硬脆材料双面研磨抛光机的设计（全套含CAD图纸）
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购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 目录 摘要 .一章 绪论 .硬材料的一些简介 .4 内外研磨和抛光的历史及其发展现状 .二章 工作原理及基本要求 .光机理 .面研磨机的工作原理 6 面研磨机 的主要特点 7 次设计的主要方向 三章 研磨与抛光的主要工艺因素 .9 艺因素及其选择原则 .磨盘和抛光盘 10 面研磨使用的研具 13 粒 工液 .艺参数 .13 第四章 结构设计及相关强度校核 . 件保持架的选择 .14 齿轮的选择 .齿圈的选择 .持架、内齿圈、小齿轮组成的轮系中各齿轮运动速度的确定 .16 他齿轮的选择 . 齿轮 1 的选择 .17 轮 2 的选择 . 齿轮 3 和齿轮 4 的确定 .承的选择及其参数 .19 动机的选择 .20 的设计及强度校核计算 .结 .考文献 .录 .买后包含有 纸和说明书 ,咨询 硬脆材料双面研磨 /抛光机的设计 摘要： 双面平面研磨是在传统研磨机构的基础上，通过改变研磨平面的数目从而来提高研磨精度和效率的一种研磨方式。其加工原理 就是 利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行精整加工 ，从而来实现加工精度的要求 。 本文通过对平面研磨机构多种运动方式的分析，以及研磨精度要求，并结合现有研磨机，从而设计出一种新型的行星式双面平面研磨机构，并对其运动轨迹做了具体研究。这种研磨方式不仅解决 了 传统研磨存在加工效率低、加工成本高、加工精度和 加工质量 不稳定等缺点，提高了研磨技术水平，保证研磨加工精度和加工质量 ，而且还可以实现在一定范围内不同直径圆柱工件的研磨，提高了加工效率，降低了加工成本，使研磨技术进一步实用化。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 f is on of of by to of a of is to or in on in of to of to of a to of is of of 买后包含有 纸和说明书 ,咨询 第一章 绪论 脆材料的一些简介 硬脆材料例如陶瓷、白宝石单晶、微晶玻璃等以优良特性得到广泛的应用。微晶玻璃用于天文望远镜、光学透镜、火箭和卫星的结构材料等，而且同时可以作标准米尺；白宝石因为其良好的透光性和耐磨性等特点用于激光器的反射镜和窗口、异质外延生长的半导体材料或金属材料的基片等。对硬脆材料进行超精密加工方法的研究，将其进一步扩大应用范围并且提高其使用性能。 由于微晶玻璃中无数微小品粒的存在、白宝石硬度高，大都认为很难得到超光滑高平面度的表面。通常的 光学抛光机都是动摆式的，即工件相对于磨盘既转动，又沿一定的弧线摆动：工件在抛光的同时也不断地进行修整抛光模。但是，当抛光参数设定时，工件和抛光模的那个面形始终处于非收敛的变化中，即面形朝凹或凸的方向单调改变，不断检查面形，修改抛光参数，对操作员的技术水平要求很高。我们一般使用中国航空精密机械研究所研制的超精密研磨机 500 进行实验。其上下主轴均为液体静压主轴，并且还能够实现研磨盘的超精密车削，平面度小于 l m/ 500，用高精度的研磨盘来保证高精度的工件，不需要抛光中工件对其修整。当工件与锡磨盘定偏心 、同方向、同转速运动时工件表面的材料除去相同，而且工件每个点在研磨盘周光滑高平面度的表面奠定了基础。 研磨和抛光基本都是利用研磨剂使工件与研具进行单纯的对研而获得的高质量、高精度的加工方法。 国内外研磨和抛光的历史及其发展现状 在国内外研磨和抛光的历史很悠长，比如：玉器和铜镜的制作；眼镜的应用、 1360年的绘画上就有发现、在文艺复兴时期的望远镜和显微镜发明。 现在，除了已经实现大批量生产透镜和棱镜外，其加工水平已能够完成光学镜面和保证高形状精度的光学平晶、平行平晶以及具有特定曲率的球 面等标准件的加工。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 就实施超精密加工而言，在各种各样的加工方法中，研磨和抛光方法最为有力。 为适应零件加工的要求，应该不断进行技术改造和开发新加工原理的超精密研磨和抛光技术。 精密和超精密加工现在已经成为在国际竞争中取得成功的关键技术，许多现代技术产品需要高精度制造。发展尖端的技术和发展国防工业，发展微电子工业等都需要精密和超精密加工制造出来的仪器设备。当代的精密工程、微细工程和纳米技术是现代科技技术的前沿，也是明天技术的基础。 现代机械工业之所以要致力加强提高加工精度，其主要的原因在于：提高制造精度后可有 效的提高产品的性能和质量，提高其稳定性和可靠性；促进产品的小型化；增强零件的互换性，提高装配生产率，并促进自动化装配。 超精密加工技术发展至今天，已经获得重大的进展，超精密切削加工已不再是一种孤立的加工方法和单纯的工艺问题，而是成为一项包含内容极其广泛的系统工程。实现超精密加工，不仅需要超精密的机床设备和刀具，也需要超稳定的环境条件，还需要运用计算机技术进行实时监测，反馈和补偿。只有把各个领域的技术成就集结起来，才有可能实现超精密加工。 根据我国的当前实际情况，参考国外的发展趋势，我国应开展超精密加工技术基 础的研究，其主要内容包括以下五个方面： 1. 超精密切削磨削的基本理论和工艺 2. 超精密设备的精度，动特性和热稳定性 3. 超精密加工精度检测及在线检测和误差补偿 4. 超精密加工的环境条件 5. 超精密加工的材料 参考国外精密加工技术的经验和我国实际情况，如果能够对精密和超精密加工技术给予足够的重视，投入相当的人力和物力进行研究与开发，在八五期间生产中稳定微米级加工技术的基础上，开始亚微米加工；九五期间在生产中稳定亚微米级加工并开始纳米级加工的实验研究。即将在 15内达到美国等发达国家目前的水平，并在某些主要单项技术上达到国家 先 进 水 平 。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 第二章 工作原理及基本要求 光机理 由于抛光过程的复杂性和不可视性，往往是在通过特定的实验条件下获得的实验结果来说明抛光的机理。对于硬脆性材料的抛光机理，归纳一下主要有如下解释： 抛光是一磨粒的微削塑性切削生产切屑为主体而进行的。在材料切除过程中都会由于局部高温、高压而使工件与磨粒、加工液及抛光盘之间存在着直接的化学作用，并且在工作表面产生反应生成物。由于这些作用的重叠，以及抛光液、磨粒及抛光盘的力学作用，使工件表面的生成物不断被去除而使表面平滑化。 采用工件、磨粒、 抛光盘和加工液等的不同组合，可实现不一样的抛光效果。工件与抛光液、磨料及抛光盘间的化学反应有助于抛光加工。 面研磨机的工作原理 在进行高质量平行平面研磨时需要使用双面研磨，该双面研磨抛光机的工作原理示意图如下： 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 图 2双面研磨抛光机工作原理图 如图所示，研磨的工件放在工件保持架内，上，下均有研磨盘。下研磨盘有电动机带动旋转，为了在工件上得到均匀而不重复的研磨轨迹，工件保持架制成行星轮的形式，外面和内齿轮啮合，里面和小齿轮啮合。所以工作时工件将同时有自转和公转，作行星运动。上研磨盘一般情 况不转动（有时也转动），上面可加载并有一定的浮动以避免两研磨盘不平行造成工件两研磨面不平行。 由工件与研具的相对运动轨迹对工件面形精度有都重要影响，对其基本要求如下： 1） 工件相对研具做平面平行运动，能使工件上各点具有相同或相近的研磨行程。 2） 工件上任意一点，尽量不要出现运动轨迹的周期性重复。 3） 研磨运动平稳，避免曲率过大的运动转角。 4） 保证工件走遍整个研具表面，使研磨盘得到均匀磨损，进而保证工件表面的平面度。 5） 及时变更工件的运动方向，使研磨纹路复杂多变，有利于降低表面粗糙度，并保证表面均匀一致。常用的运动轨迹有：次 摆线、外摆线和内摆线轨迹等。 面研磨机 的主要特点 双面研磨机主要用于两面平行的晶体或其它机械零件进行双面研磨，特别是薄脆性材料的加工。适用于各种材质的机械密封环、陶瓷片、气缸活塞环、油泵叶片轴承端面及硅、锗、石英晶体、石墨、蓝宝石、光学水晶、玻璃、铌酸锂、硬质合金、不锈钢、粉灰冶金等金属材料的平面研磨和抛光。 其主要特点有： 1、采用无级调速系统控制，可 以 轻易调整出适合研磨各种部件的研磨速度。采用电 气比例阀闭环反馈压力控制，可 以 独立调控压力装置。上盘设置 的 缓降功能，有效的防止薄脆工件的破碎。 2、通过一个时间继电器 与 一个研磨计数器，可 以 按加工要求准确设置和控制研磨时间和研磨圈数。工作时可调整压力模式，达到研磨设定的时间或圈速 的时候 就会自动停机报警提示，实现半自动化 的 操作。通过增加厚度光栅尺形成闭环控制，达到设定的厚度会自动停机，实现在线控制生产。 3、主机 一般 采用调速电机驱动，配置大功率减速系统，软启动、软停止，运转平稳。 4、通过上、下研磨盘、太阳轮、游星轮在加工时形成四个方向、速度相互协调的研磨运动，达到上下表面同时研磨的高效运作。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 5、下研磨盘可升降，方便工件 的 装 卸。气动太阳轮变向装置，精确控制工件两面研磨精度和速度。 6、随机配有修正轮，用于修正上下研磨盘的平行误差。 7、工件研磨的效率与磨料密切相关，目前主要两种磨料方式加入研磨过程，一种是外加磨料，也称为游离磨料，它的缺点是上磨盘磨料供应不足，研磨盘上磨料分布不均匀，大部分研磨料未参与研磨，成本较高，工艺稳定性较差。另一种是 磨料固定在研磨盘中，也称为固着磨料，成功解决了上磨盘磨料供应不足，研磨盘上磨料分布不均匀的工艺问题，研磨成本大幅度下降。 次设计的主要方向 本设计为 2 方 向型运动方式的双面加工机，由一台电动机带动两根驱动轴进行研磨工作。上下研磨盘不动，太阳齿轮和内齿轮转动。主要用于晶体、金属和陶瓷等工件的研磨和抛光。 1、上研磨盘的直径： 630 2、工件研具相对速度： 5500m/续可调 ； 3、 运动形式：上研磨盘固定，下研磨盘与太阳齿轮、内齿轮转动 4、 整机形式：立式，要求构造简单 、成本低 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 第三章 研磨与抛光的主要工艺因素 艺因素及其选择原则 精密研磨与抛光加工的主要工艺因素包括加工设备、研具、磨粒、加工液、工艺参数和加工环境等，见表 3些因素决定了最终加工精度和表面质量。在保证加工环境的前提下，各工艺因素的选择原则如图 3示。 表 3精密研磨抛光的主要工艺因素 工艺因素 实例 加工设备 加工方式 运动方式 驱动方式 单面研磨、双面研磨 旋转、往复摆动 手动、机械驱动、强制驱动、从动 研具 材料 形状 表面状态 硬质、软 质（弹性、粘弹性） 平面、球面、非球面、圆柱面 有槽、有孔、无孔 磨粒 种类 材质、形状 粒径 金属氧化物、金属碳化物、氮化物、硼化物 硬度、韧性、形状 几分之一微米 几十微米 加工液 水性 油性 酸性 碱性、表面活性剂 表面活性剂 加工参数 工件、研具相对速度 加工压力 加工时间 1100m/00 10h 加工环境 温度 尘埃 室温变化 利用清洁室、净化工作台 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 0 图 3工艺因素的选择原则 研磨盘和抛光盘 常用的研磨盘 、抛光盘材料及部分使用实例见表 3用的研磨盘材料有铸铁、玻璃、陶瓷等。研磨盘是用于涂敷或嵌入磨料的载体，是磨粒发挥切削作用，同时又是研磨表面的成形工具。研磨盘本身在研磨工程中与工件是相互修整的，研磨盘本身的几何精度按一定程度“复印”到工件上，故要求研磨盘的加工面又高的几何精度。对研具的要求主要有： 1） 材料硬度一般比工件材料低，组织均匀致密、无杂质、异物、裂纹和缺陷，并有一定的磨料嵌入性和浸含性。 2） 结构合理，有良好的刚性、精度保持性喝耐磨性。其工作表面应具有较高的几何精度。 3） 排屑性喝散热性好。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 1 表 3 研磨盘、抛光盘材料及部分使用实例 分类 对象材料 部分使用实例 硬质 材料 金属 铸铁、碳钢、工具钢 一般材料研磨、金刚石抛光 非金属 玻璃、陶瓷 化合物半导体材料研磨 软 质 材 料 软质金属 料 陶瓷抛光 天然树脂 松脂、焦油、蜜蜡、树脂 光学玻璃抛光、光学结晶抛光 合成树脂 硬质发泡聚氨酯、 四氟乙烯、聚碳酸酯、聚氨酯橡胶 光学玻璃抛光、一般材料抛光 天然皮革 麂皮 金属抛光 人工皮革 软质发泡聚氨酯、氟碳树脂发泡体 硅晶片抛光、化合物半导 体抛光 纤维 非织布、织布纸 金属材料抛光、一般材料抛光 木材 桐、杉、柳 金属模抛光 为了获得良好的研磨表面，有时需在研具表面上开槽。槽的形状有放射状、网格状、同心圆状和螺旋状等，如图 4示。槽的形状、宽度、深度和间距等根据工件材料质量、形状及研磨面的加工精度来选择。在研具表面开槽有如下的效果： 1） 可在槽内存储多余的磨粒，防止磨料堆积而损伤工件表面。 2） 在加工中作为向工件供给磨粒的通道。 3） 作为及时排屑的通道，防止研磨表面被划伤。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 2 图 3常用研磨盘的开槽形式实体图 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 3 平面 研磨使用的研具 在研磨、抛光中，通过研磨使研具的平面状态复印到工件上，这涉及到如何保证几何形状精度问题。特别是研磨小面积的高精度平面工件时要使用弹性变形小的研具，并始终使用能保证平面度的研具。 符合上述要求的研具，除用特种玻璃外，也可以用工作加工成平面的金属板上涂一层四氟乙烯或镀铅和铟，都可以实现研磨与抛光，并能得到高精度的平面加工结果，但其缺点是薄的研具层寿命短。 为获得高的研磨表面质量，在工件材料较软时，如加工光学玻璃时，有时使用半软质研磨盘（如锡盘）或软质研磨盘（如沥青盘）。使用这种研磨盘最主 要的问题是研磨盘不易保持平面度，因而影响加工件的平面度。使用软质研磨盘的优点是研磨出的表面变质层很小，表面粗糙度也很小。 磨粒 磨粒按硬度可分为硬磨粒和软磨粒两类。研磨用磨粒具有下列性能： 1） 磨粒形状、尺寸均匀一致。 2） 磨粒能适当的破碎，使切刃锋利。 3） 磨粒熔点要比工件熔点高。 4） 磨粒在加工液中容易分散。 加工液 研磨抛光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加剂三部分组成，作用是供给磨粒、排屑、冷却和润滑。对加工液有以下要求： 1） 能有效地散热，以避免研具和工件表面热变形。 2） 粘性低，以提高磨 料的流动性。 3） 不会污染工件。 4） 化学物理性能稳定，不因放置或温升而分解变质。 5） 能较好地分散磨粒。 研磨抛光时，伴随有发热，除了工件和研具因温度上升而发生形变。难以进行高精度研磨外，在局部的磨粒作用点上也会产生相当高的温度，使加工变质层深度增加。适当地供给加工液，可以保证研具有良好的耐磨性和工件的形状精度及较小的加工变质层。添加剂的作用是放置或延缓磨料沉淀，并对工件发挥化学作用以提高研磨抛光加工效率和质量。 工艺参数 加工速度、加工压力、加工时间以及研磨液和抛光液的浓度是研磨与抛光加工的主要工艺参数 。在研磨抛光设备、研具和磨料选定的条件下，这些工艺参数的合理选择是保证加工质量和加工效率的关键。 加工速度是指工件与研具的相对运动速度。加工速度增大使加工效率提高，但当速度过高时，由于离心力作用，使加工液甩出工作区，加工平稳性降低，研具磨损加快，从而影响研磨抛光加工精度。一般粗加工多用较低速、较高压力；精加工多用低速、较低压力。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 4 第四章 结构设计及相关强度校核 4工件保持架的选择 根据以上工艺因素以及设计任务的要求： 采用齿数 z=115 模数 m=2 压力角 = 20 的齿轮 分度圆直径 302115 齿顶圆直径 3 42)121 1 5()2( * 齿根圆直径 252)22( * 顶隙 * 总体轮厚 h=12为了保证工件能充分接触到研磨 盘在游轮上下两面设有 2此实际轮厚为 8轮上对称分布有 12 个 40 的圆孔，用于放置工件 此外，游轮的工件孔可以根据工件的形状、尺寸而设计，可设计多种样式。参考图样如图 4. 图 4工件保持架的多种形式 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 5 4齿轮的选择 根据游轮的尺寸参数而定 模数 m=2 压力角 = 20 选择分度圆半径为 r=88圆柱齿轮 可得： 齿数 z=d/m=176/2=88 齿顶圆直径 8 02)1288()2( * 齿根圆直径 712)22( * 顶隙 * 齿轮厚 h=20于游轮充分接触 为节省材料，中间开有凹槽 选择齿轮内径 d=40据此尺寸选择宽、高分别为： 128平键连接，键长 L=16 4内齿圈的选择 由之前确定的游轮和外齿轮的尺寸可以确定内齿圈的齿根圆半径 88223022 * 外游 由 22( * ， m=2，可得： z=318 齿顶圆直径 322)12318()2( * 分度圆直径 d=*318=636隙 * 选择齿圈外部边缘 直径为 d=700从而可保证齿圈宽度在 40右 便于安装螺纹。 在齿圈半径为 335圆周上均匀分布 6 个 8 的螺纹孔，将齿圈固定在可转动的支座上。 根据需要，齿圈厚度选择 h=15买后包含有 纸和说明书 ,咨询 6 4持架、内齿圈、小齿轮组成的轮系中各齿轮运动速度的确定 选择原则：研磨运动平稳，避免曲率过大的运动转角，保证工件走遍整个研具表面，使研磨盘得到均匀磨损，进而保证工件表面的平面度。及时变更工件的运动方向，使研磨纹路复杂多变， 有利于降低表面粗糙度，并保证表面均匀一致。 考虑以上因素：选择游轮速度 游外齿轮运动速度 外动方向如图所示： 图 4 工作台运动示意图 计算内齿圈速度： 外游游外 n z 内游游游内 n 得： n 游内购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 7 4其他齿轮的选择 轮 1的选择 取分度圆直径 d=160 模数 m=2 压力角 = 20 的圆柱齿轮 得：齿数 802/1 6 0/ 齿顶圆直径 6 42)1280()2( * 齿根圆直径 552)22( * 顶隙 * 根据齿轮内径尺寸 d=56择键宽 b、键高 h 分别为： 1610平键连接，键长 L=28 齿轮厚度选择 h=30 齿轮 2的选择 取分度圆直径 d=250 模数 m=2 压力角 = 20 的圆柱齿轮 得：齿数 1252/250/ 齿顶圆直径 5 42)121 2 5()2( * 齿根圆直径 452)22( * 顶隙 * 根据齿轮内径尺寸 d=46择键宽 b、键高 h 分别为 ： 149平键连接，键长 L=32 齿轮厚度选择 h=35以上齿轮 1、齿轮 2 的选择可确定主动轴的转速： m 2112 m i n/4011 为小齿轮轴转速 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 8 轮 3和齿轮 4的确定 选定齿轮 1 和齿轮 2 时，齿轮 3 和齿轮 4 此时已经确定了，可计算出来： 052 )(143432 ；中心距内 n 内 = 求得 14560205; 齿轮 3 的参数 ： 分度圆直径 d=*60=120顶圆直径 2 42)1260()2( * 齿根圆直径 152)22( * 顶隙 * 根据齿轮内径尺寸 d=30择键宽 b、键高 h 分别为： 108平键连接，键长 L=20 齿轮厚度选择 h=25轮 4 的参数： 分度圆直径 d=*145=290顶圆直径 9 42)121 4 5()2( * 齿根圆直径 852)22( * 顶隙 * 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 9 4承的选择及其参数 根据所设计的驱动轴的尺寸，选用的的轴承及其参数如下： 滚动轴承 6016 d=80D=125=22718动轴承 6010 d=50D=80=1664动轴承 6011 d=55D=90=1823动轴承 6008 d=40D=68=1562推轴承 51307 d=351d 37=681D 68=24B=108推轴承 51217 d=851d 88D=1251D 125T=31B=12动机的选择 根据工作环境选择立式三相交流异步电动机。 1， 选择电动机的功率 所需电动机的功率可用如下公式计算： 工作机的实际电动机输出功率 工作机所需要的输入功率 n 为电动机只工作机之间的总效率。 6 3 5 0 m i n/402 0 09 5 5 0 齿齿带带减 因此，选择额定功率为 4电动机 2， 选择电动机的转速 电动机的转速可选范围： m i n/128040442)( 321 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 0 因此选择同步转速为 1500r/电动机 综上，选择型号为 电动机。 4的设计及强度校核计算 主动轴 由于此轴主要是承受扭矩，因此按扭矩来计算轴的强度： 轴的扭转强度条件是 5 0 0 0 03 其中 T 为扭转切应力； 轴的抗扭截面系数； n 轴的转速； P 为传递的功率； T 为许用扭转切应力 由上公式可得轴的直径 3 所设计的轴的最小直径为 30 该轴的强度合格。 从动轴 由于此轴主要是承受扭矩，因此按扭矩来计算轴的强度： 轴的扭转强度条件是 5 0 0 0 03 其中 T 为扭转切应力； 轴的抗扭截面系数； n 轴的转速； P 为传递的功率； T 为许用扭转切应力 由上公式可得轴的直径 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 1 3 所设计的轴的最小直径为 40 该轴的强度合格。 总结 通过本次毕业设计大体掌握了脆硬材料双面研磨抛光机的工作原理及其结构设计，非常感谢周后明老师的细心指导，通过 本次毕业设计，了解到他是一个非常认真负责的好老师。 现将获得高质量平面研磨抛光的工艺规律总结如下： 1） 研磨运动轨迹应能达到研磨痕迹均匀分布并且不重叠。这主要由研磨机的行星运动达到。 2） 硬质研磨盘在精研修形后，可以获得平面度很高的研磨表面，但要求很严格的工艺条件。硬质研磨盘要求材质极均匀，并有微孔容纳微粉磨料。 3） 软质（半软质）研磨盘容易获得表面粗糙度值极小和表面质变层甚小的研磨抛光表面，但不易获得很高的平面度。 4） 使用金刚石微粉等超硬磨料可以获得很高的要命抛光效率。在最后精研硅片、光学玻璃和石英晶体片是，使用 化铈微粉和软质研磨盘容易得到表面质变层和表面粗糙度值极小的优质表面，但不易获得很高的平面度。 5） 研磨平行度要求很高的零件时，可采用： 1，上研磨盘浮动以消除上下研磨盘不平行误差； 2，小研磨零件实行定期 180 度方位对换研磨，以消除因研磨零件厚度不等造成上研磨盘倾斜而研磨表面不平行； 3，对各晶向硬质不等的晶片研磨时，加偏心载荷修正不平行度。 6） 为提高研磨抛光的效率和研磨表面质量，可以在研磨剂中加入一定量的化学活性物质，实践证明这是极有效的。 7） 高质量研磨时必须避免粗的磨粒和空气中的灰尘混入，否则将使研磨表面划伤， 达不到高质量研磨要求。 购买后包含有 纸和说明书 ,咨询 2 致谢 经过半年的 时间 ，本次毕业设计已经接近尾声， 这次设计，也是大学阶段的最后一次设计 ,眼看毕设就要结束了，在这里我感谢所有那些在我们遇到困难时给予我帮助的老师和同学们。 我在设计时有 许多考虑不周全的地方，如果没有 指导教 师的督促指导，以及一起工作的同学们的支持，想要完成这个设计是难以想象的 ， 在这里首先要感谢 在整个设计过程中给予我建议和指导的周后明老师，他 平日里工作繁多，但在我做毕业设计的每个阶段，从 题目理解 到查阅资料 、 设计草案的确定和修改 、 中期检查 、 后期详细设计等整个过程中都给 予了我 耐 心的指导。 特别是周老
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