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文档简介
一、单选题(只有一个正确答案)整的装置是?C.温度解析:紫外辐照老化主要取决于累积的总剂量(能量),而非瞬时辐照度,需监测5.光学经纬仪的主要功能不包括?A.测量水平角原因是?A.光源不稳定C.激光器未启动A.自准直法C.提高照度解析:光阑主要用于限制成像范围(视场)和改善像质(孔径光阑),提高照度通C.切触法C.倾斜误差C.检查光源波长漂移?B.信号饱和19.光学干涉仪主要用于检测?A.透射率22.关于光学平台(隔振台)的使用,下列做法错误的是?B.调平后不需要再检查解析:接触点可能出现凹陷或凸起,导致中心光强不确定(亮或暗),这会影响测的是?A.开启除湿机A.激光干涉仪常采用什么方法?A.低气压A.透镜折射率A.氮气C.氧气35.在光学元件的清洁过程中,对于软性镜片(如塑料)应使用什么材质的镜头纸?B.无纺布A.越低越好解析:人眼(或探测器)若对准的不是系统的出瞳位置,会导A.质量越大越好C.环境补偿C.镁乳胶43.检测光学元件透过率的专用仪器是?C.光谱辐射计A.指向太阳A.发霉47.平行光管(准直仪)的作用是?加装?C.棱镜设备是?A.辐射度量法C.波动光学法标的?A.颜色和表面粗糙度解析:目标表面的反射率(颜色)和粗糙度直接决定了激光的系统存在?D.畸变C.偏振C.地球高能带电粒子(捕获辐射)A.升温固化C.低温溅射要受限于?B.场曲A.红宝石激光C.氦氖激光A.1层B.正透镜屈光力不足解析:焦距与透镜组的光焦度成反比。若系统总光焦度偏大(负透镜偏强),则焦A.碳弧灯B.氙灯D.卤素灯B.丙酮A.提高透光率C.清除划痕A.平面度误差C.倾斜解析:干涉条纹的弯曲程度反映面形偏差。封闭条纹(牛顿环降,说明系统?D.装调良好解析:高频区的MTF下降通常对应孔径高级像差(如彗差、球差)较大,导致成69.用于测量表面粗糙度的商用仪器“轮廓仪”,其原理通常是?A.结构强度C.气密性解析:制作模拟样机(通常为半实物仿真或全实物装调)用于A.散射B.反射B.粗略装调像平面(清晰度)的位置,通常依靠边缘锐度变化来判断。机的?反推出相机在全波段的光谱响应函数(灵敏度曲线)。种现象称为?B.暗角二、多选题(有2个以上正确答案)热控系统(如热管、流体回路)完成,而非由真空泵完成。A.光学零件的表面面形误差(如PV值、RMS值)形)都会显著降低成像质量。C.环境温度通常不作为评价像质的“指标”(如MTF值)来讨论。解析:低温箱用于模拟太空中的低温环境(如极夜、深空、轨道高寒)。地面大气环境通常由环境舱(温湿度箱)模拟。A.积分球法解析:光学装调通常使用中心孔(刚性高)或面盘(6点或更多点)进行高精度定D.金属卷尺放,从而引起光学元件间的相对位移(离焦)。16.光学装调中,用于观察干涉条纹(如环形条纹、直条纹)的仪器是?D.泰曼-格林干涉仪本身(直接观察)C.器件(如CCD/CMOS)的制冷深度20.光学装测中,检测光学零件表面质量(划痕、麻点)时,常用的照明方式是?A.环形光照明C.柱面光照明D.大气散射导致图像模糊D.利用相对式传感器(需起始点推算)A.物理测量法(测量前后顶点距离)B.后截距法C.边缘光线法解析:焦距测量通常采用物理测量(如透镜前后表面顶点距)A.实时成像质量C.黑电平C.增强对特定波长的反射(滤光)解析:镀膜用于增透(增加透过率)或滤光(特定波长反射)。镜片曲率改变焦距是透镜本身的几何特性,镀膜不改变折射率(解析:真空环境会使非挥发性密封材料(如橡胶)的升华更为A.粗调旋钮A.测量真空度(压强)解析:真空计测量压强。质谱计(常与真空计联用)测量气体响较小(非色散效应)。A.镜头外表面镀高反射率金层(或冷光镜)解析:A、B、C是针对光学镜头的热控。D是针对探测器(焦平面)的热控。B.提供高真空环境解析:冷黑空间模拟器通过真空和制冷面(黑体)模拟深空的低温和低发射率背景C.像面弯曲D.慧差增加解析:镜筒热变形通常表现为整体的倾斜或轴向位移(离焦)。严重的变形才可能引入像差(如慧差),但主要表现为视轴偏移和离焦。39.光学装测中,若光源的相干性太强(如单色激光),使用干涉仪测量可能产生?现象),从而干扰测量。A.各透镜的间距(光轴间距)C.透镜的倾斜角41.激光器在光学装调中常用的波长有?C.涂层耐真空性影响像质;镀膜层的结合力和耐真空性(如脱膜)也是考核重点。防辐射能力通常B.透过率(反射率)A.温度波动行度(反射像重合度)、光轴的垂直度或倾斜角,以及多47.光学装调中使用的纳米级位移台(压电陶瓷驱动)具有什么特点?A.位移精度高合精密微调。但其位移行程通常很小(纳米至微米级),所以范围不大(B错)。49.装测系统中常用的光源包括?B.近距法C.回转法(利用自准直仪)解析:远距法适用于长焦距测量;近距法(贝塞尔法)适用于51.光学装调中使用的环氧树脂类胶水(如光敏胶、UV胶)主要特性包括?B.真空环境中A.镀膜工艺B.结构遮挡(挡光圈)56.用于测量光学系统像质(如星点、弥散斑)的设备有?A.星点模拟器A.输出光强稳定B.球壁涂层均匀(积分漫反射)明。积分球对孔径比(出光口与球半径比)有要求以提升效率。C.钢制大理石平台(地面)效隔绝地面低频振动。单纯放置在大理石平台(通常仅靠其解析:通过采用不同波长的激光进行测量(如双色或多波长技术),可以显著增大解析:表面粗糙度直接影响光学表面的反射率和散射特性,进而影响光学系统的透过率、对比度等成像质量参数。20.紫外光辐照试验不会对传统的光学装测设备(如干涉仪)的光学玻璃元件造成29.在光学装测系统中,折反系统(如卡塞格林系统)的杂散光主要来源于镜筒内解析:严禁敲击精密仪器,敲击会产生微冲击导致精密部件(如分划板、透镜)位解析:阿贝折射仪通常使用钠光灯作为光源(单色性较好),其测量精度主要受限解析:绝对压力计测量的是绝对压强
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