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文档简介
微电子器件 电子科技大学微电子与固体电子学院张庆中 总学时 72学时其中课堂讲授 60学时 实验 12学时成绩构成 期末考试 70分 平时 20分 实验 10分 W W W HAT HY HO 电子器件发展简史 1904年 真空二极管1907年 真空三极管 电子管 美国贝尔实验室发明的世界上第一支锗点接触双极晶体管 1947年 双极型晶体管1960年 实用的MOS场效应管 固体器件 1950年发明了结型双极型晶体管 并于1956年获得诺贝尔物理奖 1956年出现了扩散工艺 1959年开发出了硅平面工艺 为以后集成电路的大发展奠定了技术基础 1959年美国的仙童公司 Fairchilds 开发出了第一块用硅平面工艺制造的集成电路 并于2000年获得诺贝尔物理奖 半导体器件内的载流子在外电场作用下的运动规律可以用一套基本方程来加以描述 这套基本方程是分析一切半导体器件的基本数学工具 半导体器件基本方程是由麦克斯韦方程组结合半导体的固体物理特性推导出来的 这些方程都是三维的 1 1半导体器件基本方程的形式 第1章半导体器件基本方程 对于数量场 对于矢量场 先来复习场论中的有关内容 所以泊松方程又可写成 1 1b 分析半导体器件的基本方程包含三组方程 1 1 1泊松方程 1 1a 式中为静电势 它与电场强度之间有如下关系 1 1 2输运方程输运方程又称为电流密度方程 1 2 1 3 电子电流密度和空穴电流密度都是由漂移电流密度和扩散电流密度两部分所构成 即 1 1 3连续性方程 1 4 1 5 式中 Un和Up分别代表电子和空穴的净复合率 当U 0时表示净复合 当U 0时表示净产生 所谓连续性是指载流子浓度在时空上的连续性 即 造成某体积内载流子增加的原因 一定是载流子对该体积有净流入和载流子在该体积内有净产生 1 1 4方程的积分形式以上各方程均为微分形式 其中方程 1 1 1 4 1 5 可根据场论中的积分变换公式 而变换为如下的积分形式 1 6 1 8 1 7 上面的方程 1 6 式中 代表电位移 高斯定理 就是大家熟知的 方程 1 7 1 8 称为电子与空穴的电荷控制方程 表示流出某封闭曲面的电流受该曲面内电荷的变化率与电荷的净复合率所控制 在用基本方程分析半导体器件时 有两条途径 一条是用计算机求数值解 这就是通常所说的半导体器件的数值模拟 另一条是求基本方程的解析解 得到解的封闭形式的表达式 但求解析解是非常困难的 一般需先对基本方程在一定的近似条件下加以简化后再求解 本课程讨论第二条途径 1 9 1 10 1 11 1 12 1 13 1 2基本方程的简化与应用举例 最重要的简化是三维形式的方程简化为一维形式 得到 在此基础上再根据不同的具体情况还可进行各种不同形式的简化 例1 1对于方程 1 9 1 14 在耗尽区中 可假设p n 0 又若在N型耗尽区中 则还可忽略NA 得 若在P型耗尽区中 则得 例1 2对于方程 1 10 1 16 当载流子浓度和电场很小而载流子浓度的梯度很大时 则漂移电流密度远小于扩散电流密度 可以忽略漂移电流密度 方程 1 10 简化为 反之 则可以忽略扩散电流密度 方程 1 10 简化为 例1 3对于方程 1 12 1 13 中的净复合率U 当作如下假设 1 复合中心对电子与空穴有相同的俘获截面 2 复合中心的能级与本征费米能级相等 则U可表为 式中 代表载流子寿命 如果在P型区中 且满足小注入条件 则 同理 在N型区中 于是得 1 18 1 19 1 17 例1 4将电子扩散电流密度方程 1 16 同理可得空穴的扩散方程 1 23 1 21 代入电子连续性方程 1 12 设Dn为常数 再将Un的表达式代入 可得电子的扩散方程 例1 5对于泊松方程的积分形式 1 6 1 25 也可对积分形式的基本方程进行简化 在N型耗尽区中可简化为 式中 分别代表体积V内的电子总电荷量和非平衡电子总电荷量 例1 6对于方程 1 7 1 7 将电子净复合率的方程 1 18 代入 并经积分后得 1 26 定态时 上式可再简化为 1 27 方程 1 26 1 29 是电荷控制模型中的常用公式 只是具体形式或符号视不同情况而可能有所不同 同理 对于N型区中的少子空穴 定态时 1 29 1 28 分析半导体器件时 应先将整个器件分为若干个区 然后在各个区中视具体情况对基本方程做相应的简化后进行求解 求解微分方程时还需要给出边界条件 扩散方程的边界条件为边界上的
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