涂层与影像材料技术-201004

1、 2010年 第4 期 总第7期 双月刊 (内部资料 注意保管)主 编 郑文耀 责任编辑 王世卿 涂层与影像材料技术网格结构透明导电膜产品与技术分析1PET薄膜分析评价技术12溶胶-凝胶技术原理及其应用（二）24柯达公司热显影光热敏激光打印胶片41有机薄膜太阳能电池构造及基本技术62网格结构透明导电膜产品与技术分析1 有机类太阳能电池与所用透明导电膜现状有机类太阳能电池分为染料敏化太阳能电池与有机薄膜太阳能电池2种。此类电池的特点是在光吸收层 (光电转换层) 使用有机化合物，制造方式简单并且生产成本低，因为可以采用塑料基材而具有挠性特色，正在崛起。此类电池需要解决的问题是其转换效率与使用寿命过

2、低。当前，其发展潜力备受瞩目，以致近年来的开发竞争日趋激烈。染料敏化太阳能电池结构染料敏化太阳能电池基本结构包括2片透明电极、两电极之间夹着吸附了染料的TiO2层与电解质层。染料敏化电池所用基板按照软硬程度可分为刚性与柔性2大类；依材质分为玻璃、金属基板及塑料3大类。塑料基板由于质轻、价廉、耐冲击、具有良好的加工性，在大量生产并考虑成本时受到重视。图1 染料敏化太阳能电池结构有机薄膜电池结构 有机薄膜电池基本结构包括2片透明电极，两电极之间夹着印刷活性材料、透明薄膜基材以及保护电池片的护膜。图2 有机薄膜电池结构有机类电池所用透明导电膜从以上采用塑料基材的染料敏化太阳能电池与有机薄膜电池的结构

3、可以看出，透明电极是电池的重要组成部分。为了达到电池性能及工艺上的要求，透明电极需要具有低电阻、较高的光透率及化学稳定性，与此相适应的多种类型的透明导电膜也引起了业界的关注。 （1）ITO透明导电膜，其电阻值低于其他材料，所以成功应用于太阳能电池行业。 （2）复合式透明导电膜FTO/ITO、ATO/ITO、SnO2/ITO，此类导电膜结合了不同性能的TCO（transparent and conductive oxide），以多层结构彰显其优点并隐藏缺点。如FTO在导电性及穿透性表现上均远比ITO差，SnO2为掺杂基底的透明导电氧化物具有优异的热稳定及耐化学性，能够弥补ITO在此方面的不足。因

4、此可设计结合ITO在光电性能及SnO2为基底的透明导电氧化物在热稳定及耐化学性优点的新型产品。目前已有 FTO/ITO、ATO/ITO、SnO2/ITO等组合的双层复合式透明导电膜被报导，并成功地应用于染料敏化电池。 （3）含金属夹层的复合式透明导电膜TiO2/Ag/TiO2，此三明治结构引入高延展性的金属夹层，提高光透过率并降低电阻，并同时提高柔性，更可适用于塑料基材上。例如以Ag 金属薄膜与折射率高的氧化铟、氧化锡或二氧化钛等透明材料，制作成ZnO/Ag/ZnO、ITO/Ag/ITO透明导电薄膜，通过控制折射率及膜厚来降低反射率、提升可见光透过率及低电阻的要求。目前此类含金属夹层的复合式透

5、明导电膜多以溅镀工艺制作，因制造工艺复杂尚无量产产品出现。 （4）高分子透明导电膜，具有导电性的高分子材料种类繁多，如聚乙炔(Polyace-tylene)、聚苯胺(Polyaniline)、聚咇咯(Polypyrrole)、聚噻吩(Polythiophene)等，兼顾透明及高导电性的材料是聚噻吩系列中的聚(3,4-乙撑二氧噻吩)（ PEDOT）和水溶性高分子电介质聚苯乙烯磺酸（PSS）的水溶液。因为PEDOT具有良好的化学稳定性与高导电率，PSS的掺杂解决了PEDOT的不溶性问题。PEDOT：PSS膜具有较高的机械强度、可见光透过率与稳定性。PEDOT:PSS有机会取代昂贵的铂(Pt)，在染

6、料敏化太阳能电池中作为正极材料或在有机塑料太阳能电池中作为缓冲层。作为缓冲层的有机太阳能电池，或用作电极的染料敏化太阳能电池的效率都约在6%。 (5)兼备透明、导电性能的网格结构导电膜，不一定非要整面连续的透明导电材料才能制作透明导电膜，用不透明的高导电材料制作成网格构造后，也可达到看起来既透明又可导电的效果。另外，网格结构也不一定非要形成整齐的格状结构才能发挥透明导电的效果。2 网格结构透明导电膜工艺技术与产品目前，涉足网格结构透明导电膜开发的公司主要是日系厂商，主要包括富士胶片、大日本印刷、郡是、藤森工业与Peccell公司联手开发产品，美国科纳卡公司（Konar-ka）也开发网格结构的导

7、电膜产品。 各家公司采用的工艺路线不同，应用领域也不尽相同，其产品基本情况如下：富士胶片采用银盐法制备透明导电膜 以取代透明电极使用的ITO导电膜为目标，在PET薄膜设有银线图案与导电性材料，通过调整银线的粗细及图案改变薄膜电阻值。薄膜电阻值的范围为0.23000/，其中最小可实现0.2/的低值也是其一大特点。ITO导电膜电阻值很低的特殊产品也为20/左右，一般为80500/左右。在光透射率方面，可见光区域中可达到80以上，最大可达89。该导电膜实现了较高的可弯曲性，弯曲数次电阻值也不会发生改变。富士设想广泛用于液晶面板、PDP、触摸面板、使用无机EL的平面光源以及太阳能电池等用途。 大日本印

8、刷采用印刷方法制备透明导电膜 以取代透明电极使用的ITO导电膜为目标，导电性粒子使用Ag等，而非昂贵的In。其特点在于，不仅能够利用量产印刷法在任意部分形成图案，而且还可弯曲。公司通过筛选加工材料并改善加工工艺，实现了0.1/cm2的电阻值。还通过以数十m数mm的间隔设计网状部分，可屏蔽任意频率的电磁波。郡是采用印刷方法制备透明导电膜该薄膜采用印刷法降低制造成本，而且电阻值较低。 最大可在1300mm宽的卷对卷用薄膜基材上印刷。光透射率为78时，表面电阻值仅为0.5/，光透射率为88时，表面电阻值也只有1.6/。目前该薄膜用于大尺寸触摸屏，最大屏幕尺寸可达到52英寸。藤森工业与Peccell公

9、司联手以银盐法制备透明导电膜 该导电膜在常温、大气压条件下以银盐法（涂布）制作：采用卤化银在塑料薄膜上形成由较薄的银膜构成的布线图案，然后，通过电镀工艺在银膜上形成1m厚的镍膜或者铜膜。布线图案呈网状，宽30m，布线间隔为125m，透光率在75%以上，薄膜电阻为0.3/。其目标用途是染料敏化薄膜太阳能电池（DSSC）。而普通的DSSC常用的透明导电膜是ITO，其薄膜电阻为13/。相比而言，藤森研制的导电膜的电阻降到了原来ITO导电膜电阻的1/40。通过减小薄膜电阻能够减小因电阻因素造成的太阳能电池单元输出功率降低的问题。也就是说，即使增大面积也能抑制电池输出功率的降低。3 网格结构透明导电膜专

10、利与技术分析通过检索欧洲专利数据库、美国专利数据库、日本特许厅专利数据库、中国国家知识产权局专利数据库获知：从专利权人来看，主要包括富士胶片、柯尼卡美能达、藤森工业、三菱制纸、科纳卡公司。从网格结构的透明导电膜应用领域来看，主要包括电磁波屏蔽膜、透明电极、生热除冰霜薄膜等。从网格结构的透明导电膜的制备工艺来看，主要包括银盐法、印刷法、蚀刻法及其他方法。3.1富士胶片专利富士胶片专利申请见表1。表1 富士胶片专利申请一览表公开号公开日专利名称主要权利保护JP20042215642004-08-05Transparent electromagnetic wave shielding film an

11、d manufacturing method therefore.EMI膜与制备方法US2004229028同族专利：E11-18Method for producing light-transmitting electromagnetic wave-shielding film, light-transmitting electromagnetic wave-shielding film and plasma display panel using the shielding film.制备PDP用EMI膜的方法JP20060129352006-01-12Trans

12、parent electromagnetic wave shield film and method of manufacturing the same.EMI膜与制备方法US20060087452006-01-12Translucent electromagnetic shield film, producing method therefore and emulsifier.半透明EMI膜与制备方法WO2006088026同族专利：JP20062284692006-08-24Photosensitive material for electrically conductive film f

13、ormation, electromagnetic wave shielding film, and process for producing the same.EMI膜制备工艺WO2006098333同族专利：US20090784592006-09-21Transparent conductive film and method for producing the same.EMI膜所用电镀工艺以及EMI膜的制备JP2006336057 2006-12-14Method for producing electroconductive film, productive appara

14、tus therefore, translucent electromagnetic-wave shield and plasma display panel.半透EMI膜的制备方法JP20063392872006-12-14Method and device for manufacturing conduc-tive film, electromagnetic-wave shielding film and plasma display panel.制备EMI膜的方法与设备JP2006336090JP20063520732006-12-242006-12-28Plating liquid f

15、or depositing conductive film, conductive film, its manufacturing method, translucent electromagnetic wave shield film, and plasma display.Conductive pattern material, translucent conductive film, translucent electromagnetic wave shield film, optical filter, transparent conductive sheet, electrolumi

16、nescence ele-ment, and flat light source system.半透EMI膜制备用电镀液半透EMI膜WO2007034994同族专利：KR200800497552007-03-29Light-transmittable electromagnetic wave shielding film, process for producing light-transmittable electromagnetic wave shielding film, file for display panel, optical filter for display panel a

17、nd plasma display panel.PDP显示器用EMI膜JP20070921462007-04-12Plating treatment method, conductive film, and translucent electromagnetic wave shield film.电镀方法JP20070848862007-04-05Plating treatment method, electrically conductive film, translucent electromagnetic wave shielding film, and optical filter.电

18、镀方法JP20070882182007-04-05Manufacturing method of translucent electro-magnetic wave shielding film, translucent electromagnetic wave shielding film obtained thereby, display panel film, display panel optical filter and plasma display panel.半透EMI膜的制备方法等JP20071292052007-05-24Method of manufacturing con

19、ductive film and photosensitive material for manufacturing conductive film.半透EMI膜、电路板膜的制备方法JP20071344392007-05-31Roll-shaped optical filter, and method of manufacturing same.采用EMI膜与其他所制备的成卷的光学滤光片US20070269675同族专利：WO2007037545KR20080053322CN1012786072007-11-22Method for Producing Conductive Film and

20、Light-Sensitive Material for Conductive Film Production.EMI膜、印刷电路板膜制备方法WO20070778982007-07-12Conductive film and method for producing same, electromagnetic shielding film and method for producing same, and plasma display panel.PDP用EMI膜制备方法WO20070865232007-08-02Silver halide photosensitive material,

21、conductive metal film, translucent electro-magnetic wave shielding film, optical filter and plasma display panel.感光材料、导电金属层（膜），半透EMI膜与PDP用滤光片WO20070888962007-08-09Method for producing conductive film, light-transmitting electromagnetic shiel-ding film, optical filter and plasma display panel  .

22、PDP用EMI膜制备方法JP20072009222007-08-09Optical filter translucent electromagnetic wave shielding film of plasma display and optical filter.PDP显示器用半透电磁波屏蔽膜与光学滤光片JP20072013782007-08-09Translucent electromagnetic wave shielding film, optical filter, and plasma display panel.PDP显示器用半透电磁波屏蔽膜与光学滤光片JP2007197809

23、2007-08-09Plating treatment method,electrically con-ductive film, and translucent electro-magnetic wave shielding film.电镀液与电镀工艺JP20072008722007-08-09Conductive film, its manufacturing method, electromagnetic wave shield film, its manu-facturing method, and plasma display panel.主要保护EMI膜制备中的电镀工艺技术JP20

24、07207987 2007-08-16Translucent electromagnetic wave shielding film, optical filter and plasma display panel.PDP显示器用半透电磁波屏蔽膜与光学滤光片JP20072079102007-08-16Translucent electromagnetic wave shielding film, optical filter and plasma display panel.PDP显示器用半透电磁波屏蔽膜与光学滤光片JP20072262152007-09-06Silver halid

25、e photosensitive material, con-ductive metal film, translucent electro-magnetic wave shielding film, optical filter, and plasma display panel.专利保护感光材料、导电金属层（膜）、半透EMI膜、滤光片JP20072351152007-09-13Method of manufacturing conductive film, light-transmissive electromagnetic wave shield film, optical filter

26、, and plasma display panel.制备PDP显示器、滤光片以及EMI膜的方法EP1850649同族专利：KR20070106000WO20060880592007-10-31Light transmitting conductive film, light transmitting electromagnetic shield film, optical filter and method for manufacturing display filter. EMI膜与滤光片JP20081535962008-07-03Translucent electromagnetic-w

27、ave shielding film液晶显示器触摸面板用半透电磁波屏弊膜（细线条式）JP20081496812008-07-03Translucent conductive material可作表面电极（具有较低的表面电阻）的半透导电材料US2008211371同族专利：EP1781077  WO2006001461CN1010025192008-09-04Light-transmitting electromagnetic wave shielding film and process for producing the same.EMI膜JP20082518742008-10-1

28、6Silver halide photosensitive material, conductive film, and manufacturing method thereof.EMI膜以及感光材料的制备方法JP20082437262008-10-09Silver halide photosensitive material, conductive film, electromagnetic wave shield film, optical filter for plasma display panel, plasma display panel, and manufac-turing m

29、ethod of conductive film.PDP显示器用EMI膜制备所需的感光材料的制备以及EMI膜的制备WO2008123437同族专利：JP20082514172008-10-16Conductive film and method for producing the same.具有电磁波屏蔽功能的导电膜的制备方法US200801761732008-07-24Method for producing light-transmitting electromagnetic wave-shielding film, light- transmitting electromagnetic

30、wave-Shielding film and plasma display panel using the shielding film.EMI膜制备方法US20080230393同族专利：EP1975698US2008230393CN1012704932008-09-25Method and apparatus for producing conductive material.权利要求书保护导电膜的制备方法，但并未具体指出导电膜用于何处。从专利说明书中可以看出，专利中的导电膜是用具有电磁波屏蔽作用的膜产品。US200802929972008-11-27Method of developi

31、ng photosensitive material and method of producing conductive layer-attached film.专利保护带状（band-shaped）感光材料的显影方法、制备导电膜的方法。但说明书内容指出，可以用专利中的方法对线状（line-shaped）感光材料进行显影。EP2003946同族专利包括：WO2007114196KR200801040292008-12-17Conductive film, method for producing same, and light-transmitting electromagnetic shi

32、elding film.PDP显示器用EMI膜US200900116692009-01-08Method for producing light-transmitting electromagnetic wave-shielding film, light-transmitting electromagnetic wave shielding film and plasma display panel using the shielding film.PDP显示器用EMI膜的导电部分US20090017277同族专利：WO2006126739  CN101185143JP200633

33、24592009-01-15Photosensitive material, method of manufac-turing conductive metal film, conductive metal film and light-transmitting film shielding electromagnetic wave for plasma display panel.PDP显示器用EMI膜制备所需要的感光材料US200900207122009-01-22Plating processing method, light transmi-tting conductive film

34、and electromagnetic wave shielding film.EMI膜制备用电镀工艺US200900291252009-01-29Photosensitive material for forming conduc-tive film, conductive film, light transmi-tting electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing the same.制备EMI膜用感光材料、制备EMI的方法US200900653642009-03-12Plating method, li

35、ght-transmitting electri-cally conductive film and light-transmitting electromagnetic wave shield film.EMI膜、电镀工艺US200900784592009-03-26Light-transmitting conductive film and pro-cess for producing light-transmitting conductive film.US200900878002009-04-02Method and apparatus for producing conductive

36、 material.专利保护导电膜制备方法与设备。权利要求中没有指明具体的导电膜产品，但专利说明书明确表示，采用专利中的方法与设备可以用来制备EMI膜、触摸屏用透明电极等。US200900984812009-04-16Photosensitive material for forming conduc-tive film, conductive film, light transmi-tting electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing the same.EMI膜US200900984802009-04-1

37、6Photosensitive material for forming conduc-tive film, conductive film, light transmi-tting electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing the same.EMI膜US200900784592009-05-26Light-transmitting conductive film and pro-cess for producing light-transmitting conductive film.EMI膜US2009

38、01339222009-05-28Light transmitting conductive film, light transmitting wave shielding film, optical filter and method of producing display filter.EMI膜US200902681862009-10-29Pattern exposure method and pattern exposure apparatus.形成图案的曝光方法、设备US200902725602009-11-05Conductive film and method of produc

39、ing thereof.透明导电膜的制备方法。本专利权利要求书中没有明确导电膜的用途。但在专利说明书部分指出，本发明中的透明导电膜具有多种用途：EMI膜、还可用于液晶电视、等离子电视、有机EL、 太阳能电池、触控面板。JP2009-3020352009-12-24Conductive film and transparent heating element.能够生热、除冰霜的柔性薄膜。US20093249022009-12-31Conductive film-forming photosensitive mate-rial and conductive material.用于平面电极的透明导电

40、膜JP2010-0036672010-01-07Conductive film and transparent heating element.能够生热、除冰霜的柔性薄膜。JP2010-0160012010-01-21Transparent conductive substrate.染料敏化太阳能电池用网格导电膜CN1016470742010-02-10导电膜及其生产方法EMI膜、制造方法富士胶片网格导电膜专利技术分析：从富士公司申请的大约60件网格结构的透明导电膜专利来看，2009年以前及2009年的部分都是采用银盐法制作电磁波屏蔽膜（EMI）领域的专利。只有几件是涉及太阳能电池用透明导电膜

41、领域的专利。US2009324902涉及一种采用银盐法制备的平面电极。基材选择PET、PEN或者TAC。平面电极的产品结构分为2种：一种是基材上依次设置感光乳剂层、含有导电颗粒与胶体的混合层；另一种结构是感光乳剂层与含有导电颗粒与胶体的混合层分别位于基材的两侧。通过曝光、显影得到平面电极。导电层为网格结构。导电颗粒自SnO2、ZnO、TiO2、AL2O3、In2O3、MgO、BaO、MoO3中选择。3.2 柯尼卡美能达专利导电颗粒与胶体的质量比为1/331.5/1,导电颗粒的用量为0.050.9g/m2。平面电极的最小表面电阻为0.01/。JP2010-016001中用于染料敏化太阳能电池的透

42、明导电材料的主要结构包括：透明基材、透明导电层以及金属引线（metal lead）。透明导电层厚度为0.0210m,材质为透明金属薄膜、碳材薄膜或者导电金属氧化物薄膜。通过矫正平面内同一方向的引线使得金属引线互相平行，或者通过交叉、矫正平面内多数方向的引线使得引线呈网格形状。金属引线材料可选择铝、铜、银、金、铂金、铬、镍。相邻引线间距（pitch）为0.115mm，透明区域的孔径比为5099%，表面电阻为0.115ohm。表2 柯尼卡美能达专利申请一览表公开号公开日专利名称主要权利保护JP20082678142008-11-06Translucent conductive thin film,

43、 and its inspection method and inspection apparatus银盐法制备半透导电膜，金属网格的细线宽度为0.530m。JP20083007202008-12-11Light transmissive conductive film and electromagnetic wave shielding filter透明导电膜与滤光片JP20082884192008-11-27Photosensitive material for transparent conductive film formation, transparent conductive fi

44、lm using it, its manufac-turing method and electromagnetic shiel-ding material.透明导电膜用感光材料，透明导电膜为EMI膜。JP20082828402008-11-20Forming method of translucent conductive thin film, forming apparatus thereof and translucent conductive thin film obtained by the apparatus制备半透导电膜的方法与设备JP20082776752008-11-13Tr

45、anslucent conductive pattern material, electromagnetic wave shielding filter and frequency selective electromagnetic wave shielding film半透电磁波屏蔽膜JP20082678142008-11-06Translucent conductive thin film, and its inspection method and inspection apparatus以银盐法制备的半透导电膜的检测方法与检测仪器。JP20082440672008-10-09Photo

46、sensitive material for forming tran-sparent conductive film, transparent conductive film and its forming method, electromagnetic wave shielding material.制备透明导电膜用感光材料，导电膜为EMI膜。JP2009-1466782009-02-07Transparent conductive film and its manufacturing method透明导电层中加入防泳移剂防止金属例子游移JP2009-0646542009-03-26For

47、ming method of translucent conductive thin film制备半透导电膜的方法JP2009-0690452009-04-02Translucent conductive membrane and its inspection method半透导电膜、检测JP2009-0811042009-04-16Transparent conductive film由基材、金属网格层、导电高子层构成的导电膜JP2009-0881042009-04-23Method of manufacturing electromagnetic wave shielding film,

48、and the electro-magnetic wave shielding film.EMI膜、制备方法JP2009-1172772009-05-28Translucent conductive thin film, its manufacturing method, and transparent electromagnetic wave shielding film.半透EMI膜、制备方法JP2009-1172772009-05-28Translucent conductive thin film, its manufacturing method, and transparent e

49、lectromagnetic wave shielding film,半透EMI膜、制备方法Jp2009-1296072009-06-11Electrode, transparent conductive film, and method of manufacturing film,透明电极、制备方法：涉及一种由基材、网格导电层构成的透明电极。构成网格的材料可以是金属细线、碳纳米材料细线或者导电高分子。细线直径0.1200nm，细线表面密度为11000片/m2。JP2009-1407502009-06-25Transparent conductive film大面积范围内电极的导电性能也不会降

50、低，采用油墨形成金属网格。导电膜透明部分由金属网格构成，半透部分由透明树脂构成。Jp2009-1407882009-06-25Conductive material, inkjet ink and tran-sparent conductive film using the same导电材料，喷墨与透明导电膜。采用油墨形成导电金属网格。JP2009-1466782009-07-02Transparent conductive film and its manu-facturing method导电层加入防泳移剂防止金属离子游移JP2009-1466402009-07-02Method for

51、manufacturing conductive mate-rial, transparent conductive film, and organic electroluminescent device.透明导电膜、有机电致发光器件JP2009-2311942009-10-08Transparent conductive film, organic elec-troluminsscent element, and manufac-turing method of transparent conduc-tive film.透明导电膜、有机电致发光器件。导电层含有金属网格，导电层含有导电聚合物或

52、者金属氧化物。JP2009-2524932009-10-29Transparent conductive film, method of manufacturing the same, and organic elec-troluminescent device.透明导电膜及有机电致发光器件JP2009-2774662009-11-26Transparent conductive film and its manu- facturing method大面积范围内实现均匀阻抗。导电网格由导电纤维构成。柯尼卡美能达网格结构的导电膜专利大部分都是采用银盐法进行制备的，有透明、半透之分，导电层成分有金

53、属网格，也有聚合物网格。该公司也申请了采用印刷法制备网格结构导电膜的专利。（1）JP2009-146678中的透明导电膜由基材与由金属纳米细线构成网格结构的导电层构成，导电层中加入了防泳移剂，金属离子与防泳移剂结合从而防止其游离。导电膜的制备工艺并不受限制，可以采用多种涂布法或者印刷法。金属纳米细线的直径为30180nm。防泳移剂可以选择苯并三唑类、三嗪类或者isocyanuric类物质。防泳移剂结构如化学式（1）（12）所示。（2）JP2009-140750专利中的透明导电膜用于大面积的柔性电极，在整个面积范围内不存在导电性能暂时下降或者消失的现象。采用的措施是为了提高导电性能，在基材上同时

54、采用导电膜层与金属网格结构的复合导电方式，导电膜层的导电成分为导电高分子。金属网格可以采用银盐法或者印刷法，在金属网格形成后，以液体排出装置（喷墨）排出树脂形成半透的导电高分子。（3）Jp2009-140788专利采用导电油墨在透明的柔性基材上制备透明导电膜，应用领域广泛，包括电子显示、太阳能电池、电子纸等等。导电膜金属纤维长轴方向直径为230m，短轴方向直径为60300nm。为了使含有金属颗粒的油墨同时兼容良好的分散性能与导电性能，设定油墨中金属颗粒与胶体的质量比为7:12:1。金属纤维的成分可以从金、铂金、银、钯、铑、铱、钌、锇、铁、钴、铜、锡中选择。3.3 藤森工业专利 藤森工业专利见表

55、3。表3 藤森工业专利一览表公开号公开日专利名称主要权利保护JP2007-1158802007-05-10Electromagnetic wave shielding material and manufac-turing method thereofEMI膜JP2007-1158812007-05-10Electromagnetic wave shielding material and manufac-turing method thereofEMI膜JP2007-1158822007-05-10Electromagnetic wave shielding material and manufac-turing method thereofEMI膜CN1003460032007-10-31电磁波屏蔽材料及其制造方法EMI膜JP2008-2774282008-11-13Electromagnetic shielding material and display panelEMI膜JP2010-00396