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文档简介

薄膜电路溅射工岗位操作考试试卷及答案薄膜电路溅射工岗位操作考试试卷及答案填空题(每题1分,共10分)1.溅射工艺中常用的工作气体是______2.磁控溅射利用______增强等离子体密度3.真空度达到______Pa以下才能开始溅射(填数量级)4.控制薄膜厚度的关键参数之一是______5.靶材的常用冷却方式是______6.基片预处理的常用方法是______7.薄膜电路中常用的金属靶材是______8.测量真空度的仪器是______9.预溅射的目的是______10.溅射速率与______成正比(填核心参数)单选题(每题2分,共20分)1.下列哪种气体是溅射常用工作气体?()A.氢气B.氩气C.二氧化碳D.氮气2.磁控溅射的最大优势是?()A.设备简单B.溅射速率高C.靶材利用率低D.真空度要求低3.靶面出现弧光放电时应立即?()A.增大功率B.关闭电源C.继续溅射D.降低真空度4.基片加热的主要目的是?()A.降低附着力B.提高结晶度C.加快抽速D.减少残留5.制备绝缘薄膜常用的靶材是?()A.铜B.铝C.二氧化硅D.金6.真空度突然上升的原因可能是?()A.靶材耗尽B.漏气C.功率过大D.温度过高7.直流磁控溅射的靶材需具备?()A.导电性B.绝缘性C.半导体性D.任意性8.测量薄膜厚度常用的工具是?()A.万用表B.台阶仪C.千分尺D.温度计9.预溅射的主要作用是?()A.清洁靶面B.提高利用率C.降低真空度D.增加厚度10.导致薄膜附着力差的原因是?()A.基片清洁彻底B.功率过高C.真空度低D.靶温过高多选题(每题2分,共20分)1.溅射工艺的核心参数包括?()A.溅射功率B.真空度C.气体流量D.靶材厚度2.磁控溅射设备的组成部分有?()A.真空系统B.靶组件C.基片台D.控制系统3.影响薄膜质量的因素有?()A.基片清洁度B.气体压力C.靶材纯度D.基片温度4.溅射中的异常现象包括?()A.弧光放电B.真空不达标C.厚度不均D.靶材变形5.靶材选择需考虑的因素有?()A.导电性B.纯度C.价格D.兼容性6.真空系统的主要部件有?()A.机械泵B.分子泵C.真空阀D.压力表7.基片预处理方法有?()A.超声波清洗B.等离子体清洗C.酒精擦拭D.高温烘烤8.薄膜性能检测项目有?()A.厚度B.附着力C.电阻率D.粗糙度9.溅射设备安全操作要点有?()A.戴防护眼镜B.避免高压接触C.检查水冷D.无人值守10.靶材利用率低的原因有?()A.靶形不合理B.磁场不均C.功率过高D.压力过大判断题(每题2分,共20分)1.靶材温度过高会导致变形。()2.真空度越高,溅射速率越快。()3.磁控溅射可制备绝缘薄膜。()4.预溅射时间越长越好。()5.基片不加热也能制备高质量薄膜。()6.气体压力过大时薄膜会疏松。()7.靶材耗尽后可继续溅射。()8.基片台旋转可提高厚度均匀性。()9.溅射设备可在大气压下操作。()10.操作前无需检查设备状态。()简答题(每题5分,共20分)1.简述磁控溅射的工作原理。2.基片预处理的步骤及目的。3.弧光放电的原因及处理方法。4.如何保证薄膜厚度均匀性?讨论题(每题5分,共10分)1.溅射功率对薄膜性能的影响。2.真空度在溅射工艺中的重要性及控制方法。答案填空题答案:1.氩气2.磁场3.1×10^-34.溅射时间5.水冷6.等离子体清洗7.铜8.真空计9.清洁靶面10.靶功率单选题答案:1.B2.B3.B4.B5.C6.B7.A8.B9.A10.C多选题答案:1.ABD2.ABCD3.ABCD4.ABCD5.ABCD6.ABC7.ABCD8.ABCD9.ABC10.AB判断题答案:1.√2.×3.√4.×5.√6.√7.×8.√9.×10.×简答题答案:1.磁控溅射通过磁场与电场相互作用,将氩气电离为等离子体。氩离子在电场加速下轰击靶材,使靶材原子溅射并沉积在基片形成薄膜。磁场束缚电子做螺旋运动,延长碰撞时间,提高等离子体密度,从而提升溅射速率和靶材利用率,是高效制备薄膜的技术。2.步骤:超声波清洗(溶剂除油污)、等离子体清洗(去氧化层)、烘干(除水分)。目的:提高基片清洁度,减少杂质影响,增强薄膜附着力,避免脱落、针孔等缺陷,保证电路性能可靠。3.原因:靶面污染物、电极接触不良、真空波动、功率过高。处理:立即降低/关闭功率,清洁靶面,检查电极连接,稳定真空后低功率重启;若持续弧光,停止操作排查漏气或设备故障。4.措施:基片台旋转使沉积均匀;调整靶-基距离;优化气体压力和功率;定期更换磨损靶材;使用掩膜板控制区域。这些方法减少厚度差异,提升电路一致性。讨论题答案:1.溅射功率影响沉积速率和质量。功率过低时沉积慢、薄膜疏松;过高则靶材变形、弧光放电,薄膜应力增加、附着力下降。需根据靶材和薄膜要求调整:如铜靶功率过高会使晶粒粗大、电阻率升,适中则薄膜致密、性能好,需实验确定最佳

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