoV1V2R1串联反馈并联反馈23Ui.AFUo.+--+Uf.Ui.′AFUo.Us.RsIi.If.Ii.′
图6.1.9四种典型的负反馈组态电路(a)串联电压负反馈(b)串联电流负反馈(c)并联电压负反馈(d)并联电流负反馈AFUo.IoUs.RsIi.Ii.′If..AFUo.+-Ui.-+Uf.Ui.′Io+-.三、四种基本反馈类型24Ui.AFUo.+--+Uf.Ui.′(a)串联电压负反馈Ui’=Ui-Uf
电压串联负反馈稳定的增益是闭环电压放大倍数
深度负反馈条件下25
表6.1.1负反馈放大电路参数的意义26
四、负反馈放大电路举例电压串联负反馈(a)晶体管反馈电路27
(a)晶体管反馈电路电压串联负反馈Uo↑
Uf↑
(Ui’)Ube↓
Ib↓
Ic↓Uo
↓28电压串联负反馈29
(b)集成运放反馈电路电压串联负反馈30
2.电压并联负反馈(a)晶体管反馈电路31
(a)晶体管反馈电路电压并联负反馈32
(a)集成运放反馈电路电压并联负反馈33
3.电流串联负反馈(a)晶体管反馈电路34
(a)晶体管反馈电路电流串联负反馈35
(a)集成运放反馈电路电流串联负反馈36
4.电流并联负反馈37
电流并联负反馈386.2负反馈对放大器性能的影响
6.2.1负反馈使放大倍数稳定度提高基本放大器A取样反馈网络F∑比较Xf.Xi.′净输入信号反馈信号输出信号+输入信号Af反馈放大器Xi.Xo...39开环放大倍数相对稳定度为闭环放大倍数相对稳定度为若近似以增量代替微分,则:通常用放大倍数的相对变化量来衡量放大器的稳定性。40结论
引入负反馈使放大倍数的相对变化量减小为原相对变化量的1/(1+AF),即反馈越深,放大倍数的增益稳定性越好。 在深度负反馈时,Af=1/F,因此,只要F稳定,Af也将稳定。
注意:负反馈被稳定的对象与反馈信号的取样对象有关。如果取样对象是输出电压,则输出电压将被稳定;如果取样对象是输出电流,则输出电流将被稳定。416.2.2展宽通频带引入负反馈后,闭环增益:因此:42式中:43无反馈放大器的频率响应有负反馈放大器的频率响应增益AIAI-3dBAIfAIf-3dBfLffLfH无反馈放大器的带宽负反馈放大器的带宽fHff(频率)
负反馈改善放大器频率响应的示意图44io0ubeA+Xi.Xo.-+-xo0t0txi基本放大器t0xi0txi′图6.2.1负反馈改善非线性失真的工作原理示意图(a)无反馈io0ubeAFXo.∑+-Xi.Xf.Xi.′(b)负反馈使非线性失真减小txo0xf0t6.2.3减小非线性失真45非线性失真系数:“全谐波失真率”式中:Xnh为器件非线性产生的输出高次谐波分量,X1O为基波分量。46AXiX1oXnh
A
FXi+
Xi-FXnhfFXnhfX1ofXnhf因为:Xnhf=(Xi-FXnhf)A=Xnh-AFXnhf
因此:设加负反馈后,输出谐波分量为Xnhf
47因此:负反馈使非线性失真减小了(1+AF)倍。失真减小,意味着线性动态范围的拓宽。注意:非线性失真的减小只限于反馈环内放大器产生的非线性失真,对外来信号已有的非线性失真,负反馈将无能为力。而且,只在输入信号有增大的余地,非线性失真也不是十分严重的情况下才是正确的。486.2.4减小反馈环内的噪声与干扰利用负反馈抑制放大器内部噪声及干扰的机理与减小非线性失真是一样的。负反馈输出噪声下降(1+AF)倍。如果输入信号本身不携带噪声和干扰,且其幅度可以增大,输出信号分量保持不变,那么放大器的信噪比将提高(1+AF)倍。49图6.2.2负反馈抑制干扰和噪声(a)无反馈,信号与噪声的输出波形(b)有反馈,信号与噪声的输出波形(c)提高输入信号幅度后的输出波形50(1)负反馈使放大器的放大倍数下降,但增益稳定度提高,频带展宽,非线性失真减小,内部噪声干扰得到抑制,且所有性能改善的程度均与反馈深度(1+AF)有关。(2)被改善的对象就是被取样的对象。负反馈的特点(3)负反馈只能改善包含在负反馈环节以内的放大器性能,对反馈环以外的,与输入信号一起进来的失真、干扰、噪声及其它不稳定因素是无能为力的。51ARiF+-Ui.-RifUf+-+Ui′Ii...(a)串联反馈
6.2.5改变输入电阻和输出电阻一、对输入电阻的影响52ARiF+-Ui.RifIiIi′If.(b)并联反馈53
图6.2.4电压负反馈放大器输出电阻的计算
Ro为基本放大器的输出电阻(即开环输出电阻)为等效开路电压(Ao为负载开路放大倍数)。二、对输出电阻的影响54分析:在无反馈时,将输入短路Xi=0,则净输入Xi’=0,所以AoXi’=0,此时的输出电阻为Ro。引入反馈后,当Xi=0时,净输入Xi’
0,而是Xi’=-Xf,此时反馈放大器的输出电阻为:图6.2.4负反馈电路的输出电阻(a)电压反馈55图6.2.4负反馈电路的输出电阻(a)电压反馈56图6.2.4负反馈电路的输出电阻(a)电流反馈57正反馈和负反馈的判决方法
瞬时极性法:
假设输入信号向某一方向变化,沿闭环系统,逐级推出电路中其它各有关点信号的瞬时变化极性;
最后看反馈到输入端信号的极性对原来的信号是增强还是削弱。增强则为正反馈,削弱则为负反馈。58负反馈59负反馈60正反馈61负反馈62正反馈63负反馈64深度负反馈条件D=(1十AF)>>1
对串联反馈对并联反馈放大器工作在深度负反馈条件下,即求Auf时,可以利用如下关系式:6.3深度负反馈放大电路的近似计算6.3.1深度负反馈放大电路近似计算的一般方法65图6.3.1电压串联负反馈6.3.2深负反馈放大电路的近似计算1.电压串联负反馈电路66图6.3.1电压串联负反馈67图6.3.1电压串联负反馈68图6.3.2电压并联负反馈电路2.电压并联负反馈电路69图6.3.2电压并联负反馈电路70If
≈Ii
图6.3.2电压并联负反馈电路71
图6.3.3电流串联负反馈电路3.电流串联负反馈电路72
图6.3.3电流串联负反馈电路73
图6.3.3电流串联负反馈电路74
图6.3.3电流串联负反馈电路75
图6.3.4电流并联负反馈4.电流并联负反馈76
图6.3.4电流并联负反馈77
图6.3.4电流并联负反馈786.4负反馈放大电路的稳定性6.4.1负反馈放大电路的自激振荡79负反馈放大电路产生自激振荡振荡条件80振荡的振幅条件
产生自激振荡
振荡的相位条件
81
如果幅值条件和相移条件不能同时满足,负反馈放大电路就不会产生自激振荡.6.4.2负反馈放大电路稳定性的判断1.利用环路增益判断负反馈放大电路的稳定性或者时时稳定工作的条件82图6.4.2负反馈电路环路增益的频率特性(1)若不存在fπ,则电路稳定;(2)若存在fπ
,且fπ>f0,则电路稳定;若存在fπ,但fπ<f0,则电路不稳定。使
+=-180°的频率为fπ,称为相位交界频率使20lg|AF|=0dB的频率为f0,称为增益交界频率
832、稳定裕度
理论上只要fπ>f0,电路就稳定。但是实际中,人们常常发现某些放大电路虽然满足fπ>f0,但是fπ和f0靠得很近,此时电路也非常容易产生自激振荡。
因此,为保证放大器稳定工作,必须使它远离自激振荡状态,远离自激振荡状态的程度用稳定裕度表示。84工程上,Gm≥10dB,可认为放大器是稳定的幅度裕度相位裕度工程上,
45°,可认为放大器是稳定的853、利用开环增益的波特图来判别放大器的稳定性-60dB/10倍频20lg|A|·204060801000100101102103f-20dB/10倍频-40dB/10倍频-45°-135°-225°8687若恒为0°,为常数,在已知开环增益的幅频渐近波特图时,负反馈放大电路稳定的条件如下:(1)对运放,若反馈增益线与开环增益幅频响应曲线的交点在斜率为-20dB/十倍频的下降段内,则电路稳定;(2)对一般电路,若反馈增益线与开环增益幅频响应曲线的交点对应频率的相角绝对值小于135°,则电路稳定。-60dB/10倍频20lg|A|·204060801000100101102103f-20dB/10倍频-40dB/10倍频-45°-135°-225°稳定区反馈增益线88电子电路数字电路模拟电路低频电路(处理低频信号)高频电路(处理高频信号)电子电路分类电子电路数字电路模拟电路线性电路(处理小信号)非线性电路(处理大信号)89内容简介第一章晶体二极管及其基本电路第二章双极型晶体管及其放大电路第三章场效应管及其基本电路第五章集成运算放大器电路第六章反馈第四章频率响应第七章集成运放的应用第八章功率放大电路第九章直流稳压电源90
课程地位与课程体系
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很有用!92这门课的特点
涉及相关知识较多:高等数学、电路分析、信号与系统等曾有人戏称模拟电子电路为“魔鬼电路”,简称“魔电”。很难学!93学习方法“过四关”基本器件关电路构成工程近似关分析方法EDA应用关设计能力实验动手关实践应用94
以电阻串、并联为例来进行说明
a若两电阻R1
、R2
串联,如果R1>>R2(一般R1大十倍以上即可),则可忽略R2
。即:R=R1+R2≈R1
。①、近似计算(估算)95b、若两电阻R1
、R2
并联,如果R1>>R2(R1大十倍以上即可),则可忽略R1
。即:R=R1||R2≈R2
。96②、交、直流源同时出现在电路中时,采用叠加原理vO=vo2+VO1求vo2的过程称为动态分析求VO1的过程称为静态分析最后利用叠加原理得直流等效电路交流等效电路97例一:电路如下图,求vOvo=vo1+vo2=es第一步:静态分析vo2=es画直流等效电路,求vo1vo1=0V第二步:动态分析画交流等效电路,求vo298例二:电路如下图,求VO1
、VO2第一步:静态分析画直流等效电路,求Vo1’、Vo2’第二步:动态分析画交流等效电路,求vo2、vo299③、非线性元件有条件的线性化。可将非线性电路化为线性电路。
二极管的特性
三极管的特性IC
VCE
I
V
100考试成绩评定平时30%期末70%1011孙肖子等编,模拟电子技术基础,西安:西安电子科技大学出版社,2001.2康华光主编.电子技术基础(模拟部分,第四版),北京:高等教育出版社,1988.3谢嘉奎主编.电子线路(线性部分,第四版),北京:高等教育出版社,1999.参考书102第一章晶体二极管及其基本电路1-1半导体物理基础知识导体σ>104s/cm半导体σ在10-9~104s/cm间绝缘体σ<10-9s/cm物质半导体的特性:1.导电能力介于导体和绝缘体之间;2.导电能力随温度、光照或掺入某些杂质而发生显著变化。103硅(Si)、锗(Ge)和砷化镓(GaAs)1-1-1本征半导体104+14284+3228184硅原子(Silicon)锗原子(Germanium)图1
硅和锗原子结构图105+4图1-1硅和锗原子结构简化模型核电子(最外层)106+4+4+4+4共价键价电子图1-2单晶硅和锗共价键结构示意图107说明1、共价键:相邻两个原子中的价电子作为共用电子对而形成的相互作用力。2、单晶硅:原子按一定的间隔排列成有规律的空间点阵结构。通常共价键的电子受到所属原子核的吸引,是不能自由移动的。——束缚电子,不能参与导电。3、本征半导体:纯净的(未掺杂)单晶半导体称为本征半导体。108绝对零度(-273OC)时晶体中无自由电子——相当于绝缘体。载流子(Carrier)指半导体结构中获得运动能量的带电粒子。有温度环境就有载流子——本征激发一、半导体中的载流子
——自由电子和空穴109+4+4+4+4自由电子空穴束缚电子图1-3本征激发产生电子和空穴在一定的温度下,或者受到光照时,使价电子获得一定的额外能量,一部分价电子就能够冲破共价键的束缚变成自由电子——本征激发110空穴的运动:1、空穴的运动可以看成一个带正电荷的粒子的运动。2、一个空穴的运动实际上是许多价电子(不是自由电子)作相反运动的结果。但是一个空穴运动所引起的电流的大小只与空穴的多少有关,与多少个价电子运动无关。3、若没有空穴,价电子不会运动,即使互换位置也不会带来电荷的迁移。111结论在半导体中,有两种载流子:自由电子(负电荷)和空穴(正电荷)。在本征半导体中,自由电子和空穴是成对出现的。112二、本征载流子浓度复合:由于正负电荷相吸引,自由电子会填入空穴成为价电子,同时释放出相应的能量,从而消失一对电子、空穴,这一过程称为复合。与本征激发是相反的过程。一分为二本征激发
复合合二为一载流子浓度:载流子浓度越大,复合的机会就越多。在一定温度下,当没有其它能量存在时,电子、空穴对的产生与复合最终达到一种热平衡状态,使本征半导体中载流子的浓度一定。113本征载流子浓度:式中:ni、pi——分别表示电子和空穴的浓度(㎝-3);
T——为热力学温度(K);
EG0为T=0K(-273oC)时的禁带宽度(硅为1.21eV,锗为0.78eV);
k为玻尔兹曼常数(8.63×10-6V/K);A0为与半导体材料有关的常数(硅为3.87×1016㎝-3·,锗为1.76×1016㎝-3·)。114说明随着T的增加,载流子浓度按指数规律增加。——对温度非常敏感。在T=300K的室温下,本征硅(锗)的载流子浓度=1.43×1010㎝-3(2.38×1013㎝-3),本征硅(锗)的原子密度=5×1022㎝-3
(4.4×1022㎝-3)。 相比之下,室温下只有极少数原子的价电子(三万亿分之一)受激发产生电子、空穴对。115结论
本征半导体的导电能力是很弱的;本征载流子浓度随温度升高近似按指数规律增大,所以其导电性能对温度的变化很敏感。1161-1-2杂质半导体(掺杂半导体)
在本征半导体中掺入微量的元素(称为杂质),会使其导电性能发生显著变化。————杂质半导体。根据掺入杂质的不同,杂质半导体可分为N型半导体和P型半导体。117一、N型半导体
图1-4N型半导体原子结构示意图+4+5+4+4键外电子束缚电子施主原子118说明在本征硅(锗)中掺入少量的五价元素(如:磷、砷、锑等)就得到N型半导体。杂质原子顶替硅原子,多一个电子位于共价键之外,受原子的束缚力很弱,很容易激发成为自由电子。几乎一个杂质原子能提供一个自由电子,从而自由电子数大大增加。——施主杂质。由于自由电子的浓度增加,与空穴(本征激发产生的)复合的机会也增加,因此空穴浓度相应减少。119在N型半导体中: 自由电子——多数载流子,简称多子; 空穴——少数载流子,简称少子。答:N型半导体是电中性的。虽然自由电子数远大于空穴数,但由于施主正离子的存在,使正、负电荷数相等,即自由电子数=空穴数+施主正离子
问题:N型半导体是带正电还是带负电?120
图1-5P型半导体原子结构示意图受主原子空位+4+3+4+4束缚电子二、P型半导体(Positivetype)121
在本征硅(或锗)中,掺入少量的三价元素(硼、铝等),就得到P型半导体。室温时,几乎全部杂质原子都能提供一个空穴。多子(多数载流子):空穴;少子(少数载流子):自由电子;P型半导体是电中性的。空穴数=自由电子数+受主负离子122三、杂质半导体的载流子浓度多子的浓度 在杂质半导体中,杂质原子所提供的多子数远大于本征激发的载流子数。
结论:多子的浓度主要由掺杂浓度决定。少子的浓度 少子主要由本征激发产生,因掺杂不同,会随多子浓度的变化而变化。123结论:在热平衡下,多子浓度值与少子浓度值的乘积恒等于本征载流子浓度值ni的平方。
对N型半导体,多子nn与少子pn有124对P型半导体,多子pp与少子np有125小结1.本征半导体通过掺杂,可以大大改变半导体内载流子的浓度,并使一种载流子多,另一种载流子少。2.多子浓度主要取决于杂质的含量,它与温度几乎无关;少子的浓度则主要与本征激发有关,因而它的浓度与温度有十分密切的关系。1261-1-3半导体中的电流
在导体中,载流子只有一种:自由电子。在电场作用下,产生定向的漂移运动形成漂移电流。在半导体中有两种载流子:自由电子和空穴。电场作用下的漂移电流两种类型的电流浓度差导致的扩散电流127IpIn一、漂移电流总电流:1、定义:在电场作用下,半导体中的载流子作定向飘移运动而形成的电流。128①载流子浓度2.漂移电流大小取决于②外加电场强度③迁移速度二、扩散电流
在半导体工作中,扩散运动是比漂移运动更为重要的导电机理。金属导体是不具有这种电流的,正是由于扩散电流特性,才能够将它做成电子器件。129平衡载流子浓度:一般的本征半导体在温度不变、无光照或其他激发下,载流子浓度分布均匀。非平衡载流子浓度:若一端注入载流子或用光线照射该端。则该端的载流子浓度增加。130图1―6半导体中载流子的浓度分布131扩散电流大小主要取决于该处载流子浓度差(即浓度梯度)。浓度差越大,扩散电流越大,而与该处的浓度值无关。132思考题与习题导体、半导体和绝缘体的区别?说明半导体材料的特性及其应用解释本征半导体、杂质半导体的区别?解释N型半导体与P型半导体的区别?为什么说这两种半导体仍然对外呈电中性?解释杂质半导体的多子浓度和少子浓度各由何种因素决定的?解释漂移电流和扩散电流的构成?1331-2PN结
PN结是半导体器件的核心,可以构成一个二极管。PN
本征硅的一边做成P型半导体,一边做成N型半导体。交界处形成一个很薄的特殊物理层。——PN结134+++++++++++++++PN(a)空穴和电子的扩散1-2-1PN结的形成
由于扩散运动,使接触面附近的空穴和电子形成不能移动的负离子和正离子状态,这个区域称为空间电荷区(耗尽层),即PN结。135PN空间电荷区内电场UB(b)平衡时的PN结图1-7PN结的形成+++++++++++++++136PN结形成“三步曲”(1)多数载流子的扩散运动。(2)空间电荷区的形成促进少子的漂移运动,阻止多子的扩散运动。(3)扩散运动与漂移运动的动态平衡。PN结又称为势垒区、阻挡层。PN结很窄(几个到几十个
m)。空间电荷区(耗尽层)137问题:达到动态平衡时,在PN结流过的总电流为多少,方向是什么?如下图,多子的扩散电流方向为从左到右,少子的漂移电流方向从右到左。两者在动态平衡时,大小相等,而方向相反,所以流过PN结的总电流为零。
多子扩散电流方向少子漂移电流方向PN多子少子多子少子138对称PN结:如果P区和N区的掺杂浓度相同,则耗尽区相对界面对称,称为对称结不对称PN结:如果一边掺杂浓度大(重掺杂),一边掺杂浓度小(轻掺杂),此耗尽区主要伸向轻掺杂区一边,这样的PN结称为不对称结139问题:为什么PN结伸向轻掺杂区?答:轻掺杂区的施主正离子(或受主负离子)的排列稀疏,重掺杂区的施主正离子(或受主负离子)的排列紧密。两边电荷量相等,所以会伸向轻掺杂区。140PN耗尽区内电场UB
-U图1-9正向偏置的PN结+-ERU+++++++++++++++1-2-2PN结的单向导电特性141PN结加正向电压外加的正向电压大部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场。于是,内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响。PN结呈现低阻性,有较大的正偏电流。142图1-10反向偏置的PN结ERPN耗尽区内电场UB
+U-+U+++++++++++++++二、PN结加反向电压143PN结加反向电压外加的反向电压大部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相同,加强了内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。此时PN结区的少子在内电场作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流。PN结呈现高阻性。在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为反向饱和电流。
144
PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流;PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。结论:PN结具有单向导电性。145三、PN结电流方程图1-11PN结的伏安特性当T=300K(室温)时,UT=26mV。iu0-U(BR)IS为反向饱和电流(10-15A)。UT=KT/q,温度电压当量,146PN结伏安特性由上式当u为正时
PN结外加正电压时,流过电流为正电压的e指数关系。当u为负时
PN结外加负电压时流过电流为饱和漏电流。1471-2-5PN结的温度特性一、反映在伏安特性上为:温度升高,正向特性向左移,反向特性向下移。1.保持正向电流不变时,温度每升高1℃,结电压减小约2~2.5mV,即Δu/ΔT≈-(2~2.5)mV/℃2.温度每升高10℃,反向饱和电流IS增大一倍。148
硅管:UD(on)=0.7V。锗管:UD(on)=0.3Viu0TT-U(BR)导通电压UD(on)UD(on)1491-2-3PN结的击穿特性当对PN结外加反向电压超过一定的限度,PN结会从反向截止发展到反向击穿。反向击穿破坏了PN结的单向导电特性。利用此原理可以制成稳压管。
U(BR)称为PN结的击穿电压。有两种击穿机理:雪崩击穿和齐纳击穿。150轻掺杂
耗尽区较宽
少子动能增大
碰撞中性原子
产生电子、空穴对
连锁反应
产生大量电子、空穴对
反向电流剧增。雪崩击穿重掺杂
耗尽区很窄
强电场
将中性原子的价电子直接拉出共价键
产生大量电子、空穴对
反向电流增大.齐纳击穿151击穿种类掺杂情况耗尽层宽度击穿机理雪崩击穿轻掺杂宽因为耗尽层宽,使加速的少子撞击耗尽区的中性原子,产生电子、空穴对,反复作用使载流子数目迅速增加齐纳击穿重掺杂窄较窄的耗尽区有很强的电场,强电场使耗尽区的价电子被直接拉出共价键,产生电子、空穴对。雪崩击穿和齐纳击穿的比较152问题:为什么轻掺杂的PN结不易出现齐纳击穿?相反重掺杂为什么不易出现雪崩击穿?答:因为轻掺杂的耗尽层宽,正负离子分布稀疏,电场强度不够强,不足以拉出价电子。而重掺杂的耗尽层窄使少子的加速时间短,少子的动能不足以撞击中性原子,产生电子空穴对。153一般来说,对硅材料的PN结,UBR>7V时为雪崩击穿;
UBR<5V时为齐纳击穿;
UBR介于5~7V时,两种击穿都有。154击穿的可逆性电击穿是可逆的(可恢复,当有限流电阻时)。电击穿后如无限流措施,将发生热击穿现象。热击穿会破坏PN结结构(烧坏)热击穿是不可逆的。1551-2-4PN结的电容特性PN结的耗尽区与平板电容器相似,外加电压变化,耗尽区的宽度变化,则耗尽区中的正负离子数目变化,即存储的电荷量变化。一、势垒电容CT156多子扩散
在对方区形成非平衡少子的浓度分布曲线
偏置电压变化
分布曲线变化
非平衡少子变化
电荷变化。二、扩散电容CD157图1―12P区少子浓度分布曲线158结电容Cj=CT+CD结论因为CT和CD并不大,所以在高频工作时,才考虑它们的影响。
正偏时以扩散电容CD为主,Cj≈CD
,其值通常为几十至几百pF;
反偏时以势垒电容CT为主,Cj
≈CT,其值通常为几至几十pF。(如:变容二极管)1591-3晶体二极管及其基本电路PN结加上电极引线和管壳就形成晶体二极管。图1-13晶体二极管结构示意图及电路符号
P区N区正极负极(a)结构示意图(b)电路符号PN正极负极1601-3-1二极管特性曲线二极管特性曲线与PN结基本相同,略有差异。图1-14二极管伏安特性曲线
i/mAu/V(
A)0102030-5-10-0.50.5硅
二
极
管161一、正向特性硅:UD(on)=0.7V;1.导通电压或死区电压2.曲线分段:锗:UD(on)=0.3V。3.小功率二极管正常工作的电流范围内,管压降变化比较小。指数段(小电流时)、直线段(大电流时)。一般硅:0.6~0.8V,锗:0.1~0.3V。
i/mAu/V(
A)0102030-5-10-0.50.5硅
二
极
管162二、反向特性2.小功率二极管的反向电流很小。一般硅管<0.1
A,锗管<几十微安。1.反向电压加大时,反向电流也略有增大。
i/mAu/V(
A)0102030-5-10-0.50.5硅
二
极
管1631-3-2二极管的主要参数一、直流电阻图1-15二极管电阻的几何意义IDUDQ1RD=UD/IDRD
的几何意义:iu0Q2(a)直流电阻RDQ点到原点直线斜率的倒数。RD不是恒定的,正向的RD随工作电流增大而减小,反向的RD随反向电压的增大而增大。1641.正向电阻:几百欧姆;反向电阻:几百千欧姆;2.Q点不同,测出的电阻也不同;结论因此,PN结具有单向导电特性。165二、交流电阻二极管在其工作状态(IDQ,UDQ)下的电压微变量与电流微变量之比。iu0Q
i
u(b)交流电阻rDrD
的几何意义:Q(IDQ,UDQ)点处切线斜率的倒数。166与IDQ成反比,并与温度有关。167例:已知D为Si二极管,流过D的直流电流ID=10mA,交流电压有效值
U=10mV,求室温下流过D的交流电流有效值
I=?10VDR0.93KΩUID解:交流电阻交流电流有效值为:168三、最大整流电流IF四、最大反向工作电压URM五、反向电流IR允许通过的最大正向平均电流。通常取U(BR)的一半,超过U(BR)容易发生反向击穿。未击穿时的反向电流。IR越小,单向导电性能越好。169六、最高工作频率fM※
需要指出,手册中给出的一般为典型值,需要时应通过实际测量得到准确值。工作频率超过f
M时,二极管的单向导电性能变坏。170对电子线路进行分析(定量分析)时,电路中的实际器件必须用相应的电路模型来等效表示,这称为:“建模”。计算机辅助分析计算要使用管子的模型。一、二极管的大信号等效电路1-3-3晶体二极管模型171由于二极管的非线性特性,当电路加入二极管时,便成为非线性电路。实际应用时可根据二极管的应用条件作合理近似,得到相应的等效电路,化为线性电路非线性近似线性
i/mAu/V(
A)0102030-5-10-0.50.5硅
二
极
管172图1-16二极管特性的折线近似及电路模型硅管:UD(on)=0.7V锗管:UD(on)=0.3ViA1uBUD(on)C0(a)折线近似特性U<UD(on)U
UD(on)12UD(on)rD(on)(b)近似电路模型173图1-16二极管特性的折线近似及电路模型iA′uBUD(on)C0(a)折线近似特性U<UD(on)U
UD(on)12UD(on)(c)简化电路模型174图1-16二极管特性的折线近似及电路模型iA2uB0C0(a)折线近似特性U<0U
012(d)理想电路模型175二极管大信号模型以上三种电路模型(近似、简化、理想)均为二极管线性化模型。对不同电路模型可在不同需求时采用。
176一、二极管整流电路
把交流电转变为直流电称为“整流”。反之称为“逆变”。整流交流电直流电逆变
1-3-4二极管基本应用电路177图1-17二极管半波整流电路及波形tui0
uot0(b)输入、输出波形关系VRLuiuo(a)电路
二极管近似为理想模型
思考:二极管近似为简化模型的电路输出?178uit010V0.7V179二、二极管限幅电路又称为:“削波电路”。能够把输入电压变化范围加以限制,常用于波形变换和整形。180图1-20二极管上限幅电路及波形
(b)
输入、输出波形关系t0
uo/V2.7-5t
ui/V0-55(a)电路E2VVRuiuo
二极管近似为简化模型181判别原则:ui-E
UD(ON)
时,V导通,否则截止。①当u
i≥2.7V,V导通,uo=E+0.7=2.7V②当u
i<2.7V时,V截止,即开路,uo=u
i。即:E2VVRuiuo182三、二极管电平选择电路能够从多路输入信号中选出最低电平或最高电平的电路称为电平选择电路。183输入数字量时为与逻辑。5V1841.稳压二极管的正向特性、反向特性与普通二极管基本相同,区别仅在于反向击穿时,特性曲线更加陡峭。2.稳压管在反向击穿后,能通过调节自身电流,实现稳定电压的功能。电压几乎不变,为-UZ。即当一、稳压二极管的特性1-3-5稳压二极管及稳压电路185图1-21稳压二极管及其特性曲线(a)
电路符号i/mAu/V
IZmax0-UZ
IZmin(b)伏安特性曲线186二、稳压二极管主要参数稳压电压UZ额定功耗Pz稳定电流Iz动态电阻rz温度系数
187稳压电压UZ指管子长期稳定时的工作电压值。188额定功耗Pz
与材料、结构、工艺有关。使用时不允许超过此值。189稳定电流Iz稳压二极管正常工作时的参考电流。IZmin<IZ<IZmax,如果电流小于IZmin时,不能稳压,大于IZmax时,容易烧坏管子。i/mAu/V
IZmax0-UZ
IZmin(b)伏安特性曲线190动态电阻rz是在击穿状态下,管子两端电压变化量与电流变化量的比值。反映在特性曲线上,是工作点处切线斜率的倒数。一般为几欧姆到几十欧姆(越小越好)。i/mAu/V
IZmax0-UZ
IZmin(b)伏安特性曲线191温度系数
指管子稳定电压受温度影响的程度。>7V是正温系数(雪崩击穿);<5V是负温系数(齐纳击穿);5~7V温度系数最小。192所谓稳压指当Ui、RL变化时,UO保持恒定。图1-22稳压二极管稳压电路R
ILIZVZ
RLUiUo三、稳压二极管稳压电路稳压原理:若Ui不变,RL↓→Iz↓→IL↑→UO基本不变;
若RL不变,Ui↑→Iz↑→UR↑→UO基本不变193限流电阻R的选择:选择R的限制条件:当Ui、RL变化时,Iz应满足Izmin<Iz<Izmax
设外界条件为:Uimin<Ui<Uimax;RLmin<RL<RLmax
图1-22稳压二极管稳压电路R
ILIZVZ
RLUiUo194图1-22稳压二极管稳压电路R
ILIZVZ
RLUiUo分析过程: 根据电路:Iz何时取最大值?——ui=Uimax,RL=RLmax195图1-22稳压二极管稳压电路R
ILIZVZ
RLUiUo196图1-22稳压二极管稳压电路R
ILIZVZ
RLUiUoIz何时取最小值?——ui=Uimin,RL=RLmin197Rmin
<R<Rmax因此,可得限流电阻的取值范围是:图1-22稳压二极管稳压电路R
ILIZVZ
RLUiUo1981-6习题讲解V2导通,V1截止,UO=5V。二极管等效为理想模型V1导通,V2截止,UO=0V。V1导通,V2导通UO=1.98V。1991-7在图P1-7所示的电路中,设二极管为理想二极管。当输入电压ui由0逐渐增加到10V时,试画出输出电压ui与uO的关系曲线。2002011-10稳压二极管电路如图P1-10所示,已知稳压管的UZ=6V,限流电阻R=100Ω。(1)当RL=200Ω时,稳压管的IZ=?UO=?(2)当RL=50Ω时,稳压管的IZ=?UO=?202解:(1)(2)203作业1-11-31-41-71-91-10204小结2.PN结是现代半导体器件的基础。它具有单向导电性、击穿特性和电容特性。1.N型半导体中,电子是多子,空穴是少子;P型半导体中,空穴是多子,电子是少子;多子浓度由掺杂浓度决定,少子浓度很小且随温度的变化而变化。3.
半导体二极管由一个PN结构成,大信号应用时表现为开关特性。4.利用PN结的击穿特性可制作稳压二极管。用稳压二极管构成稳压电路时,首先应保证稳压管反向击穿,另外必须串接限流电阻。205206KristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002AnalogElectronicsTutorialSeriesDIODES207TableofContentsKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002Whatarediodesmadeoutof?____________________slide3N-typematerial_________________________________slide4P-typematerial_________________________________slide5Thepnjunction_________________________________slides6-7Thebiasedpnjunction___________________________slides8-9Propertiesofdiodes_____________________________slides10-11DiodeCircuitModels____________________________slides12-16TheQPoint____________________________________slides17-18DynamicResistance_____________________________slides19-20Typesofdiodesandtheiruses___________________slides21-24Sources_______________________________________slide25208WhatAreDiodesMadeOutOf?KristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002Silicon(Si)andGermanium(Ge)arethetwomostcommonsingleelementsthatareusedtomakeDiodes.AcompoundthatiscommonlyusedisGalliumArsenide(GaAs),especiallyinthecaseofLEDsbecauseofit’slargebandgap.SiliconandGermaniumarebothgroup4elements,meaningtheyhave4valenceelectrons.Theirstructureallowsthemtogrowinashapecalledthediamondlattice.Galliumisagroup3elementwhileArsenideisagroup5element.Whenputtogetherasacompound,GaAscreatesazincblendlatticestructure.Inboththediamondlatticeandzincblendlattice,eachatomsharesitsvalenceelectronswithitsfourclosestneighbors.Thissharingofelectronsiswhatultimatelyallowsdiodestobebuild.Whendopantsfromgroups3or5(inmostcases)areaddedtoSi,GeorGaAsitchangesthepropertiesofthematerialsoweareabletomaketheP-andN-typematerialsthatbecomethediode.Si+4Si+4Si+4Si+4Si+4Si+4Si+4Si+4Si+4Thediagramaboveshowsthe2DstructureoftheSicrystal.Thelightgreenlinesrepresenttheelectronicbondsmadewhenthevalenceelectronsareshared.EachSiatomsharesoneelectronwitheachofitsfourclosestneighborssothatitsvalencebandwillhaveafull8electrons.209N-TypeMaterialKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002N-TypeMaterial:Whenextravalenceelectronsareintroducedintoamaterialsuchassiliconann-typematerialisproduced.Theextravalenceelectronsareintroducedbyputtingimpuritiesordopantsintothesilicon.Thedopantsusedtocreateann-typematerialareGroupVelements.ThemostcommonlyuseddopantsfromGroupVarearsenic,antimonyandphosphorus.The2DdiagramtotheleftshowstheextraelectronthatwillbepresentwhenaGroupVdopantisintroducedtoamaterialsuchassilicon.Thisextraelectronisverymobile.+4+4+5+4+4+4+4+4+4210P-TypeMaterialKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002P-TypeMaterial:P-typematerialisproducedwhenthedopantthatisintroducedisfromGroupIII.GroupIIIelementshaveonly3valenceelectronsandthereforethereisanelectronmissing.Thiscreatesahole(h+),orapositivechargethatcanmovearoundinthematerial.CommonlyusedGroupIIIdopantsarealuminum,boron,andgallium.The2DdiagramtotheleftshowstheholethatwillbepresentwhenaGroupIIIdopantisintroducedtoamaterialsuchassilicon.Thisholeisquitemobileinthesamewaytheextraelectronismobileinan-typematerial.+4+4+3+4+4+4+4+4+4211ThePNJunctionKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002SteadyState1Pn
------------------------------++++++++++++++++++++++++++++++NaNdMetallurgicalJunctionSpaceChargeRegionionizedacceptorsionizeddonorsE-Field++__h+drifth+diffusione-diffusione-drift==212ThePNJunctionSteadyStateKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002Pn
--------------------++++++++++++++++++++NaNdMetallurgicalJunctionSpaceChargeRegionionizedacceptorsionizeddonorsE-Field++__h+drifth+diffusione-diffusione-drift====Whennoexternalsourceisconnectedtothepnjunction,diffusionanddriftbalanceeachotheroutforboththeholesandelectronsSpaceChargeRegion:
Alsocalledthedepletionregion.Thisregionincludesthenetpositivelyandnegativelychargedregions.Thespacechargeregiondoesnothaveanyfreecarriers.ThewidthofthespacechargeregionisdenotedbyWinpnjunctionformula’s.MetallurgicalJunction:
Theinterfacewherethep-andn-typematerialsmeet.Na&Nd:
Representtheamountofnegativeandpositivedopinginnumberofcarrierspercentimetercubed.Usuallyintherangeof1015to1020.213TheBiasedPNJunctionKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002Pn+_AppliedElectricFieldMetalContact“OhmicContact”(Rs~0)+_VappliedIThepnjunctionisconsideredbiasedwhenanexternalvoltageisapplied.Therearetwotypesofbiasing:ForwardbiasandReversebias.Thesearedescribedonthennextslide.214TheBiasedPNJunctionKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002ForwardBias:Inforwardbiasthedepletionregionshrinksslightlyinwidth.Withthisshrinkingtheenergyrequiredforchargecarrierstocrossthedepletionregiondecreasesexponentially.Therefore,astheappliedvoltageincreases,currentstartstoflowacrossthejunction.Thebarrierpotentialofthediodeisthevoltageatwhichappreciablecurrentstartstoflowthroughthediode.Thebarrierpotentialvariesfordifferentmaterials.ReverseBias:Underreversebiasthedepletionregionwidens.Thiscausestheelectricfieldproducedbytheionstocancelouttheappliedreversebiasvoltage.Asmallleakagecurrent,Is(saturationcurrent)flowsunderreversebiasconditions.Thissaturationcurrentismadeupofelectron-holepairsbeingproducedinthedepletionregion.Saturationcurrentissometimesreferredtoasscalecurrentbecauseofit’srelationshiptojunctiontemperature.Vapplied>0Vapplied<0215PropertiesofDiodesKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002Figure1.10–TheDiodeTransconductanceCurve2VD=BiasVoltageID=CurrentthroughDiode.IDisNegativeforReverseBiasandPositiveforForwardBiasIS=SaturationCurrentVBR=BreakdownVoltageV
=BarrierPotentialVoltageVDID(mA)(nA)VBR~V
IS216PropertiesofDiodesTheShockleyEquationKristinAckerson,VirginiaTechEESpring2002Thetransconductancecurveonthepreviousslideischaracterizedbythefollowingequation:ID=IS(eVD/
VT–1)Asdescribedinthelastslide,IDisthecurrentthroughthediode,ISisthesaturationcurrentandVDistheappliedbiasingvoltage.VTisthethermalequivalentvoltageandisapproximately26mVa
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