ELA基础介绍ppt课件.ppt

1、ELA基础知识介绍,Array-MFG 2015/09/10,Locfe南城,1,Outline,1. ELA与LTPS制程,2. 准分子激光退火系统,3. ELA工艺技术,4. ELA工艺测试,2,ELA简介,准分子就是一种处于激发态的复合粒子，在标准状态下，即在基态时，它处于分离状态，而在激发态处于分子状态。 常见的准分子有：XeF*、KrF*、ArF*、XeCl*、XeBr*,3,ELA简介,为什么选用准分子激光？,准分子激光对应的紫外波段，a-Si薄膜对紫外光有大的吸收系数 紫外光的注入深度较小，可以减小激光对玻璃基板的作用,4,ELA与LTPS制程,5,ELA与LTPS制程,6,EL

2、A与LTPS制程,7,2. 准分子激光退火系统,(2) 准分子激光原理、结构及参数,(1) 准分子激光退火系统的结构,(3),光学系统构成简介,(4)退火腔结构简介,8,ELA系统基本组成,准分子激光退火系统,9,TCZ & JSW ELA System overview,准分子激光退火系统-ELA System overview,10,准分子激光原理、结构及参数-激光器原理,11,准分子激光原理、结构及参数-激光器原理,12,准分子激光原理、结构及参数-Laser tube design,13,准分子激光原理、结构及参数-Laser tube design,准分子激光原理、结构及参数,15,

3、准分子激光原理、结构及参数-Laser architecture,16,准分子激光原理、结构及参数-Gas lifetime,17,准分子激光原理、结构及参数-参数,18,准分子激光原理、结构及参数-参数,Peak to Peak Energy Fluctuation,19,准分子激光原理、结构及参数-参数,Pulse duration,20,Pulse duration,21,准分子光学系统简介,光学系统示意图,22,准分子光学系统简介,Monitor system示意图,23,准分子光学系统简介,Beam Short Axis & Long Axis,24,Short Axis Slope

4、,准分子光学系统简介,25,退火腔结构简介,退火腔室结构,26,退火腔结构简介,Scan Process,27,3. ELA工艺技术,(1)晶化机制,(2)主要参数,28,多晶硅晶化过程,29,ELA工艺技术-晶化机制,30,ELA工艺技术-主要参数,Energy Density Vs Melt regime,31,ELA工艺技术-主要参数,Overlap Vs Pitch,32,Overlap Vs. Grain Size,ELA工艺技术-主要参数,33,ELA工艺技术-主要参数,CVD Thin Film Concern,34,ELA工艺技术-主要参数,Dehydrogen,35,4. ELA工艺测试,(2) SEM测试,(3) AFM测试,(1) 宏观检查,(4) -PCD测试,36,ELA工艺技术-宏观检查,宏观检查-Mura,37,ELA工艺技术-SEM测试,38,ELA工艺技术-AFM测试,39,ELA