CN119487234A 用于处理多个基板的基板处理系统和在直列式基板处理系统中处理基板的方法 （应用材料公司）

2024.12.31PCT/IB2022/0600482022.10.19WO2024/003603EN2024.01.04用于处理多个基板的基板处理系统和在直描述一种用于处理多个基板的基板处理系积源和所述第二沉积源被提供在一个或多个真被配置为阻挡在第一沉积源的第二角方向上的道被配置为通过平移来移动多个基板中的第一置为通过平移来在第一沉积区域的第一屏蔽物位置与第一沉积区域的第二屏蔽物位置之间来2至少第一沉积源，所述第一沉积源被提供在所述一至少第一空闲屏蔽物，所述第一空闲屏蔽物与所述屏蔽物被配置为阻挡在所述第一沉积源的第二角方向上发射的所蒸基板运输轨道，所述基板运输轨道被配置为通过平移来移动所述多屏蔽物运输轨道，所述屏蔽物运输轨道在所述基板运输轨道与所述第一沉积源之间，所述屏蔽物运输轨道被配置为通过平移来在所述第一沉积区域的第一屏蔽物位置与所述第一沉积区域的第二屏蔽物位置之间来回移动2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其中所述第一沉积源沿基板运输轨道方向且3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其中所述第一沉积源能够在所述第一沉积源第二沉积源，所述第二沉积源被提供在所述一个或多个真空至少第二空闲屏蔽物，所述第二空闲屏蔽物与所述述屏蔽物运输轨道被配置为通过平移来在所述第二沉积区域的第一屏蔽物位置与所述第二沉积区域的第二屏蔽物位置之间来回移动另外6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其中所述第二沉积源沿基板运输轨道方向且通过平移来在一个或多个真空腔室中沿基板运输轨道将在第一基板载体上的所述第通过平移来将屏蔽物移动于第一屏蔽物位置中，所述第一屏蔽通过平移来移动在所述第一基板载体上的所述第一基板和所述屏屏蔽物位置被配置为保护要被所述第一沉积源涂覆的所述第一基板和所述第一基板载体通过平移来将所述屏蔽物从所述第二屏蔽物位置移动回到所述第一38.根据权利要求7所述的方法，其中所述屏蔽物具有在第一基板尺寸和不同于所述第一基板尺寸的第二基板尺寸上比基板大小小0m9.根据权利要求7至8中任一项所述的方法，其中基板大小小0mm到15mm的开口并且具有在载体移动方向上延伸的第二基板尺寸上比基板大10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中独立于彼此且至少部分地以不同速在移动所述第一基板通过所述第一沉积源的所述第一沉积区域时在所述第一基板上将所述第一沉积源从所述第一角方向旋转到第二角方向，其中在所述第二角方向上，通过平移来朝向第二沉积源的第二沉积区域移动所通过平移来移动在第二基板载体上的第二基板和所述屏蔽物，其中通过平移来移动在所述第一基板载体上的所述第一基板和另外的屏蔽根据权利要求7至14中任一项所述的在直列式处理系统中处理基板的方法，其中至少由所述第一沉积源沉积所述层堆叠的第一层并且由所述第二沉积源沉积所述层堆叠的第至少第一沉积源，所述至少第一沉积源被提供在所基板运输轨道，所述基板运输轨道被配置为通过平移来移动所述多控制器，所述控制器具有包括指令的存储器并且具有处理器处理器执行时引起所述基板处理系统执行根据权利要求7至15中任一项4[0001]本公开内容的实施方式涉及一种基板处理系统、特别是一种直列式(in_line)基系统和方法。本公开内容的实施方式特别涉及一种如用于在基本上竖直的取向上处理多个大面积基板的基板处理系统)、一种在直列式基板处理系统中处理基板的方法和一种在大面积基板上制造显示器的层OLED显示器可能具有的颜色和亮度范围大于传统LCD显示器的颜色和亮度范围。OLED显示[0004]制造OLED显示器的工艺包括在高真空中有机材料的热蒸发和有机材料在基板上处理系统中处理多个基板中的第一基板的方法和一种在大面积基板上制造显示器的层堆域的第一屏蔽物位置与第一沉积区域的第二屏蔽物位置之间来回移5第二屏蔽物位置被配置为保护要被第一沉积源涂覆的第一基板和第一基板载体中的至少少由第一沉积源沉积层堆叠的第一层并且由第二沉积基板处理系统执行根据本文描述的实施方式中的任[0013]图2A至图2G示出图示根据本公开内容的实施方式的各种处理条件并且如例如参[0018]现在将详细参考各种实施方式，各种实施方式中的一个或多个示例在附图中绘[0019]制造OLED显示器的工艺可包括在高真空中有机材料的热蒸发和有机材料在基板6在没有精细金属掩模的情况下提供图案化。模或可移动屏蔽物。特定的可移动边缘排除掩模或可移动屏蔽物与特定的沉积源相关联动态地调整屏蔽物位置(特别是进入和退出沉积区(即处理区域))来减小动态沉积系统的二沉积源被提供在一个或多个真空腔室中。第一沉积源在第一角方向上提供第一沉积区[0023]图1示出基板处理系统100。在图1中示出的基板处理系统100包括多个真空腔一个或多个真空腔室可包括真空处理腔室102和真空传送腔室104。图1示出三个真空处理腔室和三个真空传送腔室。真空处理腔室102被包括在基板处理装置101中。玻璃搬运(handling)模块(未示出)可被提供在基板处理系统100的一端处。玻璃搬运模块可将基板板载体上)装载要在基板处理系统100中处理的载体)卸载所述基板。可在第一基板运输轨道132上在一个方向上(例如在图1中从左到右)免空载体(例如在载体返回路径上)的运输或将空载体(例如在载体返回路径上)的运输减第一基板运输轨道132上的前向运输路径，所述前向运输路径用于在基板上沉积第一组材7物运输轨道134被提供在基板运输轨道132与沉积源110之间。屏蔽物运输轨道被配置为在第二基板尺寸小于基板的大小，以屏蔽基板的更特别地是用于大面积基板的OLED显示器制造系统)或显示器制造系统的一部分。可例如在基板载体的竖直取向状态下提供例如在掩括基板运输轨道132和屏蔽物运输轨道134。例如，前向运输路径可以是图1中的上运输路8径，其中通过基板处理系统100从左到右运输基板。沉积源110被提供在真空处理腔室102一个或多个沉积源可以是蒸发源并且特别地是基本上竖直地延伸的线源(linesources)。描述的其他实施方式组合的一些实施方式，沉积源中的一者或多者也可以是金属源和/或基板处理装置101可包括真空处理腔室102中的第一沉积源110和真空处理腔室102中的第[0033]参考图2A至图2G和图3描述根据本公开内容的实施方式的操作基板处理系统的方9第二屏蔽物位置被配置为保护要被第一沉积源涂覆的第一基板和第一基板载体中的至少通常被称为配方的软件例程被储存在存储器中。软件例程也可由远离由CPU控制的硬件的第二CPU(未示出)储存和/或执行。软件例程在由CPU执行时将通用计算机变换成控制装置操作和/或系统操作(诸如用于屏蔽物传送、基板传送和沉积源旋转)的专用计算机(控制层堆叠的方法包括在根据本文描述的实施方式中的任一者的在直列式处理系统中处理基[0041]根据实施方式，提供一种用于根据本文描述的方法中的任一者处理基板的装置积源被提供在一个或多个真空腔室中，所述第一沉积源在第一角方向上提供第一沉积区过平移来移动多个基板中的第一基板通过第一沉积区域和第二沉积区域；屏蔽物运输轨沉积源被提供在一个或多个真空腔室中。第一沉积源在第一角方向上提供第一沉积区域，并且第二沉积源提供第二沉积区域。所述基板处理系统进一步包括至少第一空闲屏蔽物，平移来在第一沉积区域的第一屏蔽物位置与第一沉积区域的第二屏蔽物位置之间来回移第一沉积源可以是在第一沉积源的固定位置通过平移来在第二沉积区域的第一屏蔽物位置与第二沉积区域的第二屏蔽物位置之间来[0047]根据可与本文描述的其他实施方式组合的一些实施方式，基板厚度可以是从开。具体地，大体上非柔性基板可以具有一定程度的柔性，例如具有0.9mm或更小(诸如分别可彼此同步地移动。这特别地对于基本上与基板的大小相对应的屏蔽物和孔122的对可通过参考基板位置动态地调整屏蔽物载体位置板大小小0mm到15mm并且在水平方向上延伸的第二基板尺寸上比基板大小小。例如，开口524在水平方向上的大小可与所蒸发的材料的羽流410的宽