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文档简介

受控状态： 编号：QB/JX/GY051-2005PECVD不合格片返工工艺规程1、适用范围适用于PECVD生产后，SiN膜不合格片的返工处理。2、准备工作2.1、将PECVD后，经过检验挑选出来的SiN膜不合格片统一保存，进行返工处理。2.2、不合格片包括：较大的色斑，较多的水点印，颜色明显不均匀，与深兰色相差较大等。2.3、将同一规格的硅片统计数量后，由生产调度开具返工流程单，组成一个返工批，进行返工处理。3、工艺操作3.1、按照去磷硅玻璃清洗工艺规程的操作规程进行操作，将已经生成的SiN膜腐蚀掉。3.2、清洗后检查硅片表面，看硅片表面的SiN膜是否已经腐蚀干净（硅片表面是否呈现硅的本色）。3.3、SiN膜已经腐蚀干净的硅片流入PECVD工序，重新做SiN减反射膜。3.4、SiN膜没有腐蚀干净的硅片则重新进行返工处理。4、注意事项4.1、操作过程中小心操作，避免碎片。4.2、操作过程中严格按照去磷硅玻璃清洗工艺规程的操作规程进行操作。4.3、操作过程中必须安全使用化学试剂及安全使用清洗机。编制： 审核： 批准：日期：发放部门：制造部 制造部工场 品管部去磷硅玻璃清洗工艺规程设 备、仪 器工 具、夹 具设备仪器规格或代号名 称规格或代号四槽清洗机搬运车甩干机JX0400型特制清洗花篮片架周转箱测定支架玻璃量杯塑料量杯玻璃量筒塑料量筒酸式滴定管碱式滴定管塑料勺TEF镊子特制125125或156156500mL500mL50Ml50mL2L材料名称规 格动 力等刻后的硅片HFHN4FHCl125125mm或156156mm分析纯分析纯 分析纯 50HZ 220V氮气压力：105Pa去离子水:（18M）温度： （255）湿度： 工艺卫生等级预 防 措 施穿戴工作服、帽、口罩
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