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文档简介
[24]。图1.13刻蚀操作平台刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。湿法（化学）刻蚀就是使用那些对某些物质有较强腐蚀性能的化学药品或试剂等来除去待腐蚀的材料。一些常见的标准处理搭配如采用氢氟酸而非其他强酸来腐蚀二氧化硅；使用磷酸腐蚀氮化硅；多晶硅则用硝酸辅以氢氟酸进行腐蚀；除了上述常见的几种情况，大多情况下一般采用多种酸的混合液对各种金属材料及相关合金进行化学腐蚀。要提升湿法腐蚀的效果，主要从腐蚀时间及环境温度两个方面来下手，调整适宜的腐蚀时间和环境温度能够较好地改善腐蚀效果。干法腐蚀（也被称作等离子刻蚀）所用的等离子气体是具有强烈化学活泼特性的射频淬离子气体。该工艺在应用时需要对气体进行准确控制，可以调节的变量有气压、流速、体积混合比和射频的功率。干法腐蚀和溅射非常类似并可以采用相同的仪器设备装置来进行。
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