薄膜-超声法制备

薄膜-超声法制备Tag内容描述：<p>1、第 l 9 卷第 2期 2 0 1 1年 6月 北 京石 油化 工学 院学 报 J o u r n a l o f Be ij in g I n s t it u t e o f Pe t r o che mica l Te chn ol o g y Vo l I 1 9 NO 2 J u n 2 0 1 1 注射超声喷雾热分解方法制备 Z。</p><p>2、仿生法制备薄膜材料,武丽华王明华,仿生合成（Biomimeticsynthesis）,自1960年，T.Steele正式提出仿生学概念以来，仿生研究逐渐为人们所重视。近年来，随着相关学科的发展及现代技术，尤其是微观技术的进步，更促进了仿生研究的发展。,仿生（biomimetics）通常指模仿或利用生物体结构，生化功能和生化过程的技术。把这种技术用到材料设计、制造中以便获得接近或超过生物材料优异性。</p><p>3、电子材料与元器件专业实验指导书实验三 超声雾化热分解法制备ATO薄膜实验名称： 超声雾化热分解法制备ATO薄膜实验项目性质： 综合训练所涉及课程：薄膜材料制备技术，材料科学基础计划学时：2学时一、实验目的1了解ATO薄膜的性能和应用；2了解超声雾化器的使用方法；3掌握SZT-2A四探针测试仪的原理和使用方法；4掌握超声雾化热分解法制备薄膜的原理和。</p><p>4、毕业设计（论文）题目超声法制备NDFEB薄膜的电化学性能研究系（院）化学工程系专业化学工程与工艺班级学生姓名学号指导教师职称讲师二一六年五月三十日超声法制备NDFEB薄膜的电化学性研究摘要本文对超声波条件下的电沉积NDFEB合金镀层进行了研究。本次实验通过改变镀液成分即PH值以及电镀工艺参数，并在电镀过程中加以超声波作用。得出它们对合金镀层沉积速度、电化学性能、化学成分、组织形貌和磁学性能的影响。并采用电化学阻抗EIS、循环伏安以及恒电位阶跃等方法对钕铁硼电化学沉积初期过程中的电化学行为进行了研究。同时选择超声波发。</p><p>5、De ce mb e r 物理化学学 E W u l i H u a x u e X u e b a o A ct a J p 一 C h i m S in 2 0 1 1 2 7 1 2 2 8 2 1 2 8 2 5 2 8 2 1 A r t icl e d o i 1 0 3 8 6 6 P K U WHX B 2 0 1 1 2 8 2 1 w w w wh x b p k。</p><p>6、电沉积法制备 SnS 薄膜 X 杜金会1 于振瑞1 张加友1 杨 嘉1 郭淑华2 1 军事交通学院基础部 天津 300161 2 南开大学化学学院 天津 300071 摘要 采用了电沉积法在 SnO2透明导电玻璃上制备了硫化锡 SnS 薄膜 并对用电化。</p><p>7、实验名称： 溶胶-凝胶法制备TiO2薄膜材料 纳米TiO2具有许多特殊功能,如良好的抗紫外线性能、耐化学腐蚀性能和耐热性、白度好、可见光透射性好以及化学活性高等。TiO2纳米材料还具有净化空气、杀菌、除臭、超亲水性等功能,已广泛应用于抗菌陶瓷,空气净化器、不用擦拭的汽车后视镜等领域,20世纪80年代末纳米发展起来成为主要的纳米材料之一。研究表明,紫外线过量照射人体,会使人的记忆力减退。</p><p>8、第3 4 卷第2 4 期 2 OO8 年8 月 山 西建筑 S H A N X IA R C H l l E C l r I 瓜E V d 3 4N o 2 4 A 岖2 0 0 81 7 7 文章编号：1 0 0 9 6 8 2 5 ( 2 0 0 8 ) 2 4 0 1 7 7 0 2 阴极电沉积法制备Z n O 薄膜 蔡少敏 摘要：采用阴极电沉积方法，以含锌盐的水溶液作为电解液。</p><p>9、滨州学院本科毕业设计（论文）毕业设计（论文）题 目超声法制备NdFeB薄膜的电化学性能研究系 （院）化学工程系专 业化学工程与工艺班 级学生姓名学 号指导教师职 称讲师二一六年五月三十日滨州学院本科毕业设计（论文）超声法制备NdFeB薄膜的电化学性研究 摘要 本文对超声波条件下的电沉积NdFeB合金镀层进行了研究。本次实验通过改变镀液成分即pH值以及电镀工艺参数，并在电镀过程中加以超声波作用。得出它们对合金镀层沉积速度、电化学性能、化学成分、组织形貌和磁学性能的影响。并采用电化学阻抗 (EIS)、循环伏安以及恒电位阶跃等方法。</p><p>10、用化学气相沉积（CVD）法制备薄膜材料,演讲人：肖骐 学号：2140120419,2,目 录 1 化学气相沉积方法发展简史 2 CVD的基本概念及原理 3 CVD合成工艺 4 CVD制造薄膜技术的介绍,3,1 化学气相沉积方法发展简史,4,化学气相沉积（CVD）： 通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形。</p><p>11、水热法制备薄膜技术 黄 晖 苗鸿雁 罗宏杰 姚 熹 西安交通大学电子材料研究所 西安7 1 0 0 4 9 陕西科技大学材料工程系 咸阳7 1 2 0 8 1 摘 要 水热法制备薄膜是近年来发展起来的一种很有潜力的液相制膜技术 在制备压。</p><p>12、毕业论文题目,PECVD法制备多晶硅薄膜研究,学生姓名：专业班级：指导教师：,总纲,1太阳能光伏行业2太阳能电池3论文主要任务4论文重点内容5总结及展望,论文重点内容,1多晶硅薄膜的结构和特性2多晶硅薄膜的制备方法3PECVD设备和基本原理4PECVD沉积动力学分析5PECVD制备多晶硅薄膜影响因素,论文主要任务,了解太阳能光伏行业的现状和发展趋势，搜集太阳能电池的相关信息。掌握多晶硅薄。</p><p>13、电化学沉积法制备薄膜材料及其研究进展,胡宝云李嘉胤田鹏王文静,.,主要内容,1、电化学沉积法简介2、电化学沉积机理分析3、电化学沉积方法分类4、电化学沉积的电解质体系5、电化学沉积的影响因素6、电化学沉积法制备的薄膜的特性,.,1、电化学沉积简介电化学沉积是一种液相方法，通过电化学沉积技术在材料表面获得具有多种功能的膜层，是一种历史较长、工艺相对成熟的表面处理技术，金属电化学沉积在19世纪早期就。</p><p>14、磁控溅射法制备ZnO薄膜,及其特性研究,作者：万仁刚院系：物理02级四班,引言,1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不清状态。1970年后出现了磁控溅射技术。最近15年来，进一步发展了一系列新的溅射技术，使得磁控溅射技术从实验室应用技术真正地进入工业化大量生产的应用领域。ZnO是一种半导体发光材料，由于它的禁带宽。</p>