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文档简介
.,1,第4章场效应管及其电路,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),4.1.1N沟道增强型场效应管(NMOS管),4.1.2P沟道增强型场效应管(PMOS管),4.2结型场效应管(JFET),4.2.1结型场效应管的结构,4.2.2结型场效应管的工作原理,4.1.3N沟道耗尽型场效应管,4.1.4P沟道耗尽型场效应管,4.2.3特性曲线,4.2.4场效应管的主要参数及使用注意事项,.,2,第4章场效应管及其电路,4.3场效应管放大电路,4.3.1共源放大电路,4.3.2共漏放大电路,4.3.3复合互补源极跟随器,.,3,第4章场效应管及其电路,【本章难点】MOS管的原理和转移特性及主要参数场效应管的微变等效电路法,【本章要点】MOS管的原理、特性和主要参数结型场效应管原理、特性及主要参数场效应管放大电路的组成与原理,.,4,第4章场效应管及其电路,场效应管(FET)是一种电压控制器件,它是利用输入电压产生电场效应来控制输出电流的。它具有输入电阻高、噪声低、热稳定性好、耗电省等优点,目前已被广泛应用于各种电子电路中。场效应管按其结构不同分为结型(JFET)和绝缘栅型(IGFET)两种,其中绝缘栅型场效应管由于其制造工艺简单,便于大规模集成,因此应用更为广泛。,.,5,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,绝缘栅型场效应管简称MOS管,由于其内部由金属氧化物半导体三种材料制成,可分为增强型和耗尽型两大类,每类中又有N沟道和P沟道之分。,4.1.1N沟道增强型场效应管(NMOS管),1结构,如图4-1(a)所示,在一块掺杂浓度较低的P型硅片上,通过扩散工艺形成两个高掺杂的区,通过金属铝引出两个电极分别作为源极S和漏极D,再在半导体表面覆盖一层二氧化硅绝缘层,在源漏极之间的绝缘层上制作一铝电极,作为栅极G。,.,6,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,(a)结构示意图(b)电路符号,图4-1N沟道增强型MOS管,.,7,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,2工作原理,(1)栅源电压时的情况,如图4-2所示,漏源之间为一条由半导体N-P-N组成的两个反向串联的PN结,因此即使加入漏源电压,因无导电沟道形成,漏极电流。,图4-2时的情况,.,8,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,2工作原理,如图4-3所示,由P型半导体转化成的N型薄层,被称为反型层。反型层使漏源之间形成一条由半导体N-N-N组成的导电沟道。若此时加入漏源电压,就会有漏极电流产生。,(2)栅源电压,漏源电压时的情况,栅源电压,漏源电压时的情况,图4-3,.,9,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,3特性曲线,(1)转移特性曲线转移特性曲线是指增强型NMOS管在漏源电压一定时,输出电流与输入电压的关系曲线,即,转移特性曲线的表达式为,是时的值,为开启电压。,图4-4转移特性曲线,(4-1),.,10,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,(2)输出特性曲线输出特性是指增强型NMOS管在栅源电压一定时,输出电流与漏源电压的关系曲线,如图4-5所示,其函数关系式为,图4-5输出特性曲线,.,11,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,4.1.2P沟道增强型场效应管(PMOS管),P沟道增强型MOS管和N沟道增强型MOS管的主要区别在于作为衬底的半导体材料的类型不同,P沟道增强型MOS管以N型硅作为衬底,另外,漏极和源极是从引出,反型层为P型,对应的导电沟道也为P型结构,其符号如图4-6所示。,实际应用中,常常将P沟道增强型MOS管和N沟道增强型MOS管结合起来使用,称为CMOS,也可称为互补MOS。,图4-6P沟道增强型MOS管电路符号,.,12,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,4.1.3N沟道耗尽型场效应管,N沟道耗尽型MOS管在制造时,在二氧化硅绝缘层中预先掺入了大量的正离子。因而使,P衬底表面也可感应出较多的自由电子,形成反型层,建立起导电沟道,其结构如图4-7(a)所示。,将时有导电沟道存在的场效应管通称为耗尽型场效应管,符号中导电沟道用实线表示。,.,13,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,(a)结构示意图(b)电路符号,N沟道耗尽型MOS管其漏极电流和栅源电压之间的关系表达式为,图4-7N沟道耗尽型MOS管,(4-2),.,14,4.1绝缘栅场效应管(MOSFET),第4章场效应管及其电路,4.1.4P沟道耗尽型场效应管,P沟道耗尽型MOS管除了漏极、源极和衬底的半导体材料类型与N沟道耗尽型MOS管的对偶外,还有一个明显的区别就是在二氧化硅绝缘层中掺入的是负离子,其符号如图4-8所示。,图4-8P沟道耗尽型MOS管电路符号,.,15,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,4.2.1结型场效应管的结构,结型场效应管其内部结构如图4-9所示,与绝缘栅型场效应管不同的是漏极D和源极S通常可以对调使用。结型场效应管也可分为N沟道和P沟道两种。,图4-9结型场效应管,.,16,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,4.2.2结型场效应管的工作原理,图4-10时,对导电沟道的影响,.,17,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,如图4-10(a)所示,场效应管两侧的PN结均处于零偏置,因此耗尽层很薄,中间的导电沟道最宽,沟道等效电阻最小。当时,在作用下,场效应管两侧的耗尽层加宽,相应的中间导电沟道变窄,沟道等效电阻增大,如图4-10(b)所示。当的反偏值增大到某一值时,场效应管两侧的耗尽层相接,导电沟道消失,这种现象称为夹断,如图4-10(c)所示,发生夹断时的栅源电压即为夹断电压。此时,沟道等效电阻趋于无穷大,即使加入,漏极电流依然为零。,.,18,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,4.2.3特性曲线,1输出特性曲线,图4-11N沟道JFET特性曲线,图4-11(a)就是N沟道结型场效应管的输出特性曲线,由图可见,其工作状态分为四个区域。,.,19,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,(1)可变电阻区较小,场效应管尚未出现预夹断的区域。该工作区的特点是:与近似成线性关系,改变曲线斜率就发生变化。因此,工作在该区的场效应管可以看作是一个受栅源电压控制的可变电阻,即压控电阻。(2)恒流区较大超过,输出特性曲线趋于水平的区域。在这一区域内,与无关,只受控制,是一个受电压控制的电流源。场效应管作为放大器件应用时,均工作在这一区域,所以又称为放大区。,.,20,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,(3)击穿区值很大,超过漏源击穿电压,漏极电流迅速上升,对应输出特性曲线上翘的部分。击穿后场效应管不能正常工作,甚至很快烧毁,因此,不允许场效应管工作在此区域。(4)截止区输出特性曲线靠近横轴,漏极电流的区域。此时,导电沟道被完全夹断,故也被称为夹断区。,.,21,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,2转移特性曲线,在N沟道JFET转移特性曲线上,处的,而处的。在恒流区,与之间的关系可近似表示为,条件为:,.,22,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,4.2.4场效应管的主要参数及使用注意事项,1场效应管的主要参数,(1)夹断电压为耗尽型管子(含结型)的参数,是指uDS为某一定值而iD减小到某一微小值时的uGS值。在转移特性曲线上,处的值即为。,(2)饱和漏极电流为耗尽型管子的参数,是在时,场效应管处于预夹断时的漏极电流。在转移特性曲线上,处的值即为。,.,23,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,(3)开启电压为增强型MOS管的特有参数,是指为某一定值,使漏极电流为某一微小值(接近于0)时所需的最小值。,(4)低频跨导在为某一常数时,的微变量与相应的微变量之比值,即反映了栅源电压对漏极电流的控制能力,是表征FET放大能力的一个重要参数。,(4-3),.,24,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,2使用注意事项,场效应管的漏极和源极通常情况下可以互换使用,但对于出厂时已将源极和衬底连接在一起的场效应管,使用时应注意漏极和源极不能对调。(2)使用时各场效应管外加电压的极性应按规定接入,特别是结型场效应管应注意栅源间加反偏电压,以保证较高的输入电阻。,.,25,4.2结型场效应管(JFET),第4章场效应管及其电路,(3)MOS管应注意防止栅极悬空,以免绝缘层因电荷积累过多无法泄放,导致栅源电压升高而击穿二氧化硅绝缘层,所以贮存时应将三个电极短路,焊接时应用导线将各电极连在一起,并且电烙铁必须良好接地。(4)MOS管中若源极与衬底分开,应保证衬源间PN结反偏。通常P衬底接低电位,N衬底接高电位。,.,26,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,4.3.1共源放大电路,1自偏压电路,图4-12自偏压电路,电路如图4-12所示,场效应管的直流偏压是靠源极电阻Rs上的直流压降建立的,即,放大电路的栅偏压是依靠FET自身电流产生的,故称为自偏压电路。只适合由耗尽型FET(含JFET)构成的放大电路。,(4-4),.,27,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,2.分压式自偏压电路,图4-13分压式自偏压电路,电路的直流偏压是靠分压电阻Rg1、Rg2和源极电阻Rs共同建立的,其值为,(4-5),.,28,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,(1)静态分析,增强型,耗尽型,求得ID和UGS后,再求,.,29,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,(2)动态分析,FET的简化H参数等效电路,图4-14FET简化H参数等效电路,.,30,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,图4-15FET简化H参数等效电路,.,31,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,电压放大倍数,负号说明共源放大电路的输出电压与输入电压反相。,输入电阻,根据图4-15所示的H参数等效电路,进行动态分析,(4-6),(4-7),输出电阻,采用“分析法”,可求得输出电阻,(4-8),.,32,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,4.3.2共漏放大电路,图4-16是由增强型NMOS管构成的共漏放大电路,由其交流通路可知,漏极为输入、输出回路的公共端。由于信号从源极输出,故又称源极输出器。,图4-16共漏放大电路,.,33,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,1.静态分析,直流电路为分压式自偏压电路,其静态分析与之相同。,2.动态分析,共漏放大电路动态分析类似于第3章中共集放大电路,略。,.,34,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,图4-17共漏放大电路简化H参数等效电路,其简化H参数等效电路如图4-17所示,源极输出器电压放大倍数接近于1、输入电阻高和输出电阻低的特点,只不过源极输出器的输入电阻要比射极输出器大得多,通常可达几十兆欧。,.,35,4.3场效应管放大电路,第4章场效应管及其电路,4.3.3复合互补源极跟随器,场效应管源极跟随器的输入电阻可以做得很高,而输出电阻不是很低,且比晶体管射极跟随器的输出电阻要大得多。因为受低频跨导的限制,输出电阻一般为
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