电镀培训教材及操作手册

1、一塑月蓼及金辛、铜合金H艘培前I教材及操作手册POP and Metal Plating Training Courseand Process Operating ManualPresented By:MacDermid Greater China台湾爰特化擘工H （股）公司爰德美（番禺）精余田化工有限公司ft技秫亍培制I及檄隼操作手册目 金荥1.前虑理、素材、塑月蓼典鹰力Pretreatment, substrates and stress of plastics2.的目的典原理Plating theory and purpose3.腐食虫械情及防食虫Corrosion mechanism

2、and prevention4.拉卜具Rack5.般逋典存Transport and storage6.通JM典排氟Ventilation and exhaust7.IS拌Agitation8.水洗，水水Rinse, DI water and water quality9.Filtration10.大宗物料蕖液衲充，自勤加蕖械Bulk replenishing and A/H dosing11.提弱18解，移槽，活性碳虑理Purification, dummy and carbon treatment12.加热，冷被温控Heating, cooling and temp, control13.

3、哈氏槽(Hull Cell)副Hull cell test14.前虑理槽液日常雉管理及添加膂肝甫充Daily maintenance of pretreatment15.各1a8槽液日常雉管理及添加膂肝甫充Daily maintenance of plating bath16.各槿金隔趣Anodes17.隔趣袋，滤袋，滤心，谩滤材的漂洗典使用Anode bag, filter cartridge18.隆流排及厚18Bus bar and Conductivity19.不良品的判定典排除Identify and judgement of reject parts20.故障排除的原JWTroubl

4、eshooting前虑理、素材、塑醪典鹰力(一)脱脂剜的作用1.漏灌I (Wetting):所含之表面活性膏1能符油污典工件之然精(soil - surface bond ),漏能(wet-out)及 弛(loosens).2.乳化(Emulsification):招不相溶之油水乳化，影簪乳化效果因素后(一)油污的程璞S及所含表面 活性剜的不 (二)槽液之pH,温度，滤度.3.皂化(Saponfication):招脂肪酸油污於酸中，中和建成水溶性的皂，此油污有植物油，S&物油及 碱物油.4.溶解(Solubilization):相似者互溶(Like dissolves like),由於表面活性

5、剜之存在使得油污得以被 乳化，溶解.5.置换(Displacement):油污系区髭弛彳爰被逐撵性表面活性剜取代，油污刖可由油污分雕器去除.6.械械作用(Mechanical action):如空St,超首波，霜解，槽液脉S&,工作件JSS&.等可以促迤脱 脂效果.7.隔离隹(Sequestration):悬连到有效的脱脂及水洗效果，水U必需软化虑理，硬水中含有二的Ca, Mg, Fell子等必需被complexed以防止不溶性!(粒生，事上，好 的水11比好的表面活性剜耐0遢重要.(一)如何决je工件表面清?8度 (Determining clean surface)1.破水油瞬(Water

6、 break-free surface)2.白毛巾油瞬(White towel test)3.照陆耨翕(Tape pull test):以Scotch防在工件上月蓼合彳爰撕起再黏在乾浮的面纸上.4.紫外在fflU (UV detection):於紫外光下迤行，清?黑度是由光7B折射(photoelectron emission) 原理值测，越高的折射度即越清澈.(三)油污及素材的检测(Soil and substrate audit)1.首先需完全了解工件上之油污有哪些，一般大多悬：油污，垢，油演，金屑，抽伸油，冲 屋和研磨油2.一但分析工件油污彳爰,即退撵一逾常脱脂剜,碓定逾用彳爰,任何其他

7、油污即要避免在工件上出 电3.油污可分悬有械:.有#HB:油,抑制剜,mill oil,润滑帆延伸化合物之,此畤需用性脱脂剜.,: B,黑垢，熟虑理残渣,廛埃，适些皆可以酸脱脂剜去除.(四)素材(ABS)(1) J#力(Stress)1 .工件肉身厚者，易致彦生非均II化之冷谷W8力，缩收建建形。2 . 力皆来自於射出畤冷郤速度太快所致。3 .分子排列(Orientation)11r降低耐录隔隹性(Peeling)。4 .鹰力大曾醇致UIS密著性差，熟循就不谩。5 . 60 c热烘烤可去除余勺15-30%)力。6 .在低温畤塑月蓼奥金之鹰力持生辰中，因塑月蓼之热膨胀系数大於金JB6-71X而低

8、於40c畤，曾致罪裂，起泡，录情隹之危陂。(2)塑月蓼典射出1 .伸?(08力(Tensile Strength)根氏系数(Young s modu蜥雎翳搔度(Impact Strength秋定塑月毅8 之品18。2 .射出模必须打光至面，瓢金十孔。3 . ABS塑月蓼於20c 65%RH僚件下存二遇刖曾吸附0.2%水氯，此畤需於70-80C烘乾2小冷4 .射出畤能滑膏I宜避免使用，Molybdenum Disulphide或Graphite可降低于染，脱模膏I如要用必 需用非Silicones(3)鹰力测言式1. 冰醋酸浸泡(ASTM-D 1039-62T)30秒，水洗，乾燥然接梅T查如有白

9、色者即有力，冰醋酸中 不可含有水份。2. 3份n-propanol： 1份tdnene, V/V ,浸泡3分然彳爰水洗，吹乾，如有J8力即建成白色。3. Methanol (甲醇)工件浸泡至的 Methanol 35c/35分然接取出吹乾，建白色K即gQS力H。二、甯的目的典原理（一）的目的1.赋予美K金、K金、金艮、Rh、Cr、黄铜、塑月2.防ISft Zn, Cd, Zn / Ni, Zn / Fe 合金，Ni, Cr 3.耐磨耗硬Cr, ENi,氮化熟真空4.提高裂品醇ft度甯子部品 Ag, Au , Rh, Pd, Pd / Ni.5.提高裂品润滑性金艮、金易、6.提高裂品强度塑月戮f

10、t品7.提高裂品耐熟,耐候性金目上IS金8.浸炭防止，氮化防止痴9.防18磁波干SINB,手榔数位相械10.提供路及醇HTAB, PCB, Lead Frame（二）重皮膜的必要修件1.密著性则,塑月蓼金JB化，金目材典,金卒合金2.切一重著性厚度分怖性,均匀性3.内力大畤,裂，录陶1,燮形等，主要卷析结 品的生H谩程或H2或雅11的共析、吸著、吸藏等所引起.4.厚度足别厚度以连fftK目的5.延展性耐外力彳蓟擎6.性 a a殖1裂，颊孔7.耐食虫性提升工件11命典值8.平整性使则平整、光滑9.光洛瓢金十孔提高耐食虫及外觐10.密缸美u便美化及值提升（三）影警品的it修件1.重流密度遇大致燎焦

11、，谩小速度慢，不均一2.液温增大UIS速度，则特性最僵化3.St拌提高均一重著性，减低鹰t力4.整流器、ft流波形三相全波敕悬逾用5.RIS减少污染，增迤厚度分布性，则特性碓保6.pH影簪11趣H2的彝生，影簪则的硬度和JS力及金十孔，故浴 中街要足.7.槽液滤度影簪浴厚1a8 ,厚度分怖,H2彝生量8.遇滤信舒系浴瀑浮度，粗糙9.?0面稹比雉持浴中金JB渡度平衡，使件品11最僵化.10.?IW距离隹厚度分怖均一，使件品11最僵化.11.添加剜附著於11趣,使金吸出的趣化增大，使其结晶趣系田化，平 滑化，光涕，均一重著性良好，故鹰雉持於襟型值内.12.表面5M力基本上越小越好， 40 dyne

12、 / cm ,可在除趣表面漏能性良 好，可防止11趣彝生的H2附著加全生金十孔.13.不物致密著不良，粗操，共析生僚痕和脆化.（四）甯I8的原理1.招金his在工件上2.透谩不同槽液,整流器，配合挂卜具，谩滤，？趣18流排,隔趣，以18化孥的原理符隔趣金氧化成金高隹子溶於槽液中再之遢原1g金高隹子於工件表面上而连到fftK目的 .M - M n + ne IW趣M +n + ne - M HpKPage 9 of 35四、挂卜具1 .典工件醇H之接黑占可用熟，但不建S!使用因醇ft性太差，於高18流操作畤恐曾谩熟。2 .典工件醇H之接黑占必需是圄柱状之遏角或似金十状之接黑占才能满足醇性良好要求

13、。3 .新挂卜具使用前需於粗化液中浸泡 5-10分此畤披覆月蓼中之Solvent即被氧化。4 .不得使用强酸录陶隹挂卜具，因曾破揖及减短挂卜具毒命。5 .挂卜具如有破揖，K花，因曾吸附蕖液而污染其他槽故需禁止使用。6 .典工件接黑占必i（於中高18流霓，每距雕 20公分需有一接黑占。7 .挂卜具主醴宜探用铜材，其厚重率悬155A/cm2。五、搬建典储存1 .必存於瓢廛埃琪境下，因可能致带SH8荷之廛埃附著於工件表面致表面污染，UIS制程中 很I8去除造成粗糙，品不良。2 .逾常包装或高隹隔光。3 .速高隹化孥蕖品或化4 .包装材料不得有可塑膏I （Plasticisers）,否同ij# mig

14、rate至ABS塑件中。5 .避免碰撞、刮像、重屋、重叠。1a8前必i（品检剔除。六、通凰典排条：1.排放襟型槽液物 最大可容值粗化CrO3一，, 30.1 mg/mH2SO4，一 31.0 mg/m中和 活化 加速HCl7 mg/m3化Ni MistNi Aerosol一一 30.5 mg/m酸铜H2SO4 Mist1.0 mg/m3Ni MistNi Aerosol一一 30.5 mg/mCrO30.1 mg/m3氟化铜HCN Mist一，, 30.1 mg/m2 .酸氟、氟化物、络酸氟必需分K排氧，以避免1!生Hydrogen Cyanide gas。3 .氨氟典氯氟亦需分K排氧，以避免

15、1!生Ammonium Chloride（氯化）,此余田白色物是造成羽女戌 毛状汗II且很I8排除。4 .槽液H氧（Mists）和氟H （Gases）3同畤含有水氟及槽液成分之 0.550 m水滴。5 .水蒸汽刖只含有水份子0.01 m水滴。6 .每遇一次排放凰管排放口之水氟，以避免回流至虑理槽或污染。七、蕖液攒拌1.必需碓保授拌空氟的品不得有油汗，廛埃，或其他任何桀液氯H。2.每遇清?黑2次械房及鼓每2天更换滤心、滤布。3.每遇2次梅T1I出凰口之空氧品以1麻 棉10g材置於出凰口三通虑，符滤布封住凰口 atll普凡而5分18彳爰检查白色滤布有瓢油汗、廛埃、黑灰*111等。如不澈必需即刻停止

16、 使用直至碓保乾浮至乳力可使用。4.空氟授拌之使用必需典配置有效之谩滤系於t用，否JW曾授起槽底残渣、隔趣渣及泡沫。5.授拌管每4-6in需ft一空兼孔，孔彳笃H 3/321/8in,孔彳生太小易被堵塞，太大致空SOS拌 不均匀。6.授拌首重均匀，每一四S拌管房需1-2（fm）之空氧量，各於左右45。角HI1可下48孔。7.於槽液之上余勺1英时一小孔，以防虹吸（Siphon）。八、水洗水K、触水1.最常见之隔离隹子焉Ca, Mg,此焉硬水，除去此即禹软水。2.常用於加热情况畤必需除去矽 Silica（SiO2）,因加热彳爰曾形成典Ca, Mg相同之水垢且很 汉除。3.r fas液需殿防有械物污

17、染及菌励於槽中生n。4.如欲梅有械物污染致重HM、良畴；取5L水使其加热蒸彝至300cc,以此300cc及原水各配裂Hull Cell副M如厢?片椒I施品H曲及此水即合格。（二）水洗水及DI水品IBM轮工 序项目水洗水M 水1PH6.5-8.06.5-8.02TDS余恩固形物20ppm3ppm3有械物（依氧之消耗量）2ppm0.5ppm4C氯高隹子5ppm1ppm5醇重度30（js/cm5 ps/cm6比 18阻（Specific Resistance0.12-0.03MQ2 MQ7硬度（as CaCQ）30ppm5ppm8金戴0.3ppm CrO3溶解彳爰祷充之。2 .先祷充络酸彳爰再祷充H

18、2SO4,祷充畤需H兽排氟於液授拌下徐徐加入。中和1 .於槽液JSS&下徐徐加入9339。2 .只能於排氟改勤及蕖液授拌下徐徐加入HCl o活化金巴1.於槽液授勤下徐徐加入D-34,祷充HCl畤需H改排氟。加速1.於外JS拌槽（桶）溶解彳爰衲充 9369。化1 .依分析未甫充J-61, J-64不足量。2 .保持高隹子浸度Activity90%以上。3 . J-61, J-64必须以建浴量之10%以内逐次添加。4 .祷充畤需打H谩滤械以均匀循璟蕖液。5 .衲充畤需打K排氧。6 .祷充氨水畤需戴口罩，呼吸道需至少速高隹氨水50公分速。酸活化1.於外授拌槽（桶）溶解 M -689彳触胡挪甫充至剑f

19、58浸铜1 .於外JS拌槽（桶）溶解 CuSO4彳爰谩滤祷充至槽2.於槽液授勤下衲充H2SO4,打H谩滤械。打底铜1 .於外JS拌槽（桶）溶解 CuSO4彳爰谩滤祷充至槽2 .於槽液授勤下衲充H2SO4,打H谩滤械。3 .衲充H2SO4需速高隹隔趣袋至少20公分。硫酸铜同上酸活化1.於外授拌槽（桶）溶解 M -3107彳爰谩滤祷充至槽半光 全光 局硫 微孔1 .於外JS拌槽（桶）溶解 NiSO4, NiCl2, H3BO3彳爰谩滤械未甫充至槽。2 .谩滤械内需有6只活性碳滤芯。3 .衲充完彳爰随即作弱18解谩夜。4 .以20%H2SO4湖整PH畤需速离隹隔趣袋至少20公分。路55浸槽1 .於外

20、授拌槽（桶）溶解 CrO3彳爰加入。2 .祷充彳爰需以空菊9S拌授勤槽液使之均匀或打H谩滤械循碟。槽别神充方法氟化铜1 .於外JS拌槽（桶）溶解 CN, CuCN彳爰谩滤充至槽2 .於槽液授勤下祷充稀释彳爰之添加剜，打H谩滤械。焦磷酸铜1 .於外授拌槽（桶）溶解焦金焦铜彳爰谩渡祷充至槽2 .於槽液授勤下祷充稀释彳爰之添加剜，打H谩滤械3 .祷充氨水畤需戴口罩，呼吸道需至少速高隹氨水 50公分速。（三）自勤加蕖檄打底铜CuMac 9200 Part B光涕( P2021 )200 ml/1000A.H酸铜CuMac 9200 A LevelerCuMac 9200 B Brightener平整(

21、 P2020 )光涕( P2021 )80 ml/1000A.H80 ml/1000A.H半光NiMac S.F LevellerNiMac S.F Maint.NiMac S.F Duct.平整剜(18144 )衲允蹩1( 18192 )延展剜(18159 )150 ml/1000A.H170 ml/1000A.H80 ml/1000A.H全光NiMac Challenger plusNiMac #33光涕剜(78180 )柔软剜(18133 )250 ml/1000A.H80 ml/1000A.H微孔NiMac Hypore XL Dispersant分散剜(78139 )125 ml/1

22、000A.H挂卜具录陶隹Metex SS-10BMetex SS-10C(13618)(13619)350 ml/1000A.H1,500 ml/1000A.H氟化铜Metex S-1Metex S-3半光涕剜（16501）全光才WW （16561）504 ml/1000A.H126 ml/1000A.H焦磷酸铜PyroMac Brightener Ammonia光涕 ft!(IP86695)平整(IP86694)170-250 ml/1000A.H0.06ml/1 hr注：用於打底畤S-3通常不加，只加S-1即可。（一）加SO!之校正1.每遇需校正乙次。2.校正畤以量筒测就准碓度，有靛差畤湖

23、整之群饰己金冤3.每日梅T查加!1桶1次，检查加H焉逵有瓢作勤，加!管有瓢深入至液而下20公分以上，加蕖桶内H液有瓢1/3液位，加!管内有瓢空氟或结晶物U堵塞。4.每日榜而己金录安培小畤言十之耗ft量典所加之!液量是否一致或正碓。5.每遇至少清澈加10s系统、管、桶槽 1次。Page 12 0f 35十一、提触，弱甯解，移槽，活性碳虑理 （一）定H提彳系槽液久使用工件迤出槽及遇遭琪境等可能致之污染而予以定期除去有械、 之虞理。弱重解彳系提6方法之一。彳系符槽液中金腐亲隹11以ft化孥方式聘之除去，同畤也可除去部 分有#SW,此篇最健康、趣肩效之物理提也是日常保餐之一。移槽彳系因提淅!要之勤作，

24、其有言多注意事迹求（参下f?）。活性碳虑理以活性碳吸附有械、瓢#Sill而连化槽液，亦焉趣有效低成本之日常槽液雉 保餐各殿重汗染畤之后效虑理方法。（二）不触物之槿II1.可分焉溶解性和非溶解性（Insoluble）。2.溶解性大多焉物（通常焉金）及有械物，多焉 Fe,Zn,Cu,Cr,Pb,Al,Ca及P之亶Wo3.CaSO4之溶解度因浴温昇高而下降,故可於敕高浴温下滤除之。Fe JW易於PH 5.0建成Ferric hydroxide沈7殿滤除，因符Ferrous iron氧化成Ferric iron。Al及P可於PH5畤沈:殿滤除。 Zn,Cu刖需敕高PH5, 6以上沈SHg除，但也同畤稍

25、稍失去一些Ni高隹子。Cr+6JW不易去除， 但可加入 Sodium bisulfite, Sodium thiosulfate 或 H2O2符之遢原成敕瓢害之 Cr+3,止匕 Cr+311r 典Fe同畤於PH4, 5沈SHg除之。4.有械物大多来自前虑理，挂卜具月肌槽管路遇遏，滤心，滤布，陶趣袋及不常使用添加 剜或因整流器不良或温度谩高或1S流;e大所致添加剜分解。5.廛埃，水中熟浮物，菌等也可致H师生殿重不良。6.氟化铜浴须定期活性碳虑理有械污染. 焦铜浴i（定期弱18解去除金JB污染.（三）提触方式1.WH（Simple Filtration）,滤心，滤袋之曾罩遇渡。2.活性碳煦图Jt同

26、步（Activated Carbon and Filtration）,测JMt中置活性碳或活性碳滤心行逋 循碟谩滤。3.昇 PH,昇温，氧化遇滤(Raising PH, Oxidation and Filtration)4.弱ft解虑理（Dummy）於趣弱小H流下以ft化孥方式招亲隹11去除。（四）II液添加1.在上述任何一槿提彳爰皆需*光剜、柔软剜、平整剜、建浴剜、漏润剜等之含量3m整 02.大宗物料如硫酸铜、硫酸硼酸，焦铜，焦金硫酸等需於提之前即添加。（二）提触方法典程式次序方式虑理畤械方法逾用槽液1国亶循每日，日常保*1 .可典活性碳及助剜或用。2 .先使助剜披覆於滤心彳爰再加入活性碳使

27、其披 覆於助膏UW之上。3 .0.12g活性碳/L/遇 谩滤量依槽液不同而不同，一MH 4 - 8TO058浸铜 半光 全光 高硫 氟化铜 焦磷酸铜分批式定期保餐，M 常敕大量!（粒 亲隹11污染1 .符槽液泉至已清瀑之!Sfi!槽。2 .清澈除、隔趣18流排。3 .检查隔趣袋，破tg者替换之。4 .以水管冲洗隔趣。5 . /、可於槽内冲洗隔趣泥。6 .以2%H2SO4清洗槽醴、管路。7 .再以5 % NaoH清洗槽H、管路。8 .符槽液加温至操作温度之上，再以谩滤械配 合活性碳谩滤至更乾浮之槽。58浸铜 打底铜 酸铜半光 全光 高硫 氟化铜焦磷酸铜2活性碳移槽巽常、日常、 定期保U1.符槽液

28、昇温60-66C（Ni）3i宗至已清澈之58 借槽。2.加入活性碳2.5-5g/L活性碳301拌3hrs。3 .加入2.5g/L谩滤助膏I, JS拌之。4 .使之沈7殿4 hrs。5 .重褪分批式之2, 3, 4, 5, 6。6 .谩渡至已清澈之槽。7 .湖整温度，PH,碓吉忍浴黜成添加剜量。打底铜 酸铜半光 全光 高硫 氟化铜焦磷酸铜3昇高PH,昇 温，氧化谩 滤1.需以碳酸昇PH至4.8,温度60-66C 02 .需亚用分批式虑理。3 .氧化虑理需用H2O2或KMmO4,它就播Fe自Ferrous氧化 Ferric。4 . KMmO4封有械物之破壤力 H2O2但也易破壤其他有效的添 加膏1

29、,故事先於Lab中行燎杯制1翕。半光 全光 高硫 打底魄 氟化铜焦磷酸铜H2O2虑理季年 度保 鬟， 昇常 畤虑 理1.昇浴温至60-66 Cjt泉至清澈55借槽。2.於JS拌下加入30% H2O2 3ml/L 30!拌至少30分。3.以碳酸湖整PH至4.8-5.0余勺需2.5g/L。4.加入所需活性碳余勺2.5-5g/L 301拌至少1hr.5 .加入2.5g/L谩滤助?拌30分6 .使其沈降或保持66-68C谩夜以去除多绘之H2O2。7 .泉至已清澈之槽。8 .湖整黜成、PH、添加膏1,以Hull Cell确忍照ig彳爰即口重18。半光 全光 高硫 打底魄 氟化铜焦磷酸铜Page 14 o

30、f 35次序方式虑理畤械方法逾用槽液3昇高PH,昇 温，氧化谩 滤KMm0# 理季年 度保 鬟， 昇常 畤虑 理1 .昇浴温至60-66 Cjt泉至清澈55借槽。2 .以热水溶解所需之KMmO4徐徐加入3t 授拌30分。3 .加入所需活性碳的2.5-5 g/L30S拌至少 3hr。4 .加入2.5g/L谩滤助?拌30分5 .使其沈降24小畤。6 .泉至已清澈之槽。7 .湖整黜成、PH、添加膏1, 或以Hull Cell 碓百忍媒彳爰即口半光 全光 高硫 打底魄 氟化铜焦磷酸铜4弱重解1 .主要商去除槽中之 Cu, Zn , Pb, Fe, Sn ,Al2 .置除趣弱ft解板放槽中。此板可用材波

31、浪形或状 以增大除撷向稹3 .此板使用前需脱脂、水洗、酸浸水洗彳爰方可置入槽4 .先H兽2ASD重流3分再降至0.2-0.5A/dm2之所需重流， 畤取出查看，吟有姬M析出。5 .弱ft解畤需施以微授拌或H兽循璟泵。6 .如需去除大量ZnSM畤可加1ml/l, 30% H2O2可受有效的去 除Zn。逾用於所 有金n m槽十二、加热，冷郤，温控加热1 .殿防局部谩熟，空氟授拌，谩滤械槽液服勤必需能授拌到加热器2 .五熟管、石英加热需外勰一安全保管以防典槽壁碰斶谩热软化甚至燃燎，# 定期检测是否漏H。冷郤1 .需配合良好的授拌，以碓保液温均匀T2 .定期检测冷郤水管有瓢破揖,以免污染液温控1 .余

32、圣常彝？除槽温和温度表St示不符致甚至影簪faK品H2 .每日至少一次温度校正3 .每遇检查路，Senso惟S表是否正常、槽材料毓脱脂粗化中和活化金巴加速化酸铜络熟水洗加热 冷郤石英 不哪同PVDF管 熟管TeflonTeflonTeflon石英TeflonTeflon石英PVDF Teflon石英不哪同 石英、槽 材/、氟化铜浴焦磷酸铜浴加热 冷郤不哪同石英 熟管十三、哈氏槽(Hull Cell)(一)制程操作修件及igJW表觐操作管控修件PJ百平估破唇特性槽液黜成则黜成，度醇世卜t及PH值厚度分怖性温度平整性，光涕度雷流(ASD)性,弓金勒度M(V)晶格大小(Grain Size)(二)各

33、槿言式槽之功能1除趣片折tf (Bent Cathode Cells)觐察抛覆力和低ft流匾faK品H2哈氏槽(Hull Cell)ft流分怖及则外觐3除趣 Slot(Slot Cell)觐察莱液醇甯穿透及抛覆力，厚度分怖易成 遮蔽畤之依at和参政4哈林槽(Haring-Blum Cell)抛覆率(三)哈氏片之清澈禹了得到襟准可靠之结果，迤而以此结果常成湖校添加剜，段定ft流大小，故障排除，黜成湖 整，槽液汗染情形，操作修件之湖逾等，故片之前虑理趣篇重要。1熟脱脂液中浸泡至少3分，60C, 就片授勤S-1702 80g/L ; Colec KW 80g/L ; T-103 80g/L2水洗23

34、ft解脱脂EN-1751 70g/L ; E-345 70g/L 60C ,1 分4水洗25活化M-629 60 g/L,室温，30 秒6水洗271 .符就液置入Hull Cell槽中。2 .符所需隔趣置入Cell中。3 .湖整槽液温度，PH, JS拌。4 .置入已清澈之除就片，碓保厚ft良好。5 .於所需畤IW,霜流卜霜。6 .如必需要可重褪此就瞬以湖校添加剜或黜成。打底铜22-24C ,空氟授拌，1A/5分硫酸铜22-24C ,空氟授拌，2A/10分半光55C, 2A/10 分,空氟JS拌，PH 3.6-3.8光涕剜55C, 2A/10 分,空氟JS拌，PH 4.3-4.5高硫55C, 2

35、A/10 分,空氟JS拌，PH 2.2-3.0微孔55C, 2A/10 分,空氟JS拌，PH 4.0-4.2络38-40C , 5A/3分,瓢空氟JS拌氧化铜60-70oC,不需空氟揽拌2A/5分焦磷酸铜50-60C,空IB1拌，2A/5 分十四、前虑理各槽日常管理和祷充脱脂1去除油汗、廛埃、手指痕、射出之脱膜剜、研磨土 .2每日分析1次，工作了畤槽外溶解彳爰再祷充。3S-1702(10192) 60g/L, 55-60 C , 3-5 分EN-1751(10351) 60g/L, 55-60C , 3-5 分43(0月/更槽粗化1符塑月蓼表面自疏水性(Hydrophobic)樽换成貌水性(H

36、ydrophilic)。2生微小腐食虫孔提供了奥金结功能(Bonding Functions)。3控制Cr+310-15 g/L以防ABS遇度咬食虫。4其彳爰水洗必需做底能自深凹孔虑水洗乾浮，否JW粗化液溢出即姓生跳5Cr+3曾因粗化之迤行而逐渐昇高，Cr+3太高曾减弱粗化能力，故需行H解再生。6粗化1r咬食虫溶解所有物口 TiO2,故1r屯稹於槽中致工件架面粗糙，Stardusting 不良。7故需安装水洗加装2道喷水洗。8粗化液中之CrO3力$ Butadiene自ABS Matrix中之IBS氧化而腐食虫出孔，此畤Nitrile JW被水解。9餐看曹因粗化咬食虫太弓毒太久用衰减燮差。10

37、於皎局58力IM Etching敕快，具敕均化(Homogeneous StresSj力K刖可得敕均 匀之咬食虫。11使用4&内勰畤，常粗化液高速流勤显其所形成的络酸硫酸4&膜曾被洗去，余勺 11rli 薄 1(im /年。12被洗去之膜1r沈稹於ABS工件表面而致未咬食虫之亮Si,或彳爰粗糙。13使用熟材内勰，焊接品11至篇重要，否JW曾因随彳爰之熟致揖，故需用以金嗝安定之熟材(Pd Stabilised Ti)Page 17 0f 35粗化14配槽畤先加入通量（2）之水，再加入所需CrO3最彳爰再加H2SO4。假如槽壁之TiO2金屯化膜被食虫去，Ti |IJ被熟H2SO4攻擎，故祷充H2S

38、O4畤需速高隹 槽壁。只有在氧化剜存在的埸合Ti金塔才曾被氧化成有保作用之 TiO2金屯化膜，如CrO3 的祷充。15熟制粗化槽鹰防止除趣漏ft （Stray Current）否刖曾破壤金屯化膜。安装隔函呆M永久防止此一不良（Anodic Protection） 0164&及合金加热材不得使用尤其在液界面虑曾便先被腐食虫。PTFE焉一逾用材料，但鹰避免破揖，否JW曾稀WA化液和络酸汗染加热系统。17空氟授拌管需用血照造管，1-3mm直彳SS拌孔。授拌要能使槽液於加熟器面 足别流勤以碓保均温或防止局部谩熟。18粗化速率：0.8-2.0 mg/平方英时（爰特楝型ABS官式片）均匀焉中度空SOS拌表

39、面?M力：40连因/平方公分槽温：68 土 CCr+3： 15克/升（因ABS品牌做湖整）1遢原粗化彳爰残留之六路悬三路,以使水洗更完全或避免六路危害彳爰流程。2每日分析1次，以9339祷充浸度，以37%亶酸未甫充酸度。中和3Macuplex9339(19339)3%38-42 C, 0.5-2 分酸度0.3-0.4N4常活化槽中二金易累常降低畤可能悬六路带入所致，必i（立即分析中和渡度。5逋操作畤槽浴必须每而遇至四遇淘汰或重新建浴活化1使谩粗化的塑月蓼表面吸附上 Pd月蓼飕，以利下一程序之化孥沉稹。2每日分析1次，以D34C祷充Pd滤度，以L-78祷充二易滤度，以37%亶酸未甫充酸 度。3D

40、34C(19349)0.4-0.8%22-26 C, 2.5-4分L-78(19378)3.0-3.5 g/L酸度3.0-3.5N4封污染之容忍度：U高隹子:100ppm,硝酸根及硫：5ppm,路离隹子:100ppmHl1子及硝酸根及硫：主要来自於不之亶酸，曾醇致解月蓼，路高隹子：主要来自於中和不完全，曾蹲致漏及二金易昊常消耗5mill污染畤，不需淘汰，可持使用，但有件掉落畤，必i（立即措起或移槽取出加速1去除塑月蓼表面吸附上Pd月蓼醴外阐之金易，使Pd金JB直接裸露。2每日分析1次，以9369祷充渡度。3MACUPLEX ULTRACEL 9369(19369)60-75 g/L40-54

41、C , 0.5-5 分封污染之容忍度：铜离隹子76ppm|M高隹子70ppm,iS高隹子100Ppm谿离隹子1000Ppm（上列亲隹K1r醇致漏IS ）4逋操作畤槽浴必须每而遇至四遇淘汰或重新建浴化1於Pd金JB表面沉逋且醇ft性足狗之屑，以利彳爰氟1a8。2每日分析1次,以J64及J61祷充11度。3MACUPLEX J64(19309)(高隹子)4.1-4.9%22-28 C , 8-9 分MACUPLEX J64(19346)(次磷酸纲)2.7-3.3%PH 值8.8-9.0沉稹速率10-30仙inchs/9分金童阻抗30 Q /2.5公分4逋操作畤槽浴必须每遇移槽一次，六他1月淘汰1/

42、5槽新建浴1/5槽5封污染之咨忍度：Pd金H 5ppm,路离隹子5ppm,硝酸根25Ppm （上列SW路高隹子及硝酸根曾醇致漏, Pd金曾蹲致崩槽）1利用金JB18位之不同而於化上置换一均匀的铜屑,增力醇18性，以利彳拶酊S58浸铜2每日分析1次，以硫酸铜及98%硫酸祷充11度。3硫酸1.5-2.5%20-32 C , 0.5-1 分硫酸铜3-7 g/L4逋操作畤槽浴必须每而遇至四遇淘汰或重新建浴十五、各甯槽日常管理和祷充打底铜1沉稹铜屑，增加工件低H流隔域则厚度及厚18性。2每日分析1次，以硫酸铜、硫酸（98%）及亶酸（37%,!级并甫充主亶渡度。3每日打哈氏片2次，以CuMac9200Ma

43、ke up及CuMac9200B调整则至不燎焦即可4硫酸铜105-120 g/L24-26 C, 3-5 分金童硫酸(98%)105-120 g/L氯高隹子35-60 ppm(37%B酸0.0026ml/L可上升1ppm氯高隹子)CuMac9200Make up(P2019) 2-2.5ml/LCuMac9200B(P2021) 0.4-0.6ml/L绍重流密度0.4-1.5ASD(平方公寸)2-3V速率0.2-0.25m/分金童(1ASD)添加剜消耗量CuMAC 9200 B200 ml / 1000安培小畤CuMac9200Make up带出消耗,视工件之形状而有所不同5祷充主亶须於生外以

44、水溶解，由谩滤械泵入槽6湖整添加剜浙E空槽畤稀释5倍均匀加入7每三他月更换全新隔趣滤袋，或检查是否结晶8每月更换5 m滤心9每2天更换鼓WS滤棉（内外唇均需更换）10每日祷充随趣磷铜球，或注意是否有裸空现象11每日检查测g楣魅力是否小於1Kg/c itf4每2小序睾放内部残留空氟12每2小畤梅T查液位、液温及空氟JS拌是否均匀Page 190f 35酸性光1沉稹光亮、平整之金JBAWW，以增加件表屑之美K、典柔软度。2每日分析1次，以硫酸铜、硫酸（98%）及亶酸（37%,!级并甫充主亶渡度。3每日打哈氏片 2 次，以 CuMac9200Make up、CuMac9200A 及 CuMac920

45、0B调整唇至/、燎焦、瓢麻黑占、瓢白霜、（粒、平整全光亮即可4硫酸铜200-220 g/L22-26 C, 15-30分金童(视厚度之要求而定)硫酸(98%)65-75 g/L氯高隹子70-90 ppm (37%酸0.0026ml/L可上升1ppm氯高隹子)CuMac9200Make up(P2019) 4ml/LCuMac9200A(P2020)0.8ml/LCuMac9200B(P2021)0.3ml/L重流密度2-5 ASD(平方公寸)2-3V速率0.6-0.7Nm/分金童(3ASD)添加剜消耗量CuMAC 9200 A80 ml /1000安培小畤CuMAC 9200 B80 ml /1000 安培小畤CuMac9200Make up带出消耗,视工件之形状而有所不同5祷充主亶须於生外以水溶解，由谩滤械泵入槽6湖整添加剜浙E空槽畤稀释5倍均匀加入7每三他月更换全新隔趣滤袋，或检查是否结晶8每月更换全新5 pm滤心9每2天更换鼓WS滤棉（内外唇均需更换）10每日祷充随趣磷铜球，或注意是否有裸空现象11每日检查测g楣魅力是否小於1Kg/c itf4每2小序睾放内部残留空氟12每2小畤梅T查液位、液温及空氟JS拌是否均匀氟化铜1沉稹铜屑，增加工件低H流隔域则厚度及厚18性。2每日分析1