CN116422687B 酸性铀污染地下水原位修复抽注液系统、原位化学还原修复系统、联动修复处理系统和方法 （核工业北京化工冶金研究院）

JP2018051457A,201CN210313802U,2020.04.14所述联动修复处理系统中异位处理系统与原位的化学还原药剂最大限度的经过地下水污染纵沉淀逐渐填充含矿层孔隙，逐渐降低矿层渗透2所述b1所述b13和b4中的注液花管的中心位于含矿含水层中所述注液花管的长度为6~14m;33.如权利要求1所述的联动修复处理系统，其特4.如权利要求1所述的联动修复处理系统，其特征在于，5.一种用于权利要求1~4任一项所述联动修复处理系统的酸性铀污染地下水的原位修所述b1所述b13和b4中的注液花管的中心位于含矿含水层中6.一种用于权利要求1~4任一项所述联动修复处理系统的酸性铀污染地下水的原位化原位化学还原联动异位处理处理方法在权利要求要求1~4任一项所述联动修复处理系统中4在所述铀污染地下水原位修复抽注液系统的基础上建立异位处理系统和/或建立原位利用所述铀污染地下水原位修复抽注液系统抽水至异位处理系统和/或抽水至原位化5要根据污染羽形态和断面确定治理过程中的[0003]目前针对酸性矿山废水主要采用石灰中和沉淀法，处理过程会产生大量固体废[0005]所述原位修复抽注液系统能使回灌的化学还原药剂最大限度的经过地下水污染系统，还包括与所述原位修复抽注液系统连接的原位化学还原修复系统和/或异位处理系6和c4；和b4中的注液花管的中心位于含矿含水层中上顶板与下底板之间；和c4中的注液花管的顶部高度含矿含水层中上顶板的下表面高度相7和c4；[0046]本发明还提供了一种酸性铀污染地下水的原位化学还原[0048]在所述铀污染地下水原位修复抽注液系统的基础上建立异位处理系统和/或建立[0049]利用所述铀污染地下水原位修复抽注液系统抽水至异位处理系统和/或抽水至原连接的原位化学还原修复系统和/或异位处理系统；当所述酸性铀污染地下水包括原位修8和c4和c4中的剩余两个注孔位于Y轴并为点对称分布；所述原位化b1构可以通过抽注循环形成污染物截留断面也9和c4均为注孔；系统，还包括与所述原位修复抽注液系统连接的原位化学还原修复系统和/或异位处理系和c4；和b4中的注液花管的中心位于含矿含水层中上顶板与下底板之间；和c4中的注液花管的顶部高度含矿含水层中上顶板的下表面高度相[0096]本发明首次提出了采用质量浓度为220％的硫化钠溶液进行酸性含铀地下水抽液与还原剂在第一管道混合器11_1中混合后进入沉淀池6进行沉淀，得到的上清液依次[0104]本发明还包括开启深井潜水泵1并通过抽液流量计抽液至第一管道混合器11_1，将溶药箱3中的还原剂停止向第二管道混合器11_2加药，并切换至向第一管道混合器11_1液依次通过注液池8注液泵9和注液流量计10回[0106]在本发明中，所述重复循环的次数优选为总注液体积达到注液孔隙体积的1～2[0107]在本发明中，所述原位化学还原修复系统中的中心筒7优选与所述原位修复抽注液系统中的抽孔连接；所述原位化学还原修复系统中的注液泵9优选与所述原位修复抽注率优选为1020更优选为1218最优选为1416％。[0117]在本发明中，所述除镭沉淀池5中添加的药剂优选为氯化钡，添加量优选为1~％～[0131]在所述铀污染地下水原位修复抽注液系统的基础上建立异位处理系统和/或建立[0132]利用所述铀污染地下水原位修复抽注液系统抽水至异位处理系统和/或抽水至原抽水至原位化学还原修复系统进行修复处理的过程优选参考上述技术方案所述的过程进[0134]当在所述铀污染地下水原位修复抽注液系统的基础上建立异位处理系统和原位[0135]下面结合实施例对本发明提供的酸性铀污染地下水原位化学还原修复系统和方和c4和b4中的任意两个注孔位于X轴并为点对1和b4中的注液花管的中心位于含矿含水层中上顶板与下底板之间，且注液花器11_1与中心筒7管道连接；所述溶药箱3包括搅拌器4；所述溶药箱3中装有质量浓度为液池8中的水均进入第二管道混合器11_2进行混合(所述还原剂的加药量为1000mg/L)后，将得到的混合液通过注液泵9和注液流量计10注液回灌(初始压力为0.6MPa)至地下(1组9合器11_1加药，使抽液与还原剂在第一管道混合器11_1中混合后进入沉淀池6静置1h进行c4b3和b4中的注液花管的中心位于含矿含水层中上顶板与下底板之间，且注液花管的中心的[0147]2)在上述铀污染地下水原位修复抽注液系统和的基础上建立抽出水异位处理系[0148]3)在上述铀污染地下水原位修复抽注液系统的基础上建立原位化学还原抽注液件下进行生物矿化，控制矿化周期为16h后，经过石英砂过滤器过滤降低溶液固体悬浮颗[0152]将所述反渗透出水进入除镭沉淀池的同时加入30ppm的氯化钡进行除镭处理，得[0153]将经过所述除镭处理后的出水送入pH调节池的同时加入占所述出水质量百分比溶药箱3中的还原剂和注液池8中的水均