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文档简介

多晶湿刻蚀机一、设备简介1.Machine Specifications2.Line Process3.echnical Data二、工艺方案1、参数设定2# 配槽：水165L 氢氟酸1次（16L）添加：水 1次（1L）氢氟酸 60s（0.5L）3# 配槽：水45L 氢氟酸1次（19L）硝酸 3次（3*15L）硝酸 4次（4*20L） 添加：水1次（1L）氢氟酸 60s（0.5L）硝酸 70s（0.5L）5# 配槽：用槽体清洗加水80L 添加：水1次（15L）7# 配槽：水180L 氢氧化钠1次（12L） 添加：1次（水18L 氢氧化钠1.5）9# 配槽：水100L 氢氟酸1次（13L） 盐酸3次（3*15L）添加：2、换液添加频次2# 配槽：每天添加：1000片1次（水16L氢氟酸 L）3# 配槽：40w片 添加：氢氟酸 540片 60s（0.5L）硝酸1250片 70s（0.5L）5# 配槽：每天 添加：500片 水1次（15L）7# 配槽：每天 添加：1000片 1次（水18L 氢氧化钠1.5）9# 配槽：每天添加：1000片 1次（）三、所遇问题1、减重小0.04g 将刻蚀槽添加时间延长氢氟酸540片90s 硝酸1250片 105s 2、因多晶硅片容易碎片，导致在
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