薄膜制备技术溅射法

薄膜制备技术溅射法Tag内容描述：<p>1、3.1 溅射基本原理 3.2溅射主要参数 3.3 溅射沉积装置及工艺 3.4 离子成膜技术 3.5 溅射技术的应用,第三章 薄膜制备技术溅射法,1,溅射：荷能粒子轰击固体表面，固体表面原子或分 子获得入射粒子所携带的部分能量，从而使其射出的现象。 1852年Grove研究辉光放电时首次发现了溅射现象。 离子溅射：由于离子易于在电磁场中加速或偏转，荷能粒子一般为离子，这种溅射称为离子溅射。,第三章 薄膜制备技术溅射法,2,溅射镀膜过程：利用带电离子在电磁场的作用下获得足够的能量，轰击固体（靶）物质，从靶材表面被溅射出来的原子以一定的动能射向。</p><p>2、磁控溅射法制备ZnO薄膜,及其特性研究,作者：万仁刚院系：物理02级四班,引言,1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不清状态。1970年后出现了磁控溅射技术。最近15年来，进一步发展了一系列新的溅射技术，使得磁控溅射技术从实验室应用技术真正地进入工业化大量生产的应用领域。ZnO是一种半导体发光材料，由于它的禁带宽。</p><p>3、磁控溅射法制备薄膜材料综述磁控溅射法制备薄膜材料综述 材料化学材料化学 张召举张召举 摘摘 要要 薄膜材料的厚度是从纳米级到微米级 具有尺寸效应 在国防 通讯 航空 航天 电子工业等领域有着广泛应用 其有多种制造方法 目前使用较 多的是溅射法 其中磁控溅射的应用较为广泛 本文主要介绍了磁控溅射法的 原理 特点 以及制备过程中基片温度 溅射功率 溅射气压和溅射时间等工 艺条件对所制备薄膜性能的影响。</p><p>4、此文档收集于网络 仅供学习与交流 如有侵权请联系网站删除 磁控溅射法制备薄膜材料综述 材料化学 张召举 摘 要 薄膜材料的厚度是从纳米级到微米级 具有尺寸效应 在国防 通讯 航空 航天 电子工业等领域有着广泛应用 其有多种制造方法 目前使用较多的是溅射法 其中磁控溅射的应用较为广泛 本文主要介绍了磁控溅射法的原理 特点 以及制备过程中基片温度 溅射功率 溅射气压和溅射时间等工艺条件对所制备薄膜性能。</p><p>5、第三章、溅射镀膜,本章重点 溅射的定义及原理 溅射的特性及机理 溅射与蒸发的比较 溅射技术性问题,第一节、基本概念,1、溅射镀膜的定义：高能离子在电场作用下高速轰击阴极（靶），经过能量交换与转移，靶材粒子飞离出来， 淀积在基板上形成薄膜。,溅,射,离子轰击固体表曲所引起的各种效应,镀膜,SIMS分析,刻蚀，清洗,占靶产物的85-90,等离子体,2、什么是等离子体,当温度增高到使原子（分子。</p><p>6、实验名称 实验7 2直流溅射法制备金属薄膜 班级 信息0503 实验日期 2007 6 7 姓名 宋江凌 学号 40550070 同组人姓名 目的要求 直接的接触薄膜材料 对薄膜材料有一个直观的感性认识 了解喝学会直流溅射制备金属的原理。</p><p>7、实验4 磁控溅射法制备薄膜材料 1 实验目的 1 掌握真空的获得 2 掌握磁控溅射法的基本原理与使用方法 3 掌握利用磁控溅射法制备薄膜材料的方法 二 实验原理 磁控溅射属于辉光放电范畴 利用阴极溅射原理进行镀膜 膜层粒子来源于辉光放电中 氩离子对阴极靶材产生的阴极溅射作用 氩离子将靶材原子溅射下来后 沉积到元件表面形成所需膜层 磁控原理就是采用正交电磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹 使得。</p><p>8、实验一 磁控溅射法制备薄膜材料 1、 实验目的 1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序； 2、制备出一种金属膜，如金属铜膜； 3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能； 4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。 2、 实验仪器 磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。 3。</p><p>9、实验4 磁控溅射法制备薄膜材料 1、 实验目的 1. 掌握真空的获得 2. 掌握磁控溅射法的基本原理与使用方法 3. 掌握利用磁控溅射法制备薄膜材料的方法 二、实验原理 磁控溅射属于辉光放电范畴，利用阴极溅射原理进行镀膜。膜层粒子来源于辉光放电中，氩离子对阴极靶材产生的阴极溅射作用。氩离子将靶材原子溅射下来后，沉积到元件表面形成所需膜层。磁控原理就是采用正交电磁场的特殊分布控制电场中的电子运。</p><p>10、磁控溅射法制备CdS薄膜及性能表征 密 级公开学 号101554毕 业 设 计（论 文）磁控溅射法制备CdS薄膜及性能表征院（系、部）： 材料科学与工程学院 姓 名： 于宇新 年 级： 2010 专 业： 材料科学与工程 指导教师： 曾冬梅 教师职称： 讲 师 2014年 月 日北京北 京 石 油 化 工 学 院毕 业 设 计 （论 文） 任 务 书学院（系、部）材料科学与工程学院 专业材料科学与工程 班级 材101学生姓名 于宇新 指导教师/职称 曾冬梅/讲。</p><p>11、实验一 磁控溅射法制备薄膜材料1、 实验目的1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序； 2、制备出一种金属膜，如金属铜膜； 3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能； 4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。 2、 实验仪器磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台。</p><p>12、密密 级公级公 开开 学学 号号081555 毕毕 业业 设设 计（论计（论 文）文） 普通玻璃上采用磁控溅射法 制备 CdZnTe 薄膜 普通玻璃上采用磁控溅射法 制备 CdZnTe 薄膜 院（系、部）：材料科学与工程 姓 名：龚长亮 院（系、部）：材料科学与工程 姓 名：龚长亮 年 级：高 084 年 级：高 084 专 业：高分子材料与工程 专 业：高分子材料与工程 指 导 教 师 ：曾冬梅 指 导 教 师 ：曾冬梅 教 师 职 称 ：讲师 教 师 职 称 ：讲师 2012 年 6 月 14 日北京 普通玻璃上采用金属铝诱导法制备 CdZnTe 薄膜 I 北京石油化工学院 学位论文电子版授。</p><p>13、摘要 I 4 I ：； 忧祭带l I V I 族化合物半导体，Z n 0 薄膜材料的研究受到泛的重视。本沦 文采用刺频磁控溅射法在载玻片玻璃基片上制备了L i ：Z n O 薄膜，研究了磁控溅射功率、 基片温度、热处理温度。</p><p>14、磁控溅射法制备晶格复合铋基热电薄膜 开题报告 19 目 录 1 课题背景及意义 3 2 文献综述 3 2 1 热电效应综述 3 2 2 热电材料概述 5 2 3 低维热电材料 7 2 4超晶格薄膜的制备 9 2 5 磁控溅射法简介 11。</p><p>15、密密 级级 保密保密 学学 号号 071581 毕毕 业业 设设 计（论计（论 文）文） 磁控溅射法制备磁控溅射法制备 Cd1-xZnxTe 多晶薄膜的结构分析多晶薄膜的结构分析 院院（系、部系、部） ： 材料科学与工程系材料科学与工程系 姓姓 名：名： 杨涛杨涛 班班 级级： 高高 074074 专专 业：业： 高分子材料科学与工程高分子材料科学与工程 指 导 教 师 ：指 导 教 师 ： 曾冬梅曾冬梅 教 师 职 称 ：教 师 职 称 ： 讲师讲师 2011 年 6 月 3 日北京 北京石油化工学院 学位论文电子版授权使用协议 论文磁控溅射法制备Cd1-xZnxTe多晶薄膜的结构分。</p><p>16、磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术 1前言 透明导电氧化物薄膜 TCO薄膜 有着广泛的用途 如作为LCD OLED显示器面板的电极 作为触摸屏的感应电极 作为薄膜太阳能电池的电极以及作为LED芯片前电极等 1 目前 主要的TCO薄膜。</p>