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文档简介
1,第七章半导体存储器,7.1概述7.2只读存储器7.3随机存储器7.4存储器容量的扩展7.5用存储器实现组合逻辑函数7.6串行存储器本章小结本章,2,7.1概述,3.半导体存储器是一种能存储大量二值信息的半导体器件。,2.存储器与寄存器的区别,1.定义:存储器(memory)是计算机系统中的记忆设备,用来存放程序和数据。计算机中的全部信息,包括输入的原始数据、计算机程序、中间运行结果和最终运行结果都保存在存储器中。它根据控制器指定的位置存入和取出信息。,按存储介质分:,半导体存储器:用半导体器件组成的存储器。磁表面存储器:用磁性材料做成的存储器。,寄存器内部由触发器构成,存储容量小。例如1K需要1024个触发器存储器存储容量大,例如目前动态存储器的容量可达109位/片,其内部结构与寄存器完全不同。,3,4.对存储器要求:容量大,速度快,成本低,三者之间是矛盾的,目前通常采用多级存储器体系结构,即使用高速缓冲存储器、主存储器和外存储器。,4,按存储方式分:按存储介质分:按信息的可保存性分:按在计算机系统中的作用分:,半导体存储器:用半导体器件组成的存储器。磁表面存储器:用磁性材料做成的存储器。,随机存储器:任何存储单元的内容都能被随机存取,且存取时间和存储单元的物理位置无关。顺序存储器:只能按某种顺序来存取,存取时间和存储单元的物理位置有关,非永久记忆的存储器:断电后信息即消失的存储器。永久记忆性存储器:断电后仍能保存信息的存储器。,根据存储器在计算机系统中所起的作用,可分为主存储器、辅助存储器、高速缓冲存储器、控制存储器等。,5.存储器的分类,5,按存取功能分,触发器,电容需要刷新,6,7,24C02的EEPROM,1024RAM,24C02EEPROM,64Kfrash,8,7-2只读存储器,ROM的分类,掩模只读存储器(MROM),只读存储器所存储的内容一般是固定不变的,正常工作时只能读数,不能写入,并且在断电后不丢失其中存储的内容,故称为只读存储器。ReadOnlyMemory,可编程只读存储器(PROM),紫外线可擦除可编程只读存储器(EPROM),电擦除可编程只读存储器(EEPROM),快闪存储器(FLASHMEMORY),9,10,几个概念,存储器地址存储器数据输出及位数存储器容量字数,位数,设地址线为n条,数据线为m条,则字数=2n,位数/字=m。,存储容量=2nm。,11,7.2.1掩模只读存储器,1.ROM的基本结构和工作原理,在采用掩模工艺制作ROM时,其中存储的数据是由制作过程中使用的掩模板决定的,此模板是厂家按照用户的要求专门设计的,因此出厂时数据已经“固化”在里面了。,12,存储矩阵:,字线(选择线):N条,位线(数据线):M条,13,地址译码器,对应于N条字线,地址译码器必须有n条地址线输入:且,N=2n,一组地址码对应一条字线,当某条字线被选中时,与该字线联系的存储单元(字)就与数据线相通,进行读、写操作。,14,ROM的工作原理,地址译码器根据地址码选中一条字线(只有一条!),字线所对应的存储单元的各位数码经位线输出,输出缓冲器,选中的字经输出缓冲器输出:提高带负载能力;由三态控制信号决定数据输出的时刻。,15,存储容量字数位数,存储容量22444,7.2.1掩模只读存储器,2.二极管ROM电路,16,图7.2.2是具有2位地址输入码和4位数据输出的ROM电路。其地址译码器是由4个二极管与门构成,存储矩阵是由二极管或门构成,输出是由三态门组成的。,图7.2.2,Y=AB,17,2.二极管ROM电路,7.2.1掩模只读存储器,图7.2.2,Y=A+B,18,2.存储距阵由或门构成,3.输出缓冲器由三态门构成,图7.2.2,A1A0为地址线,W0W1W2W3为字线,D3D2D1D0为位线。,在每一个地址上,存放着一个四位数。,19,VCC,A1,A0,地址译码,存储矩阵,输出缓冲,二极管与数据的关系,当字线与位线的交叉点上有二极管时,数据为1;无二极管时,数据为0。,数据存入厂家根据用户需要,在有些点做上二极管,有些点不做,就把数据存入存储器了。,20,存储矩阵,为了便于表达和设计,通常将右图简化。,有“码点”的存储单元表示存1无“码点”的存储单元表示存0,地址译码器,21,制作工艺:掩膜,光刻,特点:由厂家写入数据,不可更改;掉电不丢失数据。,存储器容量:所存储的二进制数的位数。即字数位数/字。,22,MOS管存储器,存储矩阵的工作原理:(以W0为例),当W0=1,W1W2W3=000时,D3D2D1D0=0101,地址译码器,存储矩阵,输出缓冲器均用N沟道MOS管构成,故有MOS管的点数据为1,无MOS管为0。,0101,1010,0100,1110,23,7.2.2可编程只读存储器(PROM),原理:在字线和位线上接有带熔断丝的三极管,出厂的PROM熔断丝均未熔断,由用户根据需要将熔断丝熔断。,PProgrammable,24,数据写入,例:将地址为0000的单元写入01111111,输入地址码0000,使W0=1,(选中该组存储单元),在D7端加高压脉冲(20V),使稳压管DZ导通,写入放大器AW导通,输出呈低电平,低内阻状态,有大电流流过熔断丝,将其熔断。,数据读出,输入地址码0000,使W0=1,数据端不加电压,AR工作,输出数据,读出时,AR输出的5V高电平不足以使DZ导通,AW不工作。,PROM特点:由用户一次性写入数据,不能修改,只能读出。,25,熔丝、反熔丝反熔丝编程技术也称熔通编程技术,这类器件是用反熔丝作为开关元件。这些开关元件在未编程时处于开路状态,编程时,在需要连接处的反熔丝开关元件两端加上编程电压,反熔丝将由高阻抗变为低阻抗,实现两点间的连接,编程后器件内的反熔丝模式决定了相应器件的逻辑功能。,26,7.2.3可擦除的可编程只读存储器(EPROM)Erasable,总体结构与PROM一样,不同之处在于存储单元,即字线与位线上接的器件(浮栅MOS管或叠栅MOS管)。,一、EPROM(UV-UltravioletEPROM紫外线擦除的可编程只读存储器),1.浮栅MOS管(以P沟道管为例),信息存储原理,若浮栅上有电子,则衬底表面可感应出空穴,形成导电沟道,可导通,状态1,27,雪崩注入:在DS间加负高压(-45V),使漏极与衬底之间的PN结产生雪崩击穿,产生大量的自由电子,在强电场的作用下,穿过SiO2,到达浮栅上。,将负高压撤掉后,电子没有放电通道,只能待在浮栅上,可保存十年左右。,怎样去掉浮栅上的电子(擦除信息),怎样在浮栅上注入电子(写入信息),加紫外线照射,浮栅上的电子获得能量,返回PN结。,为方便照射,芯片的封装外壳装有透明的石英盖板,平时应封上以免日光照射使信息丢失。,28,输入地址码,使字线W=0(-VDD),在Di端加负高压脉冲,T1浮栅被注入电子。相当于写入1。,用浮栅管作存储单元时,需用一只普通的P沟道MOS管与之串联(因其无栅极引出线),数据写入,数据读出,输入地址码,使W=0,Di端不加电压,T2导通,T1导通,Di读出1(0V)。,若T1浮栅上无电子,则T1不导通,Di读出0(-VDD),29,2.叠栅MOS管(以N沟道管为例),克服了浮栅管无栅极的缺点,工作时不需加配合管。,信息存储原理,若浮栅上无电子,则在GC上加正电压,衬底表面将感应出大量电子,形成导电沟道,可导通,状态0,若浮栅上有电子,则在GC上加正电压,由于该电压与浮栅上的电子有抵消作用,故衬底表面将感应出少量电子,不能形成导电沟道,不可导通,状态1,30,怎样在浮栅上注入电子(写入信息),在DS间加正高压,使漏极与衬底之间的PN结产生雪崩击穿,产生大量的自由电子。同时在控制栅上加正高压,在此强电场的作用下,电子穿过SiO2,到达浮栅上。,怎样去掉浮栅上的电子(擦除信息),紫外线照射。,输入地址码,使字线W=1(VDD),在Di端加正高压脉冲,T浮栅被注入电子。相当于写入1。,数据写入,数据读出,输入地址码,使W=1,Di端不加电压,T截止,Di读出1(+VDD)。,31,EPROM特点:由用户写入,可改写,32,二、E2PROM(电可擦除可编程只读存储器)ElectricallyErasable,用浮栅隧道氧化层MOS管(Flotox管)作存储单元。特点:不用紫外线擦除,用电信号擦除。,信息存储原理与前相同,浮栅上有电子相当于1,无电子相当于0。,注入、擦除有所不同。,浮栅和漏区之间的氧化层非常薄,称为隧道区。,当GC与D之间加高压时(可正可负),薄氧化层被击穿,形成导电隧道,漏区电子可以到达浮栅(GCD间加正电压),浮栅电子也可以到达漏区(GCD间负电压),因此写入和擦除都可以通过电信号来实现。,写入的数据在常温下至少可以保存十年,擦除/写入次数为万次10万次。,33,Flotox管作存储单元时,需附加一普通MOS管。,34,特点:可电擦除;在正常工作时只能读出。,三、快闪存储器,FLASH存储器又称闪存,它结合了ROM和RAM的长处,不仅具备电子可擦除可编程(EEPROM)的性能,还不会断电丢失数据同时可以快速读取数据(NVRAM的优势),U盘和MP3里用的就是这种存储器。,目前Flash主要有两种NORFlash和NANDFlash。,35,浮栅与衬底间的氧化层很薄浮栅与源区重叠部分面积极小,浮栅与源区间的等效电容小,浮栅与控制栅间的等效电容大,,当控制栅和源极间加上电压时,大部分电压都降在浮栅与源极的电容上。,36,擦除(写0):全擦令W=0V,VSS=12V,则隧道区氧化层被击穿,电子经隧道返回,相当于写入0。,0V,6V,特点:集成度高,大容量,低成本。,37,7.3随机存取储出器RAM,特点:可随机读写,掉电丢失数据,7.3.1静态RAM(StaticRAM/SRAM),一、SRAM的结构和工作原理,存储矩阵中的存储单元按行列结构排列;由行地址译码器和列地址译码器分别选中行线和列线,则可选中一组存储单元;读写控制电路控制数据的读出和写入,38,39,若A9A8A7A6A5A4A3A2A1A0=0000000000表示选中列地址为A2A1A0A9=0000、行地址为A8A7A6A5A4A3=00000000的存储单元。此时只有X0和Y0为有效,则选中第一个信息单元的4个存储单元,可以对这4个存储单元进行读出或写入。,40,存储容量,210字4位/字=10244=4096位,符号,41,二、SRAM的静态存储单元,1.NMOS型静态存储单元,T5、T6是存储单元的门控管,由行线Xi控制;,T7、T8是一列存储单元共用的门控管,由列线Yj控制;,42,掉电时,整个电路无法工作,数据全部丢失。,43,SRAM芯片举例,Intel2114A是1K字4位SRAM,它是双列直插18脚封装器件,采用5V供电,与TTL电平完全兼容。,44,静态读写存储器(SRAM)集成电路6264简介,采用CMOS工艺制成,存储容量为8K8位,典型存取时间为100ns、电源电压5V、工作电流40mA、维持电压为2V,维持电流为2A。8K=213,有13条地址线A0A12;每字有位,有条数据线I/O0I/O7;,四条控制线,45,6264的工作方式表,46,2.CMOS型、双极性静态存储单元,CMOS型特点:功耗低,可由备用电池供电保存数据,缺点是制造工艺复杂。,双极型特点:速度快,但功耗大。,工作原理自学,7.3.2动态随机存储器(DRAM)(DynamicRAM),静态RAM的缺点:管子多,功耗大,集成度低优点:速度快,使用方便(不用刷新),动态RAM利用MOS管栅极电容的电荷存储效应存储信息,需要定期给电容补充电荷,即刷新。,以单管电路为例,DDRRAM(Double-Date-RateRAM),47,工作原理,写入:X=1,T导通,位线B上的数据经过T存入CS.,读出:X=1,T导通,Q与B接通,若Q=0,则B=0,若Q=1,则CS对CB充电。,但充电后的高电平会降低很多,为破坏性读出.,CB为分布电容,CBCS,,48,DRAM芯片举例,DRAM2116有七位地址输入,行、列地址复用的16K1位的DRAM,49,常见存储器规格型号,50,设地址线为n条,数据线为m条,则字数=2n,位数/字=m。,例:将2片2114(10244位)扩展成10248位的RAM,7.4.1.位扩展方式,7.4存储器容量的扩展,存储容量的含义:能存储多少位二进制数。,存储器容量的表示方法:容量=字数位数/字,存储容量=2nm。,方法:将两片存储器的地址线,读写线,片选线对应并接即可。,51,I/O0I/O1I/O2I/O3,I/O4I/O5I/O6I/O7,A0A1A9,对同一地址进行读写操作,一次读写8位。,52,将8片(10241位)扩展成10248位的RAM,53,7.4.2字扩展方式,例:将4片2114(10244位)扩展成40964位的RAM,方法:,54,I/O0I/O1I/O2I/O
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