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ESD保护简介 Concept ESD Electro Staticdischarge静电放电如果MOS晶体管的栅氧化层上有很大的电压 会造成氧化层击穿 使器件永久破坏 随着器件尺寸减小 栅氧化层不断减薄 氧化层能承受的电压也不断下降tox 5nm时 VGm 5V由于MOS晶体管的栅电容很小 积累在栅极上的杂散电荷就能形成很大的等效栅压 引起器件和电路失效 这就是ESD问题 ElectrostaticDischarge ESD给电子器件环境会带来破坏性的后果 它是造成集成电路失效的主要原因之一 ESDModel ESD模型常见的有三种人体模型 HBM HumanBodyModel 充电器件模型 CDM ChargeDeviceModel 机器模型 MM MachineMode 其中以人体模型最为通行 一般的商用芯片 要求能够通过2kV静电电压的HBM检测 对于HBM放电 其电流可在几百纳秒内达到几安培 足以损坏芯片内部的电路 人体模型 人体模型 HBM 的等效电路 人体的等效电阻为1 5k 测试模式 进入芯片的静电可以通过任意一个引脚放电 测试时 任意两个引脚之间都应该进行放电测试 每次放电检测都有正负两种极性 所以对I O引脚会进行以下六种测试 PS模式 VSS接地 引脚施加正的ESD电压 对VSS放电 其余引脚悬空 NS模式 VSS接地 引脚施加负的ESD电压 对VSS放电 其余引脚悬空 PD模式 VDD接地 引脚施加正的ESD电压 对VDD放电 其余引脚悬空ND模式 VDD接地 引脚施加负的ESD电压 对VDD放电 其余引脚悬空引脚对引脚正向模式 引脚施加正的ESD电压 其余所有I O引脚一起接地 VDD和VSS引脚悬空 引脚对引脚反向模式 引脚施加负的ESD电压 其余所有I O引脚一起接地 VDD和VSS引脚悬空 VDD引脚只需进行 1 2 项测试 ESD保护电路 ESD保护电路的设计目的就是要避免工作电路成为ESD的放电通路而遭到损害 保证在任意两芯片引脚之间发生的ESD 都有适合的低阻旁路将ESD电流引入电源线 这个低阻旁路不但要能吸收ESD电流 还要能钳位工作电路的电压 防止工作电路由于电压过载而受损 这条电路通路还需要有很好的工作稳定性 能在ESD发生时快速响应 而且还不能对芯片正常工作电路有影响 ESD通过PAD导入芯片内部 因此I O里所有与PAD直接相连的器件 具体到I O 就是与PAD相连的输出驱动和输入接收器 都需要建立与之平行的ESD低阻旁路 将ESD电流引入电压线 再由电压线分布到芯片各个管脚 降低ESD的影响 根据对ESD低阻放电通路的要求 上面六个模式的通路必须保证在ESD发生时 形成与保护电路并行的低阻通路 旁路ESD电流 且能立即有效地钳位保护电路上的电压 而在这两部分正常工作时 不影响电路的正常工作 输入端ESD保护电路 双二极管保护电路PS D2击穿NS D2导通PD D1导通ND D1击穿栅极电位钳制在 输入端ESD保护电路 对深亚微米CMOS集成电路 栅氧化层的击穿电压很小 常规二极管的击穿电压较大 不能起到很好的保护作用 因此可以增加离子注入提高二极管衬底浓度 来降低二极管的击穿电压 用场区MOS管作输入保护 输入端有较大的正脉冲电压时场区MOS管导通 使ESD电流旁路用栅接地的NMOS管和栅接VDD的PMOS管共同构成输入保护电路 源漏区pn结起到二极管的保护作用 输入端ESD保护电路 特征尺寸的缩小对ESD保护电路的挑战I O管脚数目增加 需减小保护电路的面需降低保护电路的钳位电压 加快电荷泄放速度 采用垂直双极晶体管 VerticalBipolar V BIP 做保护电路 输入电压过高时 D被击穿 电阻R使V BIP发射结正偏 双极晶体管导通 为ESD提供很大的放电电流 电源的ESD保护电路 ESD应力电压加在电源和地的管脚之间对缩小到深亚微米尺寸的电路 这种ESD应力更容易对电路造成损害 应在电源和地之间增加ESD保护电路 用栅接地的NMOS管做电源的ESD保护能为静电释放提供足够大的电流 器件的面积较大钳位电压较高 可能在自己被击穿之前内部器件已损坏 电源的ESD保护电路 具有ESD变化探测功能的保护电路正常工作时 ESD保护电路与内部电路相隔离受到ESD冲击时 VX缓慢上升 使MP导通 VG达到一个正电压 从而使钳位NMOS管导通设计适当的RC常数 使钳位NMOS管的导通时间满足要求 输出端ESD保护电路 芯片的脱片输出级都是尺寸很大的MOS管构成的反相器 其漏区和衬底形成的pn结就相当于一个大面积的二极管 可以起到ESD保护作用 一般输出级不用增加ESD保护器件 对芯片的输出级MOS管尺寸不够大或者对可靠性要求很高的情况 也要在输出端增加保护二极管 ESD保护电路原理 在正常工作情况下 NMOS横向晶体管不会导通 当ESD发生时 漏极和衬底的耗尽区将发生雪崩 并伴随着电子空穴对的产生 一部分产生的空穴被源极吸收 其余的流过衬底 由于衬底电阻Rsub的存在 使衬底电压提高 当衬底和源之间的PN结正偏时 电子就从源发射进入衬底 这些电子在源漏之间的电场的作用下 被加速 产生电子 空穴的碰撞电离 从而形成更多的电子空穴对 使流过n p n晶体管的电流不断增加 最终使NMOS晶体管漏极和衬底发生二次击穿 此时的击穿不再可逆 则NMOS管损坏 ESD保护的实现 一般IOPAD的ESD保护电路 二极管ND是NMOS漏极

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