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文档简介
1、6-1 概述 6-2 BaTiO3瓷的半导化机理 6-3 PTC热敏电阻 6-4 半导体陶瓷电容器,第六章 半导体陶瓷,1,半导体陶瓷,6-1 概述,1.装置瓷、电容器瓷、铁电压电瓷:V1012cm ,防止半导化,保证高绝缘电阻率; 半导体瓷:V106cm 2. 半导体瓷:传感器用,作为敏感材料,电阻型敏感材料为主: V或S对热、光、电压、气氛、湿度敏感,故可作各种热敏、光敏、压敏、气敏、湿敏材料。 3.非半导体瓷体效应(晶粒本身) 半导体瓷晶界效应及表面效应,2,半导体陶瓷,6-1 概述,1. BaTiO3半导体瓷 a. PTC热敏电阻瓷 PTC热敏电阻 b. 半导体电容器瓷 晶界层电容器、
2、表面层电容器 2. NTC热敏半导体瓷(由Cu、Mn、Co、Ni、Fe等过渡金属氧化物烧成,二元、三元、多元系)NTC热敏电阻,种类,3,半导体陶瓷,6-1 概述,半导体陶瓷按照利用的物性分类可分为: 1. 利用晶粒本身性质:NTC热敏电阻; 2. 利用晶粒间界及粒界析出相性质:PTC热敏电阻器,半导体电容器(晶界阻挡层型); 3. 利用表面性质:半导体电容器(表面阻挡层型,4,半导体陶瓷,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,纯BaTiO3陶瓷的禁带宽度2.53.2ev,因而室温电阻率很高(1010cm),然而在特殊情况下,BaTiO3瓷可形成n型半导体,使BaTiO3成为半导体陶瓷的方法及过
3、程,称为BaTiO3瓷的半导化。 1原子价控制法(施主掺杂法) 2强制还原法 3AST法 4. 对于工业纯原料,原子价控制法的不足,5,半导体陶瓷,在高纯(99.9)BaTiO3中掺入微量(0.3mol)的离子半径与Ba2+相近,电价比Ba2+离子高的离子或离子半径与Ti4+相近而电价比Ti4+高的离子,它们将取代Ba2+或Ti4+位形成置换固溶体,在室温下,上述离子电离而成为施主,向BaTiO3提供导带电子(使部分Ti4+eTi3+),从而V下降(102cm),成为半导瓷,1原子价控制法(施主掺杂法,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,6,半导体陶瓷,Ti3+=Ti4+e, 其中的e为弱束缚
4、电子, 容易在电场作用下运动而形成电导,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,7,半导体陶瓷,电导率与施主杂质含量的关系,I区:电子补偿区 II区:电子与缺位混合补偿区 III区:缺位补偿区 IV区:双位补偿区,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,8,半导体陶瓷,原因:(1 ) 若掺杂量过多,而Ti的3d能级上可容的电子数有限,为维持电中性,生成钡空位,而钡空位为二价负电中心,起受主作用,因而与施主能级上的电子复合,v。 可表示为,而,实验发现:施主掺杂量不能太大,否则不能实现半导化,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,9,半导体陶瓷,2)若掺杂量过多,三价离子取代A位的同时还取代B位,当取代A
5、位时形成施主,提供导带电子e,而取代B位时形成受主,提供空穴h,空穴与电子复合,使V,掺量越多,则取代B位几率愈大,故V愈高,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,10,半导体陶瓷,在还原气氛中烧结或热处理,将生成氧空位而使部分Ti4+Ti3+,从而实现半导化。(102106cm,取决于气氛与温度,2. 强制还原法,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,11,半导体陶瓷,强制还原法往往用于生产晶界层电容器,可使晶粒电阻率很低,从而制得介电系数很高(20000)的晶界层电容器。 强制还原法所得的半导体BaTiO3阻温系数小,不具有PTC特性,虽然在掺入施主杂质的同时采用还原气氛烧结可使半导化掺杂范围
6、扩展,但由于工艺复杂(二次气氛烧结:还原氧化)或PTC性能差(只用还原气氛),故此法在PTC热敏电阻器生产中,目前几乎无人采用,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,12,半导体陶瓷,3. AST法,当材料中含有Fe、K等受主杂质时,不利于晶粒半导化。加入SiO2或AST玻璃(Al2O3SiO2TiO2)可以使上述有害半导的杂质从晶粒进入晶界,富集于晶界,从而有利于陶瓷的半导化。 AST玻璃可采用Sol-Gel法制备或以溶液形式加入,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,13,半导体陶瓷,对于工业纯原料,由于含杂量较高,特别是含有Fe3+、Mn3+(或Mn2+)、Cu+、Cr3+、Mg2+、Al3
7、+(K+、Na+)等离子,它们往往在烧结过程中取代BaTiO3中的Ti4+离子而成为受主,防碍BaTiO3的半导化。例如,4. 工业纯原料原子价控法的不足,6-2 BaTiO3瓷的半导化机理,14,半导体陶瓷,1PTC热敏电阻简介 2BaTiO3基PTCR的研究进展 3. BaTiO3半导化瓷的PTC机理 4. PTC热敏电阻瓷的制备 5.PTC热敏电阻器的特性及其应用,6-3 PTC热敏电阻,15,半导体陶瓷,普通半导体T0,即T,v,原因是载流子数目; 绝缘体T0,即 T,v,原因是杂质电离基质电离; 金属 T0 即T, v 原因是振动加剧,散射, B曲线; PTC T0,A曲线 NTC
8、T0,C曲线 CTR T0,D曲线,电阻与温度的关系,热敏电阻,6-3 PTC热敏电阻,16,半导体陶瓷,1950年,荷兰Phillip公司的海曼(Haayman)等人在BaTiO3中掺入稀土元素(Sb、La、Sm、Gd、Ho、Y、Nb)时发现BaTiO3的室温电阻率降低到101104cm,与此同时,当材料温度超过居里温度时,在几十度的范围内,电阻率会增大410个数量级,即PTC效应,1. PTC热敏电阻简介,6-3 PTC热敏电阻,17,半导体陶瓷,PTCR的实用化从本世纪80年代初开始。 已大量应用于彩电、冰箱、手机等家用电器。 PTCR种类多样化,应用基础均取决于电阻温度特性、电压电流特
9、性及电流时间特性,6-3 PTC热敏电阻,18,半导体陶瓷,电阻温度特性(阻温特性,IW T I,过热保护、恒温加热,6-3 PTC热敏电阻,19,半导体陶瓷,T特性是PTC热敏电阻最基本的特性,通过T特性可以求得PTC热敏材料最基本的参数,Tmax,6-3 PTC热敏电阻,20,半导体陶瓷,I: TTmin,负温区(NTC区) II. TminTTmax,正温区(PTC区) III.TTmax,负温区(NTC区) 对区: 取对数,并利用对数换底公式得,温度系数,6-3 PTC热敏电阻,21,半导体陶瓷,对区或III区,B材料系数,R0为T=T0时的电阻。故呈NTC效应,6-3 PTC热敏电阻
10、,22,半导体陶瓷,工程上用以下参数表征材料(或器件)性能: 室温电阻率25:25时测得零功率电阻率 (彩电消磁器、冰箱启动器:10102cm, 加热器:102104cm) 最大电阻率与最小电阻率之比,跳跃数量级) 目前,6-3 PTC热敏电阻,23,半导体陶瓷,最大电阻率温度系数:作曲线的切线,在斜率最大的切线上取两点T1、T2则 早期max10或2030。 近年来,40温度范围内max达30,20温度范围内max达4050,6-3 PTC热敏电阻,24,半导体陶瓷,开关温度Tb:2min所对应的较高温度.(TbTc) 希望25系列化, 尽可能大,max尽可能高,Tb系列化,6-3 PTC热
11、敏电阻,25,半导体陶瓷,当nA/nD,则25,max,,当T烧,t保,max,当Tb时,25,max,,6-3 PTC热敏电阻,但是各参数之间互相影响,只能综合考虑:变化规律:以最佳半导化为准,26,半导体陶瓷,电压电流特性(伏安特性,线性区,跃变区,I I 0Vk:不动作区,V与I关系符合欧姆定律 VkVmax:跃变区, 跃变,I Vmax以上:击穿区, , V ,I,热击穿,过电流保护 过载保护,额定电压,最大工作电压,外加电压Vmax时的残余电流,外加电压Vk时的动作电流,6-3 PTC热敏电阻,27,半导体陶瓷,电流时间特性(IT特性,刚接通时处于常温低阻态,一定时间后进入高阻态。
12、电流从大(起始电流)到小有延迟,电机延时启动 节能灯预热软启动,6-3 PTC热敏电阻,28,半导体陶瓷,按居里温度分类: 低温PTCR:(Ba,Sr)TiO3 (Tc120 ) 彩电消磁,马达启动,过流、过热保护 高温PTCR:(Ba,Pb)TiO3 (Tc120, 120500) 定温发热体 (Ba、Bi、Na)TiO3 优于含铅PTCR材料:温度系数大,电压效应小,6-3 PTC热敏电阻,29,半导体陶瓷,按材料体系分类: BaTiO3基PTCR V2O3基复合材料 高分子复合材料 其他陶瓷复合材料,6-3 PTC热敏电阻,30,半导体陶瓷,6-3 PTC热敏电阻,31,半导体陶瓷,居里
13、点与添加物的关系,6-3 PTC热敏电阻,半导体陶瓷,施主掺杂的BaTiO3基陶瓷在氧化性气氛中烧结或者退火时,表现出一种PTC(正温度系数)效应,即试样在铁电相顺电相转变时(居里温度附近),电阻发生急剧的增大。 典型的BaTiO3基PTC陶瓷在居里温度附近电阻将由100cm跃变到105109cm。由于具有这种性能,BaTiO3基PTC陶瓷已经在很多方面得到了广泛的应用,2. BaTiO3基PTCR的研究进展,6-3 PTC热敏电阻,33,半导体陶瓷,研究内容: (1) 掺杂元素的研究 (2) 与金属复合的研究 (3) 降低烧结温度的研究 (4) 低阻化的研究,攻关难点:低电阻率、高升阻比、高
14、耐压,6-3 PTC热敏电阻,34,半导体陶瓷,1) 掺杂元素的研究 等价离子掺杂:Sr2+、Pb2+、Ca2+、Sn4+、Ce4+、Zr4+、Hf4+ 调节Tc 不等价离子掺杂:Bi3+、稀土;Nb5+、Ta5+ 高价施主掺杂:半导化; 受主Mn2+掺杂:提高PTCR特性和温度系数,6-3 PTC热敏电阻,35,半导体陶瓷,2) 与金属复合的研究 研究表明,与金属复合的BaTiO3基PTCR具有较低的室温电阻率和较大的电阻突跃。 掺杂Ag,Cr金属粉,6-3 PTC热敏电阻,36,半导体陶瓷,3) 降低烧结温度的研究 玻璃相的主要成分为Al2O3、SiO2、TiO2,简称AST。 玻璃相可吸
15、附杂质,有利于半导化。 生成低共熔液相,促进陶瓷烧结,6-3 PTC热敏电阻,37,半导体陶瓷,4) 低阻化的研究 高纯原料是制备高性能PTCR的必备条件。 施、受主复合掺杂 制备工艺严格控制 与低阻相复合:添加金属(Cr、Ni) 添加石墨、草酸盐:高温分解出CO2,夺取氧,6-3 PTC热敏电阻,38,半导体陶瓷,3. BaTiO3半导化瓷的PTC机理,6-3 PTC热敏电阻,实验发现,掺杂BaTiO3半导体陶瓷在居里点以下无PTC效应,电阻率很低,在Tc以上v随T升高呈指数的增加。这与BaTiO3铁电体的在Tc以下很高,Tc以上迅速降低相对应。因此,PTC效应必然与铁电性有关。TTc,有P
16、TC效应:,39,半导体陶瓷,实验发现:单晶BaTiO3无PTC特性,强制还原法所得半导体BaTiO3的PTC特性很小或没有PTC特性,PTC特性必然与晶界受主态有关,是一种界面效应而不是体效应,6-3 PTC热敏电阻,40,半导体陶瓷,1961年海旺提出海旺模型来解释施主掺杂的BaTiO3陶瓷在居里点以上的阻温特性,海旺针对客观实验事实即: (1) PTC效应是与材料的铁电相直接相关的,电阻率突变温度与居里点相对应; (2) 在BaTiO3单晶体中没有观察到PTC效应。 根据事实(1)海旺将PTC效应与相联系;根据事实(2),很自然地将PTC效应归结为陶瓷的晶粒边界效应,1)Heywang
17、Model,6-3 PTC热敏电阻,41,半导体陶瓷,在将上述事实(1)和(2)结合起来考虑时,海旺假设:BaTiO3半导体陶瓷晶粒内部为n型半导体,在晶界处,由于吸附氧或受主杂质偏析,在晶界上形成“电子陷阱”,因此从导带或施主能级上来的电子,首先填充在表面态中,从而在晶界形成受主电荷,并在晶粒内距晶界一定宽度(约为晶粒直径的1/50)形成相反电荷的空间电荷层(阻挡层),从而出现晶界势垒,6-3 PTC热敏电阻,42,半导体陶瓷,ns表面态密度 nD施主浓度 b耗尽层厚度,bns/nD,6-3 PTC热敏电阻,势垒高度0由解泊松方程求得,半导体陶瓷,电子要从一个晶粒进入相邻晶粒,必须跃过晶界势
18、垒。 (s晶界电阻率,V晶粒电阻率,6-3 PTC热敏电阻,44,半导体陶瓷,对 讨论 1)当TTc时,在强电场(E3KV/cm),(10000)很高,且为一常量,势垒0很低,s小。 s 很小 2)当TTc时,T,0,即势垒高度0随温度T而迅速升高。 随T呈指数式迅速升高,显示出PTC特性,6-3 PTC热敏电阻,45,半导体陶瓷,3)在nD、不变时,为了提高PTC特性,应尽可能提高ns,其方法如下: a)晶界氧化:烧结后期一定在强氧化气氛中,使瓷料存在一定开口气孔(多孔瓷) b)掺入低价受主杂质Mn、Cu、Cr、Fe等,并设法使其分布在晶界处。 以上措施已为实践证明是提高PTC特性的有效方法
19、,但应注意当ns过多时,室温下0也增高,因而室温电阻率25也高。4) 当温度T过高(TTmax)时,空间电荷层的电子被激发,因而跃过势垒的电子几率,故又显示负温特性。且T,EEs,表面态俘获的电子被激发,从而使0,T0,6-3 PTC热敏电阻,46,半导体陶瓷,海旺模型自身存在很多限制因素如: (1) 未掺杂的氧缺位型(强制还原制备)BaTiO3没有PTC效应; (2) 施主掺杂BaTiO3的电导率对烧结工艺,特别是对冷却条件是极其敏感的; (3) 在居里点以下,要得到很小的室温电阻率,海旺假设了一个大的介电常数,而这个介电常数需要很大的电场(3kV/cm),实际在测量过程中,样品所加的电场很
20、小,故此电场不足以使势垒降到可以忽略的地步,6-3 PTC热敏电阻,47,半导体陶瓷,BaTiO3陶瓷的介电常数与温度的关系图,6-3 PTC热敏电阻,48,半导体陶瓷,2) Daniels Model 丹尼尔斯模型认为当材料从高温冷却时,晶粒表面形成富钡缺位层,从而补偿了晶粒表面的施主,而晶粒内部的施主未得到完整的补偿,从而晶粒间形成了n-i-n结构,也就是说在有限的扩散层的情况下,形成了表面为高阻层而体内为高导层的缺陷。VBa起着海旺模型中表面态作用,而钡空位可由如下机制产生,在烧结过程中,组成中过量的Ti在晶界上形成富Ti相BaTi3O7,降温时,富Ti相在晶界析出BaTiO3,同时形成
21、钡缺位,6-3 PTC热敏电阻,49,半导体陶瓷,V.o扩散很快,在陶瓷介质中可以认为是均匀分布的,而VBa扩散慢,它首先补偿晶界处施主,形成高阻层,然后向内扩散,6-3 PTC热敏电阻,50,半导体陶瓷,丹尼尔斯模型能解释为什么还原型BaTiO3中没有PTC效应,那是由于在还原BaTiO3中,存在大量的氧缺位,它的n型电导是由氧缺位造成的。由于大量的氧缺位的存在,所以没有或很难有钡缺位存在,因此就没有PTC效应。 丹尼尔斯模型也解释了冷却条件对材料特性的影响。冷却速度在很大程度上决定了绝缘区的厚度LD,速率越低,LD越厚,此区的钡缺位浓度就越高,这就使居里点以下的电阻率上升。如果冷却时间足够
22、长,则晶粒边界事实上就成为绝缘良好的材料,可以做成高达数万的边界层电容器,6-3 PTC热敏电阻,51,半导体陶瓷,La掺杂BaTiO3晶粒中钡空位的分布图,6-3 PTC热敏电阻,52,半导体陶瓷,1) 原材料 2)PTC热敏电阻器制备工艺 3) 配方的选择、调整,3.PTC热敏电阻瓷的制备,6-3 PTC热敏电阻,53,半导体陶瓷,主材料 早期:BaCO3、SrCO3、 TiO2 后期:BaTiO(C2O4)24H2O,SrTiO(C2O4)24H2O,TiO2 施主杂质剂:Nb5+、Ta5+、W6+、Sb3+、Y3+、La3+ 受主杂质剂:Mn、Co,1)原材料,6-3 PTC热敏电阻,
23、54,半导体陶瓷,配料球磨干燥预烧粉碎造粒成型排胶烧结烧Ag电极 要形成PTC特性,关键在烧结后期的冷却阶段,使氧扩散到晶粒边界去,通常在12001000时PTC特性最易形成,因而在这个温区内延长降温时间或适当保温,可以提高正温度系数,但过长,则会提高晶粒的电阻率(晶界上的钡缺位向晶粒内扩散,2)PTC热敏电阻器制备工艺,6-3 PTC热敏电阻,55,半导体陶瓷,3)配方的选择、调整,a. 添加剂的作用、用量限度 居里点移动剂:Pb +3.7/1mol 50mol Sr -3.7/1mol 40mol Sn -8.0/1mol 25mol Zr -5.3/1mol 70mol 提高PTC特性剂
24、(受主杂质):Mn、Co1.5 半导化剂(施主杂质): 0.55mol Nb5+、Ta5+、W6+、Sb3+、Y3+、La3+ AST添加剂:5mol,Al2O3:SiO2:TiO22:3:1(mol,6-3 PTC热敏电阻,56,半导体陶瓷,b. 配方计算: 由于PTC材料的性能对杂质非常敏感,因而PTC材料的配方必须通过实验来确定,但掌握一些基本方法、原则对选取、调整、改进配方有一定帮助。 PTC料掺Sb、Mn量与室温电阻率关系。 经验公式:Sb=A+BMn A常数(相当于不掺Mn时最佳半导化掺Sb量) B常数(最佳半导化SbMn关系曲线斜率,1.31.8,6-3 PTC热敏电阻,57,半
25、导体陶瓷,a)根据工作温度确定Tc移动剂用量。 b) 确定BaTiO3用量。 c)根据工作电压及原料纯度确定AST用量(13mol),AST多,则晶粒细、耐压上升,但PTC特性不一定很好,原料愈纯,AST用量愈少。 d)不掺受主杂质,掺入不同量的施主杂质,绘出Mn0时的施主掺杂量与室温电阻率的关系,由此可确定最佳半导化点A。 e)根据对材料PTC性能和室温电阻率的要求,初步选择掺Mn量,并按经验公式估算施主杂质用量,作配方试验。或根据25初步选择施主掺杂量,按经验公式估算掺Mn量。 f)根据试验结果调整配方。一般配方应选择在U型曲线左半部。 25过高,Mn量,PTC特性 25过低,Mn量,PT
26、C特性 在经验公式中,若Mn较大,BMnA,SbBMn,则可直接从掺Mn量按一定锑锰比估算掺Sb量,选择配方步骤,6-3 PTC热敏电阻,58,半导体陶瓷,解:a)用Sr作移动剂,SrTiO3量为(12060)3.7at=16.2mol b) BaTiO3用量:10016.2=83.8 c) 耐压较高,故掺AST: 3 mol d) 采用Y作半导化剂,试验得A=0.2 mol,取B=1.5 e) 为使PTC特性较高,取掺Mn量为0.1 mol 掺Y的量为:0.2 mol1.50.1 mol=0.35 mol 则Y2O3量为:0.35/2=0.175 mol 故配方为:BaTiO(C2O4)24
27、H2O SrCO3 TiO2 AST Y2O3 Mn(NO3)2mol: 83.8 16.2 16.2 3 0.35 0.1 以上配方通过试验,若PTC特性较好,但25较高,可固定掺Mn量,调整Y量(或缩短1200处保温时间微调)或固定Y,调Mn。 若25较低而PTC性能欠佳,可固定掺Y量,增加Mn量,例:彩电消磁热敏电阻,耐压300V,max17,Tc60,试确定其配方,6-3 PTC热敏电阻,59,半导体陶瓷,1. 分类及性能 2. 表面型半导体陶瓷电容器 3. 晶界型半导体陶瓷电容器,6-4 半导体陶瓷电容器,60,半导体陶瓷,1. 分类及其性能,半导体陶瓷电容器按其结构、工艺可分为三类: 表面阻挡层型 表面还原再氧化型 晶界层型,6-4 半导体陶瓷电容器,61,半导体陶瓷,6-4 半导体陶瓷电容器,62
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