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文档简介

1、 INV版图的设计及验证1 添加库文件 先打开在虚拟机终端中输入cshic5141icfb打开icfb ,然后选择ToolLibrary Path Editor进行工艺库路径的设置如图1-1: 图1-1 工艺库路径设置 然后选择EditAdd Library进行工艺库的添加置如图1-2: 图1-2 添加工艺库选项 在Add Library中选择要添加的工艺库如图2-3: 图1-3 选择要添加的工艺库 添加完工艺库后如下图1-4: 图1-4 添加完的工艺库 添加完工艺库后Save As为cds.lib文件,然后打开cds.lib文件进行路径的添加如下图1-5所示: 图1-5 在cds.lib文件

2、中对库路径进行添加1.2 设置以学号命名的库文件 选择FileNewLibrary如下图1-6所示: 图1-6 建立新的库文件 输入库的名字并选择OK确定保存,如下图1-7所示: 图1-7 输入新建立的库文件的名字1.3 绘制反相器的原理图选择FileNewCellview如下图1-8所示: 图1-8 建立新的原理图文件 输入绘制原理图的名字如图1-9: 图1-9 设置要绘制的原理图的名字 在原理图中放置器件选择smic18库中的p18和n18器件和输入输出Pin。 图1-10 选择smic18库中的n18器件 图1-11 选择放置输入和输出Pin 对器件p18和n18进行管子尺寸的设置。 图

3、1-12 对器件尺寸进行设置 绘制好的反相器的原理图如下图1-13: 图1-13 反相器原理图1.4 绘制反相器版图 选择ToolDesign SynthesisLayout XL生成原理图对应的版图。 图1-14 反相器原理图的版图生成 图1-15 生成新的版图 图1-16 设置版图名字 生成反向器的器件版图,如下图1-17所示: 图1-17 反相器器件版图 图1-18 反相器器件布局 版图进行连线,画完的版图如下图1-19所示: 图1-19 反相器版图1.5 DRC和LVS 选择Assura中的Rule Sets.进行设计规则设置: 图1-20 设计规则设置 图1-21 设计规则设置 选择Assura中的Run DRC.进行DRC检查: 图1-22 DRC设置 版图的DRC检测出现错误改后的版图如下图1-23所示: 图1-2

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