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文档简介

1、PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 1(2) 屏蔽效应和化学位移 对相同的核来说,为常数,在一个有机分子中的全部氢质子在同 一磁场强度下吸收应只有一个信号: r 旋 磁比常数, r = 26753 n 屏蔽效应 在外加磁场的作用下 电子环流 在环流中产生了 感应磁场 感应磁场 使质子产生 对抗磁场 (方向与外界磁场方 向相反 ) 实际质子所感受到的磁场强 度减弱了 质子受到 屏蔽作用 但实际不是这样, 例如: CH3CH2OCH2CH3 在图谱上就是两个吸收峰。 质子所感受到的磁场强度: Hi Ho- H感 应 no shielded nuclei ? shilded

2、 nuclei 核所感受到的实际磁 场 Hi 小于外磁场 电子环流 屏蔽效应 感应磁场与外 磁场方向相反,质子感受到的 有效磁场(H有效)要比实际外 加磁场强度(HO)小。 感应磁场 有机化合物分子中,与不同基团相连的H周围电子云密度不一样,在 外加磁场中产生的抗磁的感应磁场大小不同,因此,发生共振所需的 外加磁场强度或射电频率也就不同. 例: 质子 Cl Cl-CH2-C-CH3 Cl 1,2,2-三氯丙烷 + 屏蔽区 H/ HO 质子周围电子云密度 ,感应磁场 ,屏蔽效应在高场共振 质子周围电子云密度 ,感应磁场 ,屏蔽效应在低场共振 质子周围电 子云密度越 高,屏蔽作 用就越大, 该质子

3、信号 就要在越高 的磁场下获 得。 低场 高场 n 化学位移值 n 各种典型的质子化学位移 = 样品 TMS 仪器所用频率 6 10 标准化合物TMS的值为0。 化学位移值的大小用一个标准化合物为原点,测出峰与原点的距 离,就是该峰的化学位移,一般以(CH3)4Si(TMS)为标准化合物。 不同频率的核磁共振仪上测得的化学位移值相同. 值与屏蔽作用成反比,值越大表明H所受到屏蔽作用越小。吸 收峰出现在低场。 质子周围电子云密度 ,感应磁场 ,屏蔽效应在高场共振,值 质子周围电子云密度 ,感应磁场 ,屏蔽效应在低场共振,值 PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 2 PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 3PDF 文件使用 pdfFactory Pro 试用版本创建 4乙苯 1,1-二溴乙烷 2-甲基 -1-丁烯 2-溴丙烷 二乙胺 核磁共振氢谱实例分析 C6H5CH2CH2OOCCH3 a b c d a d c b PDF 文件使用 pdfFactory Pr

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