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文档简介

电沉积法制备金纳米结构,应化13-2李睿,材料与方法,1.材料氯金酸(HAuCl44H20,99.9%，购自上海化学试剂有限公司。ITO导电玻璃，厦门爱特欧光电实业有限公司。所有用水皆为超纯水，由Milli-pore-Q纯水仪制备。,2.电沉积法制备金纳米结构将清洁干燥的ITO玻璃作为工作电极，Pt电极为对电极，232饱和甘汞电极为参照电极，选择适当的电沉积电压和电沉积时间，在导电玻璃表面原位沉积得到一定疏密程度和尺寸的纳米金结构。本试验中，用ITO玻璃作为工作电极，沉积电压分别选择了0.3,0.1,0.3,0.5V，沉积时间为1,10,30,60min,沉积电压为0.1V，沉积时间分别为1,10,30,60min。当沉积时间越长，沉积位点越多，并且颗粒逐渐增大，颗粒间的间距逐渐减小，颗粒表面形成凹凸不平的结构。颗粒粒径由20nm士2nm逐渐增大到180nm士4nm。可通过调节成核时间，得到适宜疏密程度和大小的成核位点和种子，以制备不同形貌的纳米材料。沉积时间“控制”了纳米结构的尺寸，随着生长时间的增加，在纳米结构的表面会沉积更多的金原子，使纳米结构不断长大，纳米结构之间的间距逐渐变小，当超过一定时间后，纳米结构继续生长，最后连接成片,固定沉积时间为30min，分别选取4个电压一0.3,0.1,0.3,0.5V作为沉积电压，以寻找合适的生长条件。当沉积电压为一0.3V时，形成的纳米颗粒粒径大约为20nm士2nm的球形颗粒，颗粒间间距较大。随着沉积电压的增大，所形
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